기본 정보
| 부스 | M0634, R7124 |
| 국가 | JP |
| 웹사이트 | shi-ms.com/en/products |
회사 소개
Sumitomo Heavy Industries Material Solutions Co., Ltd.(SMS)는 반도체 제조 응용을 위한 이온주입기와 레이저 시스템을 개발, 제조, 판매하고 서비스를 제공합니다. SMS는 반도체 장치 제조 시스템 4개 모델을 개발한 일본 유일의 이온주입 시스템 제조사라고 설명합니다. 이온주입기는 일본의 모든 반도체 장치 제조사에 납품한 실적이 있어 일본 내 제조 및 기술 기반을 보여 줍니다. 회사는 대만을 포함한 아시아 국가의 반도체 장치 제조사로 수출하는 데도 주력합니다. 반도체 공정이 빠르게 변화하는 장비 사업에서 SMS는 신속한 기술 개발과 함께 품질 및 고객 지원을 중요하게 다룹니다. SMS는 일본 사업 거점이 보유한 기술 역량을 활용해 이온주입기를 개발·제조하며 그 기술 기반을 일본 내 폭넓은 납품 실적과 연결한다고 설명합니다.
전시 제품
레이저 시스템에는 SWA20/22US（H） Solid state UV laser annealing system이 포함됩니다. 이온주입기 포트폴리오는 High-Current, Medium-Current, High-Energy, All-in-One의 네 범주로 구성되어 반도체 장치 제조의 서로 다른 주입 요구에 대응합니다. High-Current 제품에는 SHX-Ⅲ(HC)와 NV-GSDⅢ-180이 있으며 제품 목록에는 SHX-Ⅲ/S도 있고 NV-GSDⅢ-180은 batch type High-Current Ion Implanter로 표시됩니다. High-Current 범주에는 고신뢰성 주입 시스템을 특징으로 하는 배치형 장비와 독자 beam-control 기술로 주입 손상과 주입 분포를 제어하는 단일 웨이퍼 장비가 모두 포함됩니다. 이러한 시스템은 높은 정확도, 품질 및 생산성의 이온주입을 제공하도록 구성됩니다. Medium-Current 범주에는 MC3-Ⅱ(MC)가 있고 제품 목록에는 MC3-Ⅱ/GP도 포함됩니다. Medium-Current 장비는 폭넓은 파라미터를 정확하게 제어하며 좌우 대칭 평행 광학계를 통해 수평 스캔 방향에서 우수한 beam homogeneity와 고정밀 beam parallelism을 확보합니다. High-Energy 범주에는 S-UHE(HE), SS-UHE Ⅱ, HE3가 있고 다단 RF 선형 가속기 시스템을 사용합니다. 또한 기존 High-Energy 장비 범위를 넘어서는 초고에너지 영역에서 주입할 수 있으며 전례 없는 정확도로 설명되는 단일 웨이퍼 초고에너지 이온주입기도 제공합니다. SAion은 All-in-One Ion Implanter로 기존 Medium-Current와 High-Current 범위를 합친 넓은 energy dose range를 제공합니다. 이 범위를 활용해 반도체 장치 제조의 여러 주입 공정을 한 대의 장비에서 처리할 수 있습니다. SAion은 Medium-Current 장비와 비교할 때 거의 모든 동작 범위에서 두 배가 넘는 beam current를 제공하며 회사는 이를 통해 생산성이 크게 향상된다고 설명합니다. 전체 라인업은 배치형과 단일 웨이퍼 방식, beam-control 기술, 정밀 광학 설계, RF 가속, 넓은 energy-dose 범위를 결합해 다양한 반도체 이온주입 조건을 지원합니다.
역량 및 제품
- 이온 주입 장비 개발·제조·판매·서비스
- 고체 UV 레이저 어닐링 시스템
- 고전류 이온 주입 장비
- 중전류 이온 주입 장비
- 고에너지 이온 주입 장비
- All-in-One 이온 주입 장비
- 싱글 웨이퍼 초고에너지 이온 주입 장비