基本資料
| 攤位 | M1254 |
| 國別 | TW |
| 產品分類 | Deposition; Physical Vapor (PVD); Sputtering; Evaporation Equipment · Etching; Stripping; Ashing - Dry and Wet Equipment |
| 網站 | www.uvat.com |
公司簡介
UVAT 成立於 2002 年，是一群在真空技術領域擁有多年經驗的專家團隊，持續投入物理氣相沉積（PVD）與乾式蝕刻（ICP、RIE、離子束、微波）的設計與開發。我們不斷持續開發新的電漿技術，並與客戶共同研究新的應用領域、薄膜特性與硬體開發。UVAT 能提供完整的服務，包括樣品提供、量產系統規劃、EFEM 設計，以及為提升功能而進行的設備改造。此外，UVAT 擁有售後服務團隊，為客戶提供全方位服務。必要時我們也提供濺鍍設備與鍍膜 OEM 服務。UVAT 的專業技術涵蓋的產業領域包括 5G 通訊、PCB、IC 載板、半導體、IC 封裝、平板與筆電、智慧裝置、汽車零件、LED 等。
能力與產品項目
- EFEM 設計
- ICP、RIE、ion beam 與 microwave 乾式蝕刻設計與開發
- Physical Vapor Deposition (PVD) 設計與開發
- 功能改善用設備改造
- 濺鍍設備
- 薄膜特性研究
- 量產系統規劃
- 鍍膜 OEM 服務
- 電漿技術開發