기본 정보
| 부스 | J3353 |
| 국가 | TW |
| 웹사이트 | www.waferworks.com/en |
회사 소개
Wafer Works Corporation은 1997년에 설립되었으며 고객 중심의 반도체 소재 솔루션 공급업체로 사업을 전개합니다. 대만에 본사를 두고 실리콘 웨이퍼와 관련 반도체 소재의 연구개발, 제조, 판매에 집중합니다. 회사는 세계 시장에 반도체 실리콘 웨이퍼를 공급하며 고객에게 고품질 제품과 서비스를 제공하는 것을 강조합니다. 주요 사업은 반도체 기판 소재, 특히 실리콘 웨이퍼이며 하류 소자 제조가 중심 사업은 아닙니다. 소재 전문성과 결정 성장에서 에피택셜 증착까지 이어지는 통합 기술을 결합해 소자 요구와 고객 응용에 맞는 제품을 제공합니다. 12인치, 300 mm 웨이퍼 생산 능력 확대에는 Erlin 공장 투자가 포함되며, 2026년에 이 공장에서 첫 결정 잉곳을 생산한 것으로 보고되었습니다. 기술 개발에서는 자체 기술 축적과 웨이퍼 치수 개발의 효율화를 중시해 연구와 혁신 기간을 줄이고 목표 시장에 신속하게 진입하는 것을 지향합니다.
전시 제품
Wafer Works Corporation은 다양한 도핑 조건의 12인치 이하 연마 웨이퍼, 에피택셜 웨이퍼, 양면 연마 웨이퍼, 래핑 웨이퍼, 식각 웨이퍼, 초후막 웨이퍼, 초박형 웨이퍼, SOI 웨이퍼를 공급합니다. 맞춤형 웨이퍼 서비스도 제공하며 소자와 최종 응용 요구에 맞춰 소재와 생산 기술을 조합합니다. 8인치 제품은 부품과 응용 범주에 따라 제품 구성을 나누며 다른 크기의 웨이퍼에도 유사한 제품 구성을 제공합니다. 특정 응용에는 초저저항률부터 초고저항률까지의 연마 웨이퍼와 N형 또는 P형 에피택셜, SOI 선택지를 제공해 MEMS, 전력 MOSFET, PMIC 등에 대응합니다. 전력 소자용은 저저항률 또는 초저저항률 연마 웨이퍼와 N형 또는 P형 에피택셜을 사용해 전력 MOSFET, BJT, 다이오드, 사이리스터, IGBT, CoolMOS, 슈퍼정션 소자 등에 대응합니다. 이미징 응용에는 저저항률 연마 웨이퍼와 N형 또는 P형 에피택셜을 제공해 이미지 센서와 CIS에 사용합니다. 아날로그 응용에는 경도핑 연마 웨이퍼와 N형 또는 P형 에피택셜을 사용해 LED 드라이버와 PMIC에 대응합니다. 로직 응용에는 경도핑 연마 웨이퍼와 N형 또는 P형 에피택셜을 적용해 표준 로직 IC와 ASIC을 지원합니다. RF 응용 제품에는 초고저항률 연마 웨이퍼, N형 또는 P형 에피택셜, SOI 선택지와 GaN 에피택셜 성장 준비가 된 연마 웨이퍼가 포함됩니다. 기술 플랫폼은 결정 성장, 웨이퍼 가공, 에피택셜 기술 전반을 포함해 결정 성장 단계부터 에피택셜 증착까지 통합 역량을 구성합니다. 결정 성장 기술에는 열장 설계, 제어 시스템 설계, 결정 성장 시뮬레이션, 고도핑을 이용한 초저저항률 결정 성장, 경도핑을 이용한 초저결함 결정 성장, 고저항률 저산소 결정 성장, 다원소 도핑 결정 성장 기술이 포함됩니다. 웨이퍼 기술에는 웨이퍼 응력 제어, 양면 연마, 웨이퍼 후면 코팅, 열처리, 웨이퍼 본딩이 포함됩니다. 에피택셜 기술에는 다층 에피택셜, 초후막 에피택셜, 매립층 에피택셜, 이종 에피택셜 기술이 포함됩니다. 이러한 역량을 통해 전력, 이미징, 아날로그, 로직, RF, MEMS 등 반도체 소자 요구에 맞춰 실리콘 웨이퍼 소재를 구성할 수 있습니다. 전체 제품군은 표준 웨이퍼 범주, 응용별 저항률과 도핑 조건, 에피택셜과 SOI 선택지, GaN 성장 준비 연마 웨이퍼, 맞춤형 웨이퍼 서비스를 하나의 반도체 소재 플랫폼으로 결합합니다.
역량 및 제품
- 연마 실리콘 웨이퍼
- 에피택셜 웨이퍼
- 양면 연마 웨이퍼
- 래핑 웨이퍼
- 에칭 웨이퍼
- 초후·초박 웨이퍼
- SOI 웨이퍼