基本資料
| 攤位 | S8144 |
| 國別 | CN |
| 網站 | www.jingtuo-tech.com |
公司簡介
蘇州晶拓半導體科技有限公司位於蘇州工業園區陽澄湖畔，是一家把半導體臭氧設備的研究開發、設備製造、產品銷售與售後服務整合於一體的高新技術企業。公司表示已專注高純高濃度臭氧技術13年，並為產業客戶開發高濃度臭氧系統解決方案。自有基礎設施包括千級、百級無塵車間與測試平台，可用於支援臭氧設備與臭氧系統從研究開發、製造到測試驗證的工作。產品列有ISO9001、ISO14001、ISO45001三大管理體系認證，以及SEMI-S2、S6、S23、F47、Hazop、ETL、CE等認證。蘇州晶拓半導體科技有限公司表示累計獲得60餘項專利授權，是國內首家通過FAB客戶認證的國產臭氧設備供應商，並承擔一項國家級研發項目。公司列有姑蘇領軍企業、專精特新等榮譽，並表示自主研發產品填補國內空白、替代進口。產品在FAB已批量穩定量產逾5年，目前已服務全球數千條實際生產線，並遠銷美國、日本、新加坡、台灣、泰國、印度、德國等30多個國家和地區。公司亦將研發重點描述為半導體、LED與平板顯示領域的臭氧系統解決方案，其中包括半導體級高純度臭氧氣體與臭氧水系統，並表示這些系統已成功替代進口品牌。
展出產品
產品範圍包括高純高濃度板式臭氧發生器、高濃度臭氧破壞器、半導體產業ODS、ODS For Micro LED，以及用於半導體製程的高濃度臭氧水機台。半導體ODS被描述為國產高濃度、大流量、無氮添加臭氧系統，列出的應用包含TEOS-O3 Process CVD與High-K介電層沉積用ALD。高濃度臭氧破壞器主要應用於CVD、ALD、MOCVD、Ashers與Wet tools，高純高濃度板式臭氧發生器則標示為專為半導體工藝設計。高濃度臭氧水機台提供Multi Chamber DIO3 supply，溶解臭氧水濃度範圍為5-100ppm。同一臭氧水平台可在不同流量下維持恆定臭氧濃度與操作壓力，並整合Dissolved O3 water monitor。針對半導體潔淨與製程控制，系統標示為Ultra clean for Semiconductor process，並具備Close loop DIO3 concentration controlling system。設備整合氣液分離單元以提供無氣泡臭氧水，並配置High efficiency ozone contactor。高濃度臭氧水設備列有SEMI-S2與CE認證，應用包括Cleaning、surface conditioning與Etching。除半導體製程外，公司亦說明臭氧發生器可用於食品、藥品、化妝品等健康產品生產，以及果蔬保鮮、畜禽養殖、水產養殖、農業生產與污水處理。整體供應內容明確涵蓋半導體臭氧設備研發與製造、高純高濃度臭氧系統、具認證的臭氧設備，以及包括污水處理在內的臭氧發生器應用。
能力與產品項目
- 半導體高純高濃度板式臭氧發生器
- 半導體高濃度大流量無氮添加臭氧系統
- Micro LED 用冷電漿模組化臭氧系統
- 高濃度臭氧破壞器
- 5–100 ppm 半導體高濃度臭氧水系統