기본 정보
| 부스 | T9110 |
| 국가 | CN |
| 웹사이트 | yuanxinbandaoti.netlify.app |
회사 소개
Zhejiang Yuanxin Advanced Material Co., Ltd.는 반도체 챔버 내부 핵심 부품과 완전한 통합 솔루션의 연구개발 및 생산에 집중하는 첨단기술 기업으로, 저장성 자싱시 하이닝의 장강삼각주 반도체 산업 집적지에 위치합니다. 회사는 2021년 6월 4일 설립되었으며 8,000제곱미터가 넘는 공장 면적, 5,000만 위안 이상의 투자, 170명의 팀을 갖추고 있습니다. 핵심 팀은 국내 유명 반도체 OEM 업체 출신으로 반도체 부품 제조 분야에서 15년 이상의 경험을 보유합니다. 회사는 Ceramic, Quartz, Silicon의 세 가지 핵심 소재 국산화 대체에 집중하며 제품은 Etch, CVD, PVD, Diffuse 등 주요 반도체 공정 장비에 사용됩니다. Sapphire, AlN, SiC, PI, ZrO₂, 가공성 세라믹, 전도성 세라믹, PEEK 부품도 가공할 수 있으며 다중 소재 원스톱 정밀 제조를 제공합니다. 핵심 설비에는 정밀 MC, CNC 연삭기, class 100/class 1000 세정 라인이 포함되며 공장에는 생산 작업장과 클린룸 시설이 있고 성형, CNC 가공, 연삭, 연마, 소결, 세정, 검사를 포괄합니다. Etch 장비용으로 챔버 커버, 마스킹 링, 돔, 로봇 부품, 노즐을 공급하고, CVD용으로 고순도 석영 및 세라믹 챔버 부품을, PVD용으로 실리콘 샤워헤드 전극과 폴리실리콘 배기 팬/링을, Diffuse, 에피택시, RTP용으로 석영 퍼니스 튜브, 석영 보트, 에피택시 벨자, 보온통을 공급합니다. 회사는 국가 High-Tech Enterprise로 인정되었고 공업정보화부의 기술형 중소기업 평가를 통과했으며 저장성 혁신형 중소기업 명단에 선정되었습니다. 회사가 제시하는 가치는 인간 중심, 탁월성 추구, 품질 우선, 안전 우선이며 직원 성장, 제품 정밀도와 신뢰성, 엄격한 공정 관리, 안전 생산을 중시합니다. Zhejiang Yuanxin Advanced Material Co., Ltd.는 반도체 제조 응용을 위한 핵심 부품과 완전한 통합 솔루션을 공급합니다.
전시 제품
Ceramic 부품은 식각 시스템, 이온 주입기, 박막 기상 증착 장비, 원자층 증착 장비에 적용되고, Quartz 부품은 식각, 에피택시, 확산, 급속 열처리 시스템에 사용되며, Silicon 부품은 식각 및 에피택시 장비에 적용됩니다. 반도체 Etch 및 CVD 챔버 핵심 위치용 세라믹 부품은 높은 플라즈마 저항성, 유전 강도, 내식성, 순도 및 신뢰성을 중시해 설계됩니다. Ceramic Window는 RF 또는 마이크로파 에너지를 플라즈마 식각 챔버로 전달하며 RF/마이크로파 주파수에서 낮은 손실 탄젠트와 높은 투과율을 갖고 플라즈마 식각 환경에 견디며 대기 플라즈마 알루미나 코팅 또는 AD 알루미나 코팅을 지원합니다. Cover Ring / Liner는 웨이퍼 가장자리를 덮고 챔버 부품을 보호하며 6인치, 8인치, 12인치 규격을 제공하고 ARC 알루미늄 용사면을 적용할 수 있습니다. Ceramic Dome은 증착 장비에서 깨끗하고 불활성이며 보호된 챔버 환경을 만드는 데 사용되고, Baffle / Nozzle은 가스 유량을 제어해 식각 챔버에 균일하게 분산하도록 설계됩니다. Blade / Finger / Robot 세라믹 핸들링 부품은 대기 또는 진공 환경에서 웨이퍼를 접촉 또는 비접촉 방식으로 처리하고 이동하는 데 사용되며 치수 정밀도, 열 안정성, 매끄럽고 내마모성인 지지면, 정전기 방지 요구를 중시합니다. 맞춤형 세라믹 구조 부품은 고객 장비 모델과 공정 요구에 따라 정밀 가공할 수 있습니다. Quartz 부품은 순도, 기포 혼입, 표면 금속 및 입자 오염을 관리하며 에피택시용 제품에는 고온 변형 저항성을 가진 석영 벨자와 라이너 링이 포함되고 확산/RTP용 제품에는 높은 순도와 열 안정성이 요구되는 석영 퍼니스 튜브, 석영 보트, 석영 보온통 및 기타 석영 부품이 포함됩니다. Silicon 부품은 높은 플라즈마 내성과 낮은 금속 오염을 위해 고순도 단결정 또는 다결정 실리콘을 사용하며 가스 분배용 샤워헤드 전극, 유동 유도와 챔버 보호용 폴리실리콘 배기 팬/링, 순도 99.9999% 이상으로 식각 장비 가장자리 보호와 밀봉에 사용하는 고순도 단결정 실리콘 링을 포함합니다. Ceramic, Quartz, Silicon 외에도 Sapphire, AlN, SiC, PI, ZrO₂, 가공성 세라믹, 전도성 세라믹, PEEK으로 맞춤형 부품을 제작할 수 있습니다. 맞춤형 서비스 과정은 요구사항 소통, 솔루션 설계와 견적, 지속적인 소통을 포함한 정밀 제조, 검수 시험과 지속적인 기술 지원을 포괄합니다. 회사는 확산 공정용 Quartz 부품도 공급합니다.
역량 및 제품
- 세라믹 챔버 커버(산화알루미늄 코팅 선택 가능)
- 6/8/12인치 세라믹 커버 링
- 6/8/12인치 세라믹 라이너 링
- 증착 장비용 세라믹 돔
- 식각 장비용 세라믹 가스 노즐
- 세라믹 웨이퍼 이송 블레이드 및 핑거
- 맞춤형 세라믹 구조 부품 정밀 가공
- 식각 장비용 석영 부품
- 에피택시 공정용 석영 벨 자
- 에피택시 공정용 석영 라이너 링
- 확산 공정용 석영 노관
- 확산 공정용 석영 보트
- 확산 공정용 석영 보온통
- RTP 장비용 석영 부품
- 반도체 식각용 실리콘 샤워 헤드 전극
- 반도체 챔버용 다결정 실리콘 배기 팬(C-Shroud)
- 반도체 챔버용 다결정 실리콘 배기 링
- 식각 장비용 단결정 실리콘 링(순도 ≥99.9999%)
- 사파이어 부품 정밀 가공
- 질화알루미늄(AlN) 부품 정밀 가공
- 탄화규소(SiC) 부품 정밀 가공
- PI 부품 정밀 가공
- 산화지르코늄(ZrO₂) 부품 정밀 가공
- 절삭 가공용 세라믹 부품 정밀 가공
- 전도성 세라믹 부품 정밀 가공
- PEEK 부품 정밀 가공
- 반도체 부품 CNC 가공
- 반도체 부품 연삭 가공
- 반도체 부품 폴리싱 가공
- 반도체 부품 소결
- Class 100/1000 환경에서의 반도체 부품 세정
- 반도체 부품 성형 가공
- 식각 장비용 세라믹 가스 배플
- 이형 석영 부품 화염 가공