基本情報
| ブース | S8144 |
| 国 | CN |
| ウェブサイト | www.jingtuo-tech.com |
会社概要
Suzhou Jingtou Semiconductor Technology Co., Ltd.は蘇州工業園区の陽澄湖畔に位置し、半導体向けオゾン装置の研究開発、製造、販売、サービスを一体で行うハイテク企業です。高純度・高濃度オゾン技術に13年間注力し、産業顧客向けに高濃度オゾンシステムソリューションを開発しているとしています。自社設備としてクラス1000およびクラス100のクリーンルームとテストプラットフォームを備え、オゾン装置・システムの開発、製造、検証を支えています。製品にはISO9001、ISO14001、ISO45001の管理システム認証に加え、SEMI-S2、S6、S23、F47、Hazop、ETL、CEの各認証が記載されています。Suzhou Jingtou Semiconductor Technology Co., Ltd.は60件を超える特許認可を累計で取得し、FAB顧客認証を通過した国内初の国産オゾン装置サプライヤーであり、重要技術のボトルネックに対応する国家級研究開発プロジェクトを担っていると説明しています。姑蘇リーディング企業、専精特新などの称号を掲げ、自主開発製品が国内の空白を埋めて輸入品を代替したとしています。製品はFABで5年以上にわたり安定した量産実績を持ち、世界の数千本の生産ラインで使用され、米国、日本、シンガポール、台湾、タイ、インド、ドイツなど30以上の国・地域へ輸出されています。研究開発の重点は半導体、LED、フラットパネルディスプレイ分野のオゾンシステムソリューションで、半導体グレードの高純度オゾンガスとオゾン水システムを含み、輸入ブランドを代替したと説明しています。
展示製品
製品群には高純度・高濃度プレート式オゾン発生器、高濃度オゾン分解装置、半導体向けODS、ODS For Micro LED、半導体プロセス向け高濃度オゾン水装置が含まれます。半導体向けODSは国産の高濃度・大流量・窒素無添加オゾンシステムとして説明され、TEOS-O3 Process CVDとHigh-K誘電体成膜向けALDが用途として挙げられています。高濃度オゾン分解装置はCVD、ALD、MOCVD、Ashers、Wet tools向けに掲げられ、高純度・高濃度プレート式オゾン発生器は半導体プロセス専用設計とされています。高濃度オゾン水システムはMulti Chamber DIO3 supplyを備え、溶存オゾン水濃度5-100ppmに対応します。同じプラットフォームは流量が変化してもオゾン濃度と運転圧力を一定に保ち、Dissolved O3 water monitorを統合すると記載されています。半導体の清浄度とプロセス制御向けにUltra clean for Semiconductor processとされ、Close loop DIO3 concentration controlling systemを搭載します。気液分離ユニットを統合して気泡のないオゾン水を供給し、High efficiency ozone contactorも備えます。この高濃度オゾン水装置はSEMI-S2とCE認証を掲げ、Cleaning、surface conditioning、Etchingに使用されます。半導体以外でも、オゾン発生器は食品・医薬品・化粧品などの健康関連製品の生産、青果物の鮮度保持、畜産、水産養殖、農業生産、排水処理に利用されると説明されています。これらを通じて、半導体オゾン装置の研究開発・製造、高純度高濃度オゾンシステム、認証取得オゾン装置、排水処理を含むオゾン発生器用途が明示された供給範囲となっています。
対応領域・製品
- 半導体向け高純度・高濃度プレート式オゾン発生器
- 半導体向け高濃度・大流量・窒素無添加オゾンシステム
- Micro LED向けモジュール式コールドプラズマオゾンシステム
- 高濃度オゾン分解装置
- 半導体向け5–100 ppm高濃度オゾン水システム