基本情報
| ブース | M0634, R7124 |
| 国 | JP |
| ウェブサイト | shi-ms.com/en/products |
会社概要
住友重機械マテリアルソリューションズ株式会社（SMS）は、半導体製造用途向けのイオン注入装置とレーザーシステムの開発、製造、販売、サービスを行っています。SMSは、半導体デバイス製造装置4機種を開発した日本唯一のイオン注入装置メーカーとしています。同社のイオン注入装置は日本国内のすべての半導体デバイスメーカーへの納入実績があり、日本での製造・技術基盤を生かしています。また、台湾を含むアジア諸国の半導体デバイスメーカーへの輸出にも注力しています。半導体プロセスが急速に進化する装置事業において、SMSは迅速な技術開発に加えて品質と顧客サポートを重視しています。SMSは、イオン注入装置の開発・製造に日本拠点の技術力を活用し、その技術基盤を国内の幅広い納入実績につなげ、装置開発、供給、顧客支援を一体で進めているとしています。
展示製品
レーザーシステムにはSWA20/22US（H）Solid state UV laser annealing systemがあります。イオン注入装置はHigh-Current、Medium-Current、High-Energy、All-in-Oneの4カテゴリーで構成され、半導体デバイス製造の異なる注入要件に対応します。High-Current製品にはSHX-Ⅲ(HC)とNV-GSDⅢ-180があり、製品リストにはSHX-Ⅲ/Sも掲載され、NV-GSDⅢ-180はbatch typeのHigh-Current Ion Implanterとされています。High-Currentでは、高信頼性の注入システムを特徴とするバッチ式と、独自のbeam-control技術で注入ダメージと注入分布を制御する枚葉式の両方を提供します。これらは高精度、高品質、高生産性のイオン注入を目的としています。Medium-CurrentにはMC3-Ⅱ(MC)があり、製品リストにはMC3-Ⅱ/GPもあります。Medium-Current装置は幅広いパラメータを正確に制御でき、左右対称の平行光学系により水平方向のビーム走査で優れたbeam homogeneityと高精度beam parallelismを実現します。High-EnergyにはS-UHE(HE)、SS-UHE Ⅱ、HE3があり、多段RFリニアアクセラレータ方式を用いて高エネルギー注入を行います。さらに、従来のHigh-Energy装置を超える超高エネルギー領域で注入でき、非常に高い精度を実現するとされる枚葉式超高エネルギー注入装置も提供します。SAionはAll-in-One Ion Implanterで、従来のMedium-CurrentとHigh-Currentを合わせた広いenergy dose rangeをカバーします。このため半導体デバイス製造で使われる多数の注入プロセスを一台で処理できます。SAionはMedium-Current装置と比較してほぼ全動作範囲で2倍を超えるbeam currentを提供し、大幅な生産性向上につながるとしています。全体として、バッチ式と枚葉式、beam-control技術、精密光学設計、RF加速、広いenergy-dose範囲を組み合わせ、さまざまな半導体注入条件に対応します。
対応領域・製品
- イオン注入装置の開発・製造・販売・サービス
- 固体 UV レーザーアニールシステム
- 高電流イオン注入装置
- 中電流イオン注入装置
- 高エネルギーイオン注入装置
- All-in-One イオン注入装置
- 枚葉式超高エネルギーイオン注入装置