浙江圓芯半導體材料有限公司

SEMICON Taiwan 2026 參展廠商 · 攤位 T9110

攤位 T9110國別 CN20 個產品主題
展會資訊

基本資料

攤位T9110
國別CN
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公司簡介

浙江圓芯半導體材料有限公司是一家專注於半導體腔室內關鍵零組件及成套整合解決方案研發與生產的高新技術企業,位於浙江嘉興海寧的長三角半導體產業集群。公司成立於 2021 年 6 月 4 日,廠區面積超過 8,000 平方公尺,投資超過 5,000 萬元,團隊規模 170 人。核心團隊來自國內知名半導體 OEM 廠商,擁有 15 年以上半導體部品製造經驗。公司聚焦 Ceramic、Quartz、Silicon 三大核心材料的國產化替代,產品應用於 Etch、CVD、PVD、Diffuse 等主流半導體製程設備。公司亦可加工 Sapphire、AlN、SiC、PI、ZrO₂、可加工陶瓷、導電陶瓷與 PEEK 零件,提供多材質一站式精密製造。核心設備包括精密 MC、CNC 磨床與 100 級/1000 級清洗線,廠區設有生產車間與潔淨室設施,製程涵蓋成形、CNC 加工、磨床、拋光、燒結、清洗與檢測。Etch 設備用零件包括腔室蓋、遮掩環、圓頂、機械手零件與噴嘴;CVD 供應高純石英與陶瓷腔室零件;PVD 供應矽材料噴淋頭電極與多晶矽排氣扇/環;Diffuse、磊晶與 RTP 則供應石英爐管、石英舟、磊晶鐘罩與保溫桶。公司獲認定為國家高新技術企業,通過工信部科技型中小企業評價,並入選浙江省創新型中小企業名錄。公司主張以人為本、追求卓越、品質至上與安全為先,並著重員工發展、產品精度與可靠性、嚴格製程管控及安全生產。浙江圓芯半導體材料有限公司供應半導體製造應用所需的關鍵零組件與完整整合解決方案。

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展出產品

Ceramic 零組件適用於蝕刻系統、離子植入機、薄膜氣相沉積設備與原子層沉積設備;Quartz 零組件用於蝕刻、磊晶、擴散與快速熱處理系統;Silicon 零組件則應用於蝕刻與磊晶設備。半導體 Etch 與 CVD 腔室關鍵位置的陶瓷零件著重高抗等離子體性、介電強度、耐腐蝕性、純度與可靠性。Ceramic Window 用於將 RF 或微波能量傳入等離子體蝕刻腔室,在 RF/微波頻率具有低損耗正切與高透射率,可抵抗等離子體蝕刻環境,並支援大氣等離子氧化鋁塗層或 AD 氧化鋁塗層。Cover Ring / Liner 覆蓋晶圓邊緣並保護腔室組件,提供 6 吋、8 吋與 12 吋規格,並可採 ARC 鋁熔射表面。Ceramic Dome 用於沉積設備中建立潔淨、惰性且受保護的腔室環境;Baffle / Nozzle 則用於控制氣體流速並將氣體均勻分散至蝕刻腔室。Blade / Finger / Robot 陶瓷搬運零件用於大氣或真空環境下晶圓的接觸/非接觸處理與移動,著重尺寸精確、熱穩定、平滑耐磨支點表面與防靜電需求。客製陶瓷結構件可依客戶設備型號與製程要求進行精密加工。Quartz 零件對純度、氣泡夾雜物及表面金屬與顆粒污染進行管控;磊晶產品包括具抗高溫變形特性的石英鐘罩與襯環;擴散/RTP 產品包括石英爐管、石英舟、石英保溫桶與其他要求高純度及熱穩定性的石英零件。Silicon 零件採高純單晶或多晶矽製造,以提供等離子體耐受性與低金屬污染,包括用於氣體均勻分布的噴淋頭電極、用於導流與保護腔室的多晶矽排氣扇/環,以及純度至少 99.9999%、用於蝕刻設備邊緣保護與密封的高純單晶矽環。除 Ceramic、Quartz、Silicon 外,也可用 Sapphire、AlN、SiC、PI、ZrO₂、可加工陶瓷、導電陶瓷與 PEEK 製作客製零件。客製服務流程涵蓋需求溝通、方案設計與報價、持續溝通的精密製造,以及驗收測試與持續技術支援。公司亦供應擴散製程用 Quartz 零組件。

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能力與產品項目

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