基本資料
| 攤位 | M0634, R7124 |
| 國別 | JP |
| 網站 | shi-ms.com/en/products |
公司簡介
Sumitomo Heavy Industries Material Solutions Co., Ltd.（SMS）從事半導體製造應用所需離子注入機與雷射系統的開發、製造、銷售與服務。SMS 表示自己是日本唯一開發出四種半導體元件製造系統機型的離子注入系統製造商。其離子注入機具有向日本所有半導體元件製造商交貨的實績，反映公司在日本的製造與技術基礎。公司亦著重向包括台灣在內的亞洲國家半導體元件製造商出口。面對半導體製程快速演進的設備市場，SMS 強調快速技術開發，並同時重視品質與客戶支援。SMS 表示其離子注入機的開發與製造運用日本營運體系所具備的技術能力，並把這項技術基礎與日本國內的廣泛交貨實績連結，形成從技術開發到設備供應與客戶支援的完整業務基礎，並持續因應半導體製程快速技術變化。
展出產品
雷射系統產品包括 SWA20/22US（H）固態 UV 雷射退火系統。離子注入機產品組合分為高電流、中電流、高能量與 All-in-One 四類，以對應半導體元件製造中的不同注入需求。高電流產品包括 SHX-Ⅲ(HC) 與 NV-GSDⅢ-180，其他高電流機型亦包括 SHX-Ⅲ/S，而 NV-GSDⅢ-180 為 batch type 高電流離子注入機。高電流類別同時提供以高可靠度注入系統為特點的批次式設備，以及利用自有 beam-control 技術控制注入損傷與注入分布的單晶圓設備。這些高電流系統用於提供高精度、高品質與高生產力的離子注入。中電流類別包括 MC3-Ⅱ(MC)，中電流產品亦包括 MC3-Ⅱ/GP。SMS 的中電流離子注入機可精準控制廣泛參數，並以左右對稱的平行光學系統實現水平方向掃描的良好 beam homogeneity 與高精度 beam parallelism。高能量類別包括 S-UHE(HE)、SS-UHE Ⅱ 與 HE3，採用多級 RF 線性加速器系統執行高能量離子注入。SMS 亦提供單晶圓超高能量離子注入機，可將注入能量延伸到傳統高能量設備範圍之外，並被描述為可達到前所未有的注入精度。SAion 是 All-in-One 離子注入機，其能量與 dose 範圍涵蓋傳統中電流與高電流離子注入機的合併範圍。由於 SAion 跨越這些範圍，因此可在一台設備上處理半導體元件製造中的多種離子注入步驟，而非僅依賴不同電流類別的傳統設備。與中電流離子注入機相比，SAion 在幾乎所有操作範圍中提供超過兩倍的 beam current，公司表示可因此顯著提升生產力。整體產品線結合批次式與單晶圓架構、beam-control 技術、精密光學設計、RF 加速與廣泛能量 dose 範圍，以對應不同半導體離子注入條件。
能力與產品項目
- 離子注入機開發製造銷售服務
- 固態 UV 雷射退火系統
- 高電流離子注入機
- 中電流離子注入機
- 高能量離子注入機
- All-in-One 離子注入機
- 單晶圓超高能量離子注入機