기본 정보
| 부스 | T9056 |
| 국가 | CN |
| 웹사이트 | www.pullnerfilter.com/product/microelectronics-semiconductor-filter-cartridge |
회사 소개
Shanghai Pullner Filtration Technology Co.,Ltd는 상하이 쑹장구에 위치하며 여과 공정 기술 개발, 기술 컨설팅과 서비스, 여과 장비 및 필터의 연구개발·생산·판매를 수행합니다. 회사는 100,000급 청정 생산 작업장, 현대식 물리·화학 실험실과 무균 실험실을 운영하며 30세트가 넘는 생산·용접 장비, 10세트가 넘는 첨단 시험 장비, 기술 개발 및 검증 팀을 보유합니다. 회사는 산업용 필터 카트리지 분야에서 20+년의 경험이 있고 ISO 9001 인증을 받았으며 반도체, 화학, 석유화학 산업에 전 공정 추적성이 있는 인증 여과 솔루션을 제공하고 UAE, 말레이시아, 튀르키예를 포함한 50개국 이상의 고객을 지원한다고 설명합니다. 고순도 여과 시스템은 반도체 제조, TFT-LCD, LED, 디스플레이, 전자 및 데이터 저장 제조에 사용되는 초순수, 화학물질, 공정 가스를 대상으로 하며 식음료, 석유·가스, 제약, 실험실, 담수화, 자동차 제조, 석유화학, 발전소 여과 산업도 지원합니다. 또한 입자 계수 분석, 압력 강하 시험, 재료 호환성 시험을 포함한 사내 재료 및 품질 보증 시험, 맞춤 필터 설계와 시스템 최적화를 포함한 설계·R&D 서비스, 무료 여과 시스템 시험과 맞춤 여과 설계 및 최대 2개의 무료 샘플을 제공하며 전 세계 배송, 글로벌 물류 네트워크, 현지 기술 지원을 갖추고 있습니다.
전시 제품
Microelectronics Semiconductor Filter Cartridge는 초순수와 습식 식각 용도로 제시되며 전체 제품 범위에는 고유량, 주름형, 스트링 와운드, 멤브레인, 멜트블로운, 스테인리스 필터 카트리지, 스테인리스 필터 하우징, FRP 멤브레인 하우징, 고온수 필터 엘리먼트가 포함됩니다. 300mm 및 200mm 웨이퍼 라인 반도체 팹용으로는 초순수 루프, CMP 슬러리 여과, 포토레지스트 디스펜스 라인, 습식 공정 화학 스테이션에 적용되는 카트리지를 제시하며, UPW 폴리싱용 0.05~0.2 µm 절대 등급 PES 및 PTFE 멤브레인, CMP 슬러리용 0.45 µm 엘리먼트, 까다로운 포토레지스트 적용을 위한 현장 PMI 분석기 및 SEM 이미징 기반 sub-3nm 기공 검증을 포함합니다. 회사는 모든 마이크로일렉트로닉스 카트리지를 Class 100, Class 1000, Class 10000 클린룸 시설에서 제조하고 이를 Pall, Entegris, 3M Cuno 팹 소모품의 드롭인 대안으로 제시합니다. 팹 고객용 주요 카트리지에는 UPW 폴리싱 루프용 electronic process-water filter cartridge, 리소그래피 디스펜스용 photoresist filter element, CMP 모듈용 electronic slurry filter cartridge가 포함됩니다. 마이크로일렉트로닉스 여과 시스템은 반도체 제조, LCD, TFT, OLED 디스플레이 제조, LED 생산, 데이터 저장 제조를 지원하며 UPW, 화학물질, CMP 슬러리, 습식 식각 및 세정, 공정 가스 여과를 PP, pleated PP, 유리섬유, melt-blown PP, PES, PTFE, PVDF, Nylon 매체의 심층 또는 표면 여과 방식으로 수행합니다. 등급은 적용에 따라 0.02 µm~200 µm, 고유량 설계 직경은 152 mm 또는 160 mm, 표준 길이는 10, 20, 30, 40, 60인치이며 맞춤 길이를 제공하고, 운전 유체는 초순수, 공정수, 화학물질, CMP 슬러리, 전기도금 용액, 세정·린스 유체이며 가스 여과는 리소그래피, 식각, 증착, 클린룸 환경의 공정 가스를 대상으로 합니다. 회사는 마이크로일렉트로닉스 여과가 장비 운전 효율과 수명을 높이고 데이터 저장 전기도금 및 습식 식각·세정의 입자와 오염을 제어하며 디스플레이 공정 불순물을 줄여 다운타임을 최소화하고 더 높은 수율, 낮은 운영비, 안정된 공정 조건, 일관된 품질을 지원한다고 설명합니다. 필터 선정은 유체 또는 가스 종류, 요구 미크론 등급, 화학 호환성, 유량, 운전 압력, 청정도, 순도 기준에 따르며 전자급 재료에는 polypropylene, PES, PTFE, PVDF, Nylon, 유리섬유, stainless steel 304/316L가 포함됩니다. 반도체 화학 필터 옵션에는 일반 화학용 PES 멤브레인 카트리지, 강산·용제용 PTFE 멤브레인, 고순도 화학 공급용 PVDF 멤브레인, 벌크 화학 프리필터용 pleated PP 카트리지가 있으며 습식 식각·세정, 포토레지스트 여과, 전기도금, CMP 슬러리 공정에 사용되고 100% 무결성 시험을 거쳐 표준 및 맞춤 구성이 제공됩니다. Electronic Grade Precision Filter Element는 PTFE, Polyarylsulfone, nylon, PVDF, polyethylene, polysulfone 구조의 멤브레인 카트리지이며 PP, PTFE, PES 필터 재료, PP 엔드캡·코어·케이지를 사용하고 최대 운전 온도 80°C, 21°C에서 최대 차압 0.4 MPa, 10인치당 0.6~0.7 m² 여과 면적, 0.1~100µm 기공 등급을 제공합니다. 이 전자급 엘리먼트는 철 용출을 제한하도록 설계되어 집적회로, 데이터 저장, 평판 디스플레이, 태양광 분야에서 화학물질, 가스, 초순수, CMP 슬러리, 포토레지스트를 여과하며, 회사는 제어 환경 제조로 매우 낮은 추출물과 금속 이온 함량, 각 엘리먼트의 독립 무결성 시험, 99.99% 입자 보유 효율, 0.02µm~10µm 기공, 사전 습윤이 필요 없는 친수성 PTFE 버전을 제시합니다. 고유량 필터 엘리먼트는 출하 전 100% 검사를 받고, 회사는 핵심 공정점용 맞춤 여과 시스템과 함께 UPW용 고유량 카트리지, 공정수·화학용 pleated 카트리지, 가스·액체용 멤브레인 카트리지, 고순도·부식 환경용 스테인리스 하우징을 제공합니다. 마이크로일렉트로닉스 여과 시스템은 물, 화학물질, 공정 가스에서 입자, 오염물, 화학 불순물을 제거해 반도체, 디스플레이, 첨단 전자 제조에서 초순수, 화학 안정성, 오염 제어를 지원하며 필터 엘리먼트 성능이 최종 제품 품질과 경제성에 영향을 줄 수 있다고 설명됩니다. 전자 산업용 수처리는 고유량, 주름형, 멤브레인 필터를 이용한 다단 여과로 세정, 린스, 냉각, 화학 희석에 사용되고 가스 여과는 고효율 멤브레인 필터와 스테인리스 하우징으로 리소그래피, 식각, 증착 가스의 입자, 수분, 오염물을 제거해 가스 순도와 장비 보호를 지원합니다. 전자급 필터는 더 높은 청정 기준, 정밀한 미크론 제어, 고순도 적용 호환 재료로 추출물을 최소화하고 공격성 화학물질을 견디며 일관된 성능을 유지한다고 설명되며 산, 염기, 알코올, 용제, 케톤을 포함한 반도체 초순수 화학물질에는 폭넓은 화학 호환성이 요구됩니다.
역량 및 제품
- 반도체 초순수 필터 카트리지
- CMP 슬러리용 0.45μm 필터 엘리먼트
- 포토레지스트 여과용 sub-3nm 기공 검증
- 반도체 화학약품용 PES/PTFE/PVDF 필터 카트리지
- 마이크로일렉트로닉스 맞춤형 여과 시스템