基本情報
| ブース | P6206 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.trumpf-huettinger.com |
会社概要
TRUMPF Electronicsは1922年に設立され、ドイツのFreiburgに本社を置き、半導体、ディスプレイ、太陽エネルギー、産業用ガラスコーティング向けに、プラズマ電源、工業加熱、バッテリーインバータシステム、マイクロ波発生器・増幅器を展開しています。1990年からはTRUMPF Groupの一員であり、同グループは板金加工向けの多用途工作機械、産業用レーザ、産業用途エレクトロニクスを手がけています。100年以上の経験を基盤に、半導体製造の成膜とドライエッチング工程に重点を置いたプラズマ電源の開発・製造を専門としています。欧州、米州、アジアに販売・サービス子会社を展開し、産業用パワーエレクトロニクスとプラズマ技術を地域ごとに支援する体制を構築しています。TRUMPFは生産技術をさらに発展させてデジタル接続し、製造をより効率的、精密、将来対応型にすることを使命として掲げています。2023/24会計年度にはTRUMPF Groupの従業員数は約19,000人、売上高はEUR 5,2 billionでした。power electronics分野ではTRUMPF HüttingerがDC、MF、RF generatorsによりplasma applications、induction heating、CO2 laser excitationに必要な周波数と電力を供給し、製品カテゴリとしてPlasma Excitation、Generators for industrial heating、Microwave amplifiers、Invertersを展開しています。さらにrenewable energiesのエネルギー貯蔵向けinverterを提供し、プラズマ、加熱、マイクロ波電源に加えてバッテリー・エネルギー貯蔵変換も技術範囲に含めています。
展示製品
新世代RFプラズマ電源TruPlasma RF G3は高速パルスによってプラズマ生成と制御能力を高め、多段パルス技術で柔軟なプラズマ励起モードを提供し、内蔵高速サンプリングオシロスコープで電力、インピーダンス、位相、周波数の変化を監視して成膜・エッチング工程の監視、分析、最適化を支援します。TruPlasma Highpulse 4002 G2はHiPIMS電源技術で高密度プラズマを生成し、先端薄膜成膜と機能材料作製に対応し、高ピーク電力パルス励起によってスパッタ材料のイオン化率を高め、より高い緻密性、密着性、均一性を持つ成膜を支援します。TruMicro 6000シリーズは厳しい量産向けの産業用超短パルスレーザで、TruPulse nanoは超高精度と高い適応性を求めるインテグレータ向けレーザモジュールとして複数の構成オプションを提供します。TRUMPF Hüttingerのplasma generatorsはハイテク産業に必要なprocess stabilityを提供し、solar cellsとmicrochipsの機能性コーティング、大面積architectural glassのコーティング、semiconductor elements製造、flat screens生産を支援します。プラズマ励起製品はMF Plasma Excitation、DC Pulsed Plasma Excitation、DC Plasma Excitation、RF Plasma Excitation、microwave plasma generatorsをカバーし、コーティング、エッチング、スパッタリングなどのplasma processesに合わせて異なる電力・励起方式を使用できます。TruPlasma MW Series 1000 / 5000はsolid-state platform conceptで高いplasma densitiesを生成し、nano pulsesによって用途に合わせて多様なplasma parametersを設定します。TruPlasma Bipolar Series 4000 (G2.1)は柔軟に形成できるoutput signalsとarc managementを用いてsolar-cell、semiconductor生産、装飾・耐摩耗層、architectural-glass coatingを支援し、reactive sputtering、PVD、PECVDに適します。TruPlasma MF Series 7000 (G2)は大面積の高要求コーティング工程を制御し、peak efficiencies over 90%によりlayer quality、生産性、運転コストの両立を図ります。TruPlasma Highpulse Series 4000 (G2)は耐食・耐摩耗hard-material coatingsとHiPIMS用途向けで、polarized substratesと組み合わせることでsemiconductor trench filling、surface pretreatment、etchingにも対応します。TruPlasma DC Series 4000 (G2)はarc handlingとDC pulse technologyを組み合わせてコーティング欠陥を減らしdeposition rateを高め、TruPlasma DC Series 3000 (G2)はDC sputtering向けにprogressive arc management、integrated water cooling、compact designを採用して既存用途への統合を容易にします。TruPlasma Arc Series 3000はhard-materialおよびdecorative coatings向けで、compact air-cooled designにより新規・既存システムに統合できます。RF plasma excitationではTruPlasma RF 1001 Airが最大1000 wattsの高精度で再現性のあるRF energyを100 mW incrementsで提供し、semiconductor、solar-cell、displayなどのplasma applicationsに対応します。TruPlasma RF Series 1000 / 3000 (G2/13)はpatented CombineLine coupling technologyとprocess parametersのreal-time measurementを組み合わせて高要求plasma processesに対応し、TruPlasma RF Series 3000はgeneratorに適合したimpedance matchboxesとともにsemiconductor、photovoltaic-cell、flat-screen生産のefficiencyとprocess stabilityを重視します。TruPlasma VHF Series 3000はmodular、water-cooled platformによりoutput powerを80 kWまで拡張でき、TruPlasma Match Series 1000 (G2/13)はRF generatorとplasma processの間でimpedance matchingを行いTRUMPF RF systemを構成します。TruPlasma VHF Series 3000 platformはhigh power density、modular、purely water-cooled construction、compact robust designを備え、高要求工程向けにoutput powerを80 kWまで拡張できます。arbitrary-pulse機能はsingle-levelとmulti-levelのpulse shapesを高精度・高速に生成し、minimal ramp time < 150 nsを実現し、Smart Auto Frequency Tuningはgeneratorとmatchboxの相互作用を最適化します。高精度digital frequency modulationにより再現性の高いprocess controlを行い、CombineLine technologyによりmismatch時にもgeneratorを安定動作させ、工程変更時にRF cable lengthを再調整する必要をなくします。photovoltaic productionではVHF generatorsがsputtering、PECVD、etchingなどを支援し、fast arc managementでstable plasma controlを維持しながら電源を各工程に合わせます。semiconductor productionとflat-screen coatingではdry etching、reactive-ion etching（RIE）、atomic layer deposition（ALD）、plasma-enhanced chemical vapor deposition（PECVD）、RF sputteringに対応し、semiconductor components、MEMS、flat screens、solar cellsに利用されます。VHF modular platformは最大80 kW output power、wide frequency range、variable line voltage、cable lengthを通じて用途に適応し、LDMOS power transistorsと高度に統合されたplanar technologyによりpower density、energy efficiency、低いcooling-capacity requirementsを組み合わせます。VHF SystemPortはmatchbox inputとoutputのRF signalを直接測定し、その値をRF generatorに渡してclosed-loop control、process-parameter monitoring、matchbox protection、early arc detectionを行い、単一generator interfaceでRF system全体を制御します。VHFオプションにはtargeted arc management、flexible pulse shapes、patented Auto Frequency Tuning、稼働中のRF generatorまたはTRUMPF RF system全体を起動・安全監視するTruControl Power softwareがあります。VHF system componentsにはTruPlasma Match matchboxes、水・電気接続と同期用accessory kit、13.56 MHz設計を含むdigital frequency and phase synthesisのmaster oscillators、2つのpower classesで2、3、4 outputsを持つRF switches、50-ohm RF power transmission用coaxial cablesがあります。TruPlasma RF Series 1000 / 3000 (G2/13)は最新世代RF generatorsで、stable output powerとhigh control accuracyによって高生産性を要求するcoatingとsurface-structuring processesに安定し再現性の高いplasma current supplyを提供します。CombineLine technologyはtrue 50 ohm output impedanceとmismatch時のreflected-power protectionを提供し、process conditions変更時のRF cable lengths調整も不要にします。RF generatorsはefficiencies up to 80%を達成し、energy costsをup to 50%削減し、blower-free cooling solutionはambient airを加熱・汚染しないためclean roomsでも使用できます。用途はreactive-ion etching（RIE）、atomic layer deposition（ALD）、plasma-enhanced chemical vapor deposition（PECVD）、RF sputtering、semiconductor-componentとMEMS manufacturing、flat-screen coating、solar-cell coating、太陽産業のdemanding PECVD、etching、RF-sputtering processesに及びます。semiconductor productionではintelligent real-time matchingがimpedanceを迅速かつ直接50 ohmsに調整し、CombineLineでplasma fluctuationsとimpuritiesを防ぎ、blower-free cooling conceptでfailure occurrenceを減らしてclean-room operationを支援します。integration optionsはconfigurable analog interface、RS 232/485、DeviceNet、Profibus、EtherCATで、200-480 VAC ultra-wide-range power packsを内蔵し、19-inchまたは½-19-inch plug-in formatsでproduction systemsに省スペース統合できます。RF SystemPortはmatchbox input・outputでRF signalを測定するclosed-loop controlを行い、generatorに測定値を提供してprocess monitoring、matchbox protection、early arc detectionを改善し、単一generator interfaceでRF system全体を制御します。RF Series optionsには高速同時frequency tuningとgenerator-matchbox interaction向けpatented Auto Frequency Tuning、およびplasma processing中に製品とシステムを保護するtargeted arc detection向けRF arc managementがあります。RF systemはTruPlasma Match Series 1000 (G2/13) matchboxes、13.56 MHz設計を含むdigital frequency and phase synthesisのmaster oscillators、2つのpower classesで2、3、4 outputsを持つRF switches、RF power transmission用50-ohm coaxial cablesと組み合わせられます。Active matchboxesは複雑で変動するplasma loadを最適な50 ohms impedanceへ継続的に調整し、generatorとmatchboxはEtherCATを含むinterfacesでprocess environmentへ統合でき、SystemPortでインテリジェントに接続して連携したTRUMPF RF Systemを構成します。
対応領域・製品
- プラズマ電源の開発・製造
- 工業加熱用ジェネレータ
- マイクロ波増幅器
- バッテリーインバータシステム
- 高速パルスRFプラズマ電源
- HiPIMS高密度プラズマ電源
- 産業用超短パルスレーザ
- 高精度レーザモジュール
- 最大80 kWまで拡張可能なVHFプラズマジェネレータ
- RFプラズマ用インピーダンス整合器