基本情報
| ブース | M1254 |
| 国 | TW |
| 製品カテゴリ | Deposition; Physical Vapor (PVD); Sputtering; Evaporation Equipment · Etching; Stripping; Ashing - Dry and Wet Equipment |
| ウェブサイト | www.uvat.com |
会社概要
UVAT は 2002 年に設立された、真空技術の分野で長年の経験を持つ専門家集団であり、物理気相成長（PVD）およびドライエッチング（ICP・RIE・イオンビーム・マイクロ波）の設計・開発に継続的に取り組んでいます。当社は新しいプラズマ技術を絶えず開発し続けるとともに、お客様と共に新たな応用分野、薄膜特性、ハードウェア開発の研究を行っています。UVAT は、サンプル提供、量産システムの計画、EFEM 設計、機能向上のための設備改造を含む包括的なサービスを提供できます。さらに、UVAT はアフターサービスチームを擁し、お客様にフルサービスを提供します。必要に応じてスパッタリング装置やコーティングの OEM サービスも提供します。UVAT の専門技術が対象とする産業分野には、5G 通信、PCB、IC 基板、半導体、IC パッケージ、タブレット・ノート PC、スマートデバイス、自動車部品、LED などが含まれます。
対応領域・製品
- EFEM 設計
- ICP、RIE、ion beam、microwave 向けドライエッチング設計および開発
- Physical Vapor Deposition (PVD) の設計および開発
- コーティング OEM サービス
- スパッタリング装置
- プラズマ技術開発
- 機能改善向け装置改造
- 薄膜特性研究
- 量産システム計画