기본 정보
| 부스 | P6204 |
| 국가 | TW |
| 웹사이트 | www.thalessystem.com.tw |
회사 소개
Thales System Corporation은 2010년에 설립되어 고객에게 고정밀 분석기의 더 많은 선택지와 서비스를 제공하는 것을 목표로 하며 지속적으로 변화하는 반도체 산업 요구에 맞춰 사업을 전개합니다. 회사는 기술 역량을 계속 개선하고 최적화 서비스를 제공하며 새로운 제품을 도입하는 동시에 Taiwan과 Shanghai에 실험실을 설립해 효율적인 서비스 품질을 유지한다고 설명합니다. 서비스 범위는 가스 분석기 판매, 교정, 유지보수, 가스 분석기 시스템 통합, 고순도 가스 정제 장비 판매와 유지보수, POU형 가스 정제기 판매와 재생, 가스 품질 분석, 가스 배관 품질 분석과 감독, 계측기 임대를 포함합니다. 또한 환경 모니터링, 산업 안전, 산업 공정 모니터링, 유해 화학물질 긴급 재난 대응을 위한 모니터링 장비와 시스템을 제공하고 전체 시스템 설계, 계장 배관 및 스테이션 시공, 각종 시스템 조립, 데이터 처리 시스템 통합 계획도 제공합니다. 회사 사이트의 프로젝트 사례로 Nanya Technology Corporation, Taiyo Nippon Sanso Corporation, Micron Taiwan, Air Liquide Far Eastern, TSMC, UMC가 제시됩니다.
전시 제품
가스 분석 기술은 tunable diode laser spectroscopy, 지르코니아 산소 분석, 적외선 가스 분석, 배기가스 분석, 먼지 모니터링, 가스 크로마토그래피, CEMS, 수소 순도 분석, 가스 밀도 시스템을 포함합니다. 명시된 분석기 제품은 Toray, PEAK FID, CIC FTIR, SEVOMEX DF-310E, DF-560E, DF-550E, AMETEK CG 1100, CG 1000, 5920, 5910입니다. 가스 정제기는 첨단 산업의 초고순도 공정 가스 공급과 일반 응용의 정제 가스 설비에 사용되어 공정 품질, 수율, 생산 효율을 지원합니다. 첨단 반도체 공정의 AMC 미세오염 모니터링 시스템은 PICARRO 분석기를 사용해 NH3, HF, HCl, VOC 등의 불순물을 상시 모니터링합니다. AMC 제품은 SI9110 VOC, SI5450 SO2, SI3401 HF NH3 HCl, SI2306 HF NH3, SI2205 HF, SI2108 HCl, SI2104 H2S, SI2103 NH3를 포함합니다. 회사는 ALD 첨단 공정 chemical solution과 계측 시스템 설계 및 조립 공사도 제공합니다. 시스템 엔지니어링은 전체 시스템 설계, 계장 배관 및 스테이션 시공, 각종 시스템 조립, 데이터 처리 시스템 통합 계획을 포함합니다. 배관 QA/QC는 완전 자동 orbital welding과 엄격한 초고순도 시공 및 QA/QC 절차를 적용하고 헬륨 누설, 수분, 산소, 입자, 기타 요구되는 기상 불순물 시험을 수행합니다. 현장 가스 샘플링과 시료 분석, 가스 배관 품질 분석과 감독, 가스 품질 분석도 제공합니다. 계약 유지보수는 소규모 계측기 조정과 교정부터 대규모 수리까지 계약 범위에 따라 지원합니다. 분석기 판매 및 교정, 정제 장비, POU purifier regeneration, AMC monitoring, piping QA/QC, system engineering, data integration이 함께 반도체 공정 가스 품질과 미세오염 제어를 위한 서비스 체인을 구성합니다.
역량 및 제품
- 가스 분석기 판매·교정·유지보수
- 가스 분석기 시스템 통합
- 고순도 가스 정제 장비 판매·유지보수
- POU형 가스 정제기 판매·재생
- 가스 품질 분석
- 가스 배관 품질 분석 및 품질 감독
- AMC 미세오염 방지 모니터링 시스템
- ALD 공정용 N2H4 환원제 가스 공급 시스템
- 계측 시스템 설계 및 조립 엔지니어링
- 배관 QA/QC 엔지니어링 및 현장 가스 샘플링 분석
- 분석기 계약 유지보수