基本資料
| 攤位 | S7133 |
| 國別 | CN |
| 網站 | www.supermag.com |
公司簡介
蘇州蘇磁智能科技有限公司以先進磁浮技術為基礎，研發高階磁浮無軸承設備，為半導體、生物製程、化工、能源與超高真空應用提供高潔淨、低剪切解決方案。核心產品家族包括磁浮無軸承馬達、磁浮流體輸送系統、磁浮攪拌系統、磁浮晶圓轉台、磁浮泵與磁浮渦輪分子泵。針對半導體製造，公司提供高潔淨磁浮晶圓轉台、泵浦系統、渦輪分子泵及技術支援，以對應高階晶片製程。針對生物製程，公司提供一次性與可重複使用的磁浮泵、磁浮攪拌系統與流量感測器，可處理細胞型疫苗、生物製劑、基因療法等剪切敏感流體。針對化工應用，磁浮泵與攪拌系統用於降低設備污染風險，並可處理高溫與腐蝕性化學流體的混合與攪拌。針對能源應用，公司提供高效率磁浮轉子與軸承方案，可用於風力發電與其他渦輪設備，以改善設備穩定性、能源轉換效率、運轉壽命與經濟性。公司列出 20 年技術積累、50 多名研發人員與 2 大生產辦公廠址。技術能力包括針對不同應用的定轉子結構、特殊應用的位移感測器設計、自主智慧財產權控制系統設計，以及安全可靠的遠端調試與技術支援。公司具備完整認證品質系統，包括公司層級的 ISO'9001 品質管理系統認證，以及產品的 CE、SEMI S2 與其他國際證書。公司已進入數家數十億美元客戶的供應鏈，並提供即時有效的售後服務與技術支援。核心磁浮技術擁有完整獨立智慧財產權，累計 105 項專利，其中包括 8 項 PCT 與 49 項發明專利。核心研發專家團隊具有美國、德國、日本等海外學術研究經驗，Maglev LVAD 是其重要里程碑之一，並被描述為全球僅有兩個之一。公司亦提供產品選型、產品客製、服務、售後與遠端技術支援，協助客戶導入磁浮設備。
展出產品
半導體解決方案涵蓋塗佈顯影、Rapid Thermal Processing、濕式蝕刻、乾式蝕刻、離子注入、薄膜沉積、單片晶圓濕式清洗、電鍍與 Chemical Mechanical Planarization。塗佈顯影製程中，Supermag® SCM 磁浮晶圓轉台為光阻旋塗提供穩定速度與加速度，SCP 磁浮泵則可輸送光阻、顯影液及其他化學品。RTP 製程中，SCM 磁浮晶圓轉台可處理真空腔體密封問題並避免摩擦微粒，以支援製程良率。濕式蝕刻中，SCP 磁浮泵提供穩定蝕刻液流量，改善製程可控性與均勻性。乾式蝕刻中，SCT 磁浮渦輪分子泵以無油、無機械摩擦方式提供超潔淨高真空環境，降低污染物對反應的影響。離子注入需要高真空環境，SCT 泵提供良好密封、高真空、高潔淨與快速抽氣，以維持生產純淨度與穩定性。薄膜沉積中，SCT 泵避免傳統機械軸承帶來的油氣污染，並以無機械摩擦方式建立高潔淨高真空環境，使沉積薄膜表面更平滑並改善品質與性能。單片晶圓清洗時，SCM 轉台不需要腔體動密封，中空轉子便於配置；SCP 泵則以穩定流量輸送超潔淨清洗液。電鍍製程中，SCP 磁浮泵提供穩定電解液流量，以支援電鍍均勻性。CMP slurry 輸送中，SCP 磁浮泵為晶圓研磨拋光提供穩定研磨液，具有低剪切與防結晶效果，可降低傳統高剪切泵造成顆粒與刮傷的風險。SCM 磁浮晶圓轉台以磁浮軸承與電機整合控制技術支撐並旋轉晶圓，轉子懸浮運轉，不產生機械摩擦，不需要動密封，也不產生摩擦微粒。應用製程包括氧化、擴散與退火、RTP、RTA、RTO、RTN、ALD、CVD(DPN)、單片晶圓清洗、MOCVD、蝕刻與旋塗。SCM 平台具智慧控制軟體，可遠端調試並與 PLC、PC 等上層系統通訊，支援可調且精準的轉速控制、旋轉零點自動回位與高度調整。SCM 300C/300D 適用 6/8/12 吋晶圓，轉速範圍 20-2500 RPM，額定功率為 350W/2000W。SCP 磁浮泵可用於高純溶液與特殊介質輸送，轉子懸浮於液體中運作，沒有機械摩擦與顆粒生成，並具低剪切、低析出特性。SCP 泵具寬廣流量與壓頭範圍、低脈動、智慧控制、體積緊湊、即時轉速調整、正反轉能力，且不需要動密封，可降低洩漏風險。半導體泵系列包含 SCP 30，最大轉速 ≤15000 rpm、最大輸出壓力 ≤1 bar、最大流量 ≤7.7 L/min；SCP 200，最大轉速 ≤10000 rpm、最大輸出壓力 ≤2.6 bar、最大流量 ≤21 L/min；SCP 600，最大轉速 ≤9000 rpm、最大輸出壓力 ≤3.2 bar、最大流量 ≤75 L/min。系列另包括 SCP 2000，最大轉速 ≤10000 rpm、最大輸出壓力 ≤4.2 bar、最大流量 ≤140 L/min；以及 SCP 4000，最大轉速 ≤8000 rpm、最大輸出壓力 ≤6.3 bar、最大流量 ≤280 L/min。SCT 磁浮渦輪分子泵以磁浮軸承讓轉子完全非接觸懸浮，沒有機械摩擦與潤滑油，提供高潔淨、可靠、低振動的超高真空運轉。其應用包括晶圓加工、蝕刻、薄膜沉積、離子注入、科研與光伏。SCT 平台可實現 10-7 Pa 到 10-8 Pa 的極限真空範圍，支援高速轉子、控制器與泵體分體式或一體式配置、智慧控制軟體、遠端調試與運轉資料監控。SCT 550 的烘烤後極限壓力為 10-7 Pa 到 10-8 Pa，額定轉速 45000 rpm，抽速為 N2: 320 L/s、He: 340 L/s、H2: 320 L/s。SCT 900 的烘烤後極限壓力為 2*10-7 Pa，額定轉速 26000 rpm，抽速為 N2: 2200 L/s、He: 2000 L/s、H2: 1800 L/s。整體產品線結合高潔淨旋轉運動、低剪切流體輸送、磁浮攪拌與無油無摩擦高真空抽氣，可對應半導體及其他高要求製程環境。
能力與產品項目
- 磁浮無軸承馬達
- 磁浮流體輸送系統
- 磁浮攪拌系統
- 磁浮渦輪分子泵
- 半導體磁浮晶圓旋轉系統
- 高純度光阻與藥液磁浮輸送
- 低剪切 CMP 研磨液磁浮輸送
- 無油無摩擦超高真空排氣