基本資料
| 攤位 | L0017 |
| 國別 | TW |
| 網站 | www.wpic.com.tw |
公司簡介
呈睿國際股份有限公司（WPIC）主要從事半導體電漿產生設備與電漿電源設備的銷售及服務，並為半導體客戶提供技術支援與完整電漿系統解決方案。公司表示具備半導體製程與電漿應用專業、創新研發能力，以及以電漿應用技術取得的多項專利。先進 Arcing 偵測及防治技術可支援 8 吋與 12 吋 Etching、CVD、PVD 製程的良率改善。服務範圍包括半導體 RF 電漿功率監控、半導體電漿腔體監控，以及 remote plasma 應用於 PECVD 腔體清潔。另列有 PVD 製程 Arc 監控、半導體 RF matcher 最佳化與故障檢知、半導體關鍵組件國產化與改良專案，以及 Monochromator、H.O.T Pack、Endpoint PC 等 Optical endpoint detector 的翻新維修。WPIC 亦將業務描述為半導體電漿電源系統的銷售、維護與效能升級。公司提供先進電源模組與工程技術服務，協助全球晶圓廠延長設備壽命、降低能源消耗並提升製程穩定性。當原廠停止支援或維修成本過高時，可從日常保養到高效節能模組升級提供替代方案，以優化既有資產而不必全面汰換設備。公司表示相關方案可降低整體擁有成本（TCO）、節省 20–80% 電力消耗並提升系統稼動率與製程穩定性。WPIC 與 Virginia Tech、National Chiao Tung University（NCTU）及 National Formosa University（NFU）合作研發新世代電漿電源模組。其目標是協助晶圓廠充分發揮既有系統效能，讓客戶專注於製程創新與良率提升。
展出產品
WPIC 的半導體電漿電源系統為電漿製程提供穩定且高效的電能輸入，以支援製程可靠性與一致性。系統可精確控制電漿參數，以支援半導體製造的製程穩定性與產品良率。WPIC 專家可透過功率之外的電壓、電流與頻率調節電漿特性，以滿足複雜的先進製程需求。電源系統被描述為具有高穩定性與精準輸出控制，可提供精準且高重現性表現，降低製程變異並提升產品一致性。先進數位控制、Pulse 控制與 Arcing 偵測可快速回應先進製程的複雜要求。系統亦提供多種輸出模式與參數設定，以配合不同製程需求。節能設計採用最新電力電子元件技術與高頻開關技術，以提升系統能效並降低能源使用與排放。除了電漿電源系統本身，服務內容包括半導體 RF 電漿功率監控與半導體電漿腔體監控。Remote plasma 的 PECVD 腔體清潔與 PVD 製程 Arc 監控也屬於製程改善能力。RF 供電方面，公司提供半導體 RF matcher 最佳化設定與故障檢知。光學終點系統方面，WPIC 提供 Optical endpoint detector 的 Monochromator、H.O.T Pack 與 Endpoint PC 翻新維修。整體供應將電漿電源供應與升級、功率與腔體監控、腔體清潔、Arc 控制、RF matching 最佳化、endpoint-detector 維護及工程支援整合，用於半導體製程穩定性與良率提升。
能力與產品項目
- 半導體電漿產生設備銷售與服務
- 半導體電漿系統技術支援
- 8／12吋Etching、CVD、PVD Arcing偵測控制
- 半導體RF電漿功率監控
- 半導體電漿腔體監控
- PECVD遠端電漿腔體清潔
- PVD製程Arc監控
- 半導體RF匹配器最佳化與故障檢知
- 半導體關鍵組件國產化與改良
- Optical endpoint detector翻新維修
- 半導體電漿電源維護與效能升級
- 功率／電壓／電流／頻率電漿調控