基本情報
| ブース | P6204 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.thalessystem.com.tw |
会社概要
Thales System Corporationは2010年に設立され、高精度分析計について顧客により多くの選択肢とサービスを提供することを目的とし、変化し続ける半導体産業の要求に対応しています。分析技術と応用技術のスキル向上を継続し、顧客ごとの最適化サービスを提供するとともに、新製品の導入だけでなくTaiwanとShanghaiの両地域にラボを設置し、効率的で継続的なサービス品質を維持するとしています。サービスには各種ガス分析計の販売、調整を含む校正、継続保守、ガス分析計システムの統合、高純度ガス精製装置の販売と保守、POU型ガス精製器の販売と再生、ガス品質分析、ガス配管の品質分析と品質監督、計測器レンタルが含まれます。環境監視、産業安全、工業プロセス監視、有害化学物質の緊急災害対応向けに監視機器とシステムを提供し、システム設計、計装配管、ステーション施工、各種システム組立、データ処理システム統合計画も行います。会社サイトの実績例には南亞科技、大陽日酸、台灣美光、亞東、台積電、聯華電子が挙げられています。
展示製品
ガス分析技術には、tunable diode laser spectroscopy、ジルコニア酸素分析、赤外ガス分析、排ガス分析、粉塵監視、ガスクロマトグラフィー、CEMS、水素純度分析、ガス密度システムがあります。製品名としてToray、PEAK FID、CIC FTIR、SEVOMEX DF-310E、DF-560E、DF-550E、AMETEK CG 1100、CG 1000、5920、5910が挙げられています。ガス精製器はハイテク産業の超高純度プロセスガス供給や一般用途の精製ガス設備に用いられ、プロセス品質、歩留まり、生産効率を支援します。先端半導体プロセス向けAMC微汚染監視では、PICARRO分析計でNH3、HF、HCl、VOCなどを常時監視します。AMC製品にはSI9110 VOC、SI5450 SO2、SI3401 HF NH3 HCl、SI2306 HF NH3、SI2205 HF、SI2108 HCl、SI2104 H2S、SI2103 NH3があり、半導体先端工程における多様な各種不純物の監視用途に対応します。ALD先端プロセスchemical solutionと計測システム設計・組立工事も提供範囲に含まれます。システムエンジニアリング工事は、全体システムの設計計画、計装配管工事、ステーション設備の施工、各種システムの組立、データ処理システムの統合計画を含みます。配管QA/QCでは全自動軌道溶接と厳格な超高純度施工・QA/QC手順を採用し、ヘリウムリーク、水分、酸素、粒子、その他要求される気相不純物を試験します。現場でのガスサンプリングと採取試料の分析、ガス配管の品質分析と品質監督、プロセスおよび供給系統を確認するためのガス品質分析も実施します。契約保守では、分析計の小さな調整・校正から大規模な修理作業まで、あらかじめ定めた契約内容に応じて必要な対応を提供します。分析計、精製、POU再生、AMC監視、配管QA/QC、システム工事、データ統合を組み合わせ、半導体プロセスガス品質と微汚染管理を支援します。
対応領域・製品
- ガス分析計の販売・校正・保守
- ガス分析計システム統合
- 高純度ガス精製装置の販売・保守
- POU型ガス精製器の販売・再生
- ガス品質分析
- ガス配管品質分析・品質監督
- AMC微量汚染防止監視システム
- ALD向けN2H4還元剤ガス供給システム
- 計装システム設計・組立エンジニアリング
- 配管QA/QC工事・現場ガスサンプリング分析
- 分析計の契約保守