Shanghai Pullner Filtration Technology Co.,Ltd

基本情報

会社概要

Shanghai Pullner Filtration Technology Co.,Ltd は上海市松江区にあり、ろ過プロセス技術の開発、技術コンサルティングとサービス、ろ過装置およびフィルターの研究開発・生産・販売を行っています。同社は 100,000 レベルのクリーン生産工場、現代的な物理・化学実験室と無菌ラボを備え、30セットを超える生産・溶接設備、10セットを超える先進検査設備、技術開発・検証チームを有します。同社は工業用フィルターカートリッジで 20+ 年の経験を持ち、ISO 9001 認証を受け、半導体、化学、石油化学業界向けに全工程トレーサビリティを備えた認証済みろ過ソリューションを提供し、UAE、マレーシア、トルコを含む50か国超の顧客に対応するとしています。高純度ろ過システムは、半導体製造、TFT-LCD、LED、ディスプレイ、エレクトロニクス、データストレージ製造で使用される超純水、薬液、プロセスガスを対象とし、食品・飲料、石油・ガス、製薬、研究所、淡水化、自動車製造、石油化学、発電所ろ過にも対応します。また、粒子計数分析、圧力損失試験、材料適合性試験を含む社内材料・品質保証試験、カスタムフィルター設計とシステム最適化を含む設計・研究開発サービス、無料のろ過システム試験とカスタムろ過設計、最大2個の無料サンプルを提供し、世界配送、グローバル物流網、ローカル技術支援を備えています。

展示製品

Microelectronics Semiconductor Filter Cartridge は超純水とウェットエッチ用途として掲げられ、製品範囲には高流量、プリーツ、糸巻き、メンブレン、メルトブロー、ステンレスの各フィルターカートリッジ、ステンレスフィルターハウジング、FRP メンブレンハウジング、高温水用フィルターエレメントが含まれます。300mm と 200mm ウェハラインの半導体工場向けには、超純水ループ、CMP スラリーろ過、フォトレジスト供給ライン、ウェットプロセス薬液ステーションで使用するカートリッジを掲げ、UPW ポリッシング用 0.05 から 0.2 µm 絶対定格の PES・PTFE メンブレン、CMP スラリー用 0.45 µm エレメント、厳しいフォトレジスト用途向けに現場 PMI アナライザーと SEM イメージングを用いる sub-3nm 孔径検証を挙げています。同社は各マイクロエレクトロニクス用カートリッジを Class 100、Class 1000、Class 10000 のクリーンルーム施設で製造し、Pall、Entegris、3M Cuno のファブ消耗品に対するドロップイン代替として提示しています。ファブ向け主要カートリッジには、UPW ポリッシングループ用 electronic process-water filter cartridge、リソグラフィ供給用 photoresist filter element、CMP モジュール用 electronic slurry filter cartridge があります。マイクロエレクトロニクスろ過システムは半導体製造、LCD、TFT、OLED ディスプレイ製造、LED、生産データストレージに対応し、UPW、薬液、CMP スラリー、ウェットエッチ・洗浄、プロセスガスろ過を、PP、プリーツ PP、ガラス繊維、メルトブロー PP、PES、PTFE、PVDF、Nylon を用いた深層ろ過または表面ろ過で行います。定格は用途により 0.02 µm から 200 µm、高流量設計の直径は 152 mm または 160 mm、標準長は 10、20、30、40、60 インチでカスタム長にも対応し、流体は超純水、プロセス水、薬液、CMP スラリー、めっき液、洗浄・リンス液、ガスはリソグラフィ、エッチング、成膜、クリーンルームで使用するプロセスガスを対象とします。同社は、マイクロエレクトロニクスろ過により装置効率と寿命を高め、データストレージのめっきおよびウェットエッチ・洗浄で粒子と汚染物を管理し、ディスプレイ工程の不純物を減らし、停止時間を最小化して、歩留まり、運用コスト、安定した工程条件、一貫した品質を支援できるとしています。フィルター選定は流体・ガス種、必要ミクロン定格、化学適合性、流量、運転圧力、清浄度、純度基準に基づき、電子グレード材料には polypropylene、PES、PTFE、PVDF、Nylon、ガラス繊維、stainless steel 304/316L を使用します。半導体薬液フィルターには一般薬液用 PES、強酸・溶剤用 PTFE、高純度薬液供給用 PVDF、バルク薬液プレフィルター用プリーツ PP があり、ウェットエッチ・洗浄、フォトレジストろ過、めっき、CMP スラリーに用いられ、100% 完全性試験済みで標準・カスタム構成を提供します。Electronic Grade Precision Filter Element は PTFE、Polyarylsulfone、nylon、PVDF、polyethylene、polysulfone 構造のメンブレンカートリッジで、PP、PTFE、PES のろ材、PP 製エンドキャップ・コア・ケージを使用し、最高使用温度 80°C、21°C で最大差圧 0.4 MPa、10インチあたり 0.6 から 0.7 m² のろ過面積、孔径定格 0.1 から 100µm です。この電子グレードエレメントは鉄の抽出を抑える設計で、集積回路、データストレージ、フラットパネルディスプレイ、太陽光発電向けに薬液、ガス、超純水、CMP スラリー、フォトレジストをろ過し、同社は低抽出物・低金属イオン、各エレメントの独立完全性試験、99.99% の粒子保持効率、0.02µm から 10µm の孔径、事前湿潤不要の親水性 PTFE を掲げています。高流量フィルターエレメントは出荷前に 100% 検査され、同社は重要工程向けのカスタムろ過システムとともに、UPW 用高流量カートリッジ、プロセス水・薬液用プリーツカートリッジ、ガス・液体用メンブレンカートリッジ、高純度・腐食環境用ステンレスハウジングを提供します。 マイクロエレクトロニクスろ過システムは、水、薬液、プロセスガスから粒子、汚染物、化学的不純物を除去し、半導体、ディスプレイ、先進エレクトロニクス製造で超純水、化学安定性、汚染管理を支え、フィルターエレメントの性能が最終製品品質と経済性に影響すると説明されています。電子産業の水ろ過は高流量、プリーツ、メンブレンフィルターによる多段方式で洗浄、リンス、冷却、薬液希釈に用いられ、ガスろ過は高効率メンブレンとステンレスハウジングによりリソグラフィ、エッチング、成膜ガスから粒子、水分、汚染物を除去してガス純度と装置保護を支援します。電子グレードフィルターは、より高い清浄度基準、厳しいミクロン管理、高純度用途対応材料によって抽出物を抑え、強い薬液に耐え、一貫した性能を維持するとされ、酸、塩基、アルコール、溶剤、ケトンを含む半導体用超純薬液には広い化学適合性が必要とされています。

対応領域・製品

• 半導体超純水用フィルターカートリッジ
• CMPスラリー用0.45μmフィルターエレメント
• フォトレジストろ過向けsub-3nm孔径検証
• 半導体薬液用PES/PTFE/PVDFフィルターカートリッジ
• マイクロエレクトロニクス向けカスタムろ過システム

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