기본 정보
| 부스 | M1254 |
| 국가 | TW |
| 웹사이트 | www.uvat.com |
회사 소개
UVAT는 2002년에 설립되었으며, 진공 기술 분야에서 다년간의 경험을 보유한 전문가들로 구성되어 물리적 기상 증착(PVD) 및 건식 식각(ICP 、 RIE 、 Ion bean 、 Micro wave)의 설계와 개발에 지속적으로 참여하고 있습니다. 당사는 새로운 플라즈마 기술을 지속적으로 개발하고 있으며, 고객과 함께 새로운 응용 분야, 박막 특성 및 하드웨어 개발도 연구합니다. UVAT는 샘플 제공, 양산 시스템 기획, EFEM 설계 및 기능 개선을 위한 장비 개조를 포함한 종합 서비스를 제공할 수 있습니다. 또한 UVAT는 고객에게 종합 서비스를 지원하는 자체 애프터서비스 팀을 보유하고 있습니다. 필요 시 스퍼터링 장비와 코팅 OEM 서비스도 제공합니다. UVAT의 전문 기술은 5G 통신, PCB, IC Substrate, Semiconductor, IC Package, Tablets NB, Smart, 자동차 부품, LED 등 산업 분야를 포괄합니다.
전시 제품
고온 degas 스마트 루프 시스템 저온 PVD 스마트 모니터링 시스템 Pre-clean (전처리) 시스템 Particle 억제 시스템 티타늄-구리 플라즈마 코팅 기술 및 티타늄-구리 코팅 파라미터 최적화 플라즈마 건식 식각 공정 식각 재료: Cu, Ti, Ta, Si, SiO2,Pd.(각종 금속) 식각 재료: PP,PR,PMMA,ABF,Epoxy.(각종 폴리머) 기재: Wafer, Si, Glass, PP, PMMA, Cu.(각종 기재) 수직 연속식 플라즈마 식각 장비 플라즈마 디스미어 기술 플라즈마 잔류 접착제 제거 기술
역량 및 제품
- PVD 시스템 설계 및 개발
- 건식 식각 시스템 설계 및 개발
- EFEM 설계
- 장비 기능 개조
- 스퍼터링 장비 및 코팅 OEM 서비스
- 고온 degas 지능형 루프 시스템
- 저온 PVD 지능형 모니터링 시스템
- 티타늄·구리 플라즈마 코팅 및 파라미터 최적화
- 금속 플라즈마 건식 식각
- 플라즈마 디스미어 및 잔류 접착제 제거