基本資料
| 攤位 | T9056 |
| 國別 | CN |
| 網站 | www.pullnerfilter.com/product/microelectronics-semiconductor-filter-cartridge |
公司簡介
Shanghai Pullner Filtration Technology Co.,Ltd 位於上海松江區，從事過濾製程技術開發，並提供技術諮詢與服務，以及過濾設備與濾芯的研發、生產與銷售。公司設有 100,000 級潔淨生產車間、現代化物理與化學實驗室及無菌實驗室，並擁有 30 多套生產與焊接設備、10 多套先進檢測設備，以及技術開發與驗證團隊。公司表示具備 20+ 年工業濾芯經驗並通過 ISO 9001 認證，為半導體、化工與石化產業提供具全流程可追溯性的認證過濾解決方案，服務超過 50 個國家的客戶，包括阿聯、馬來西亞與土耳其。其高純度過濾系統用於半導體製造、TFT-LCD、LED、顯示器、電子與資料儲存製造中的超純水、化學品與製程氣體，其他服務產業包括食品飲料、石油天然氣、製藥、實驗室、海水淡化、汽車製造、石化與電廠過濾。公司亦提供內部材料與品質保證測試，包括粒子計數分析、壓降測試與材料相容性測試；設計與研發服務包括客製濾芯設計與系統最佳化；另提供免費過濾系統測試、免費客製過濾設計與最多 2 個免費樣品，並具備全球交付、全球物流網路與在地技術支援能力。
展出產品
Microelectronics Semiconductor Filter Cartridge 列出的應用包括超純水與濕式蝕刻，整體產品範圍則包括大流量、摺疊式、線繞式、膜式、熔噴式與不鏽鋼濾芯、不鏽鋼過濾器外殼、FRP 膜殼及高溫水濾芯。針對 300mm 與 200mm 晶圓產線的半導體晶圓廠，Pullner 列出的濾芯應用涵蓋超純水迴路、CMP 漿料過濾、光阻供應線與濕製程化學站，包括用於 UPW 精拋的 0.05 至 0.2 µm 絕對精度 PES 與 PTFE 膜、用於 CMP 漿料的 0.45 µm 濾芯，以及以現場 PMI 分析儀與 SEM 影像進行的 sub-3nm 孔徑驗證，以對應高要求光阻應用。公司表示，每支微電子濾芯均在 Class 100、Class 1000 或 Class 10000 潔淨室設施內製造，並將其潔淨室組裝濾芯定位為 Pall、Entegris 與 3M Cuno 晶圓廠耗材的直接替代選項。晶圓廠常用的濾芯系列包括用於 UPW 精拋迴路的電子製程水濾芯、用於微影光阻供應的光阻濾芯，以及用於 CMP 模組的電子漿料濾芯。微電子過濾系統涵蓋半導體製造、LCD、TFT、OLED 顯示器製造、LED 生產與資料儲存製造；製程包括 UPW、化學品、CMP 漿料、濕式蝕刻與清洗、製程氣體過濾，依濾芯與介質採用深層或表面過濾，介質包括 PP、摺疊 PP、玻璃纖維、熔噴 PP、PES、PTFE、PVDF 與 Nylon。可提供的過濾精度依應用涵蓋 0.02 µm 至 200 µm；大流量設計直徑為 152 mm 或 160 mm；標準長度為 10、20、30、40、60 英吋並可客製；操作流體包括超純水、製程水、化學品、CMP 漿料、電鍍液、清洗與沖洗液；氣體過濾則涵蓋微影、蝕刻、沉積與潔淨室環境使用的製程氣體。公司表示，微電子過濾可提升設備運轉效率與設備壽命，控制資料儲存製程中電鍍及濕式蝕刻與清洗的粒子和污染物，降低顯示製程中的雜質，減少停機時間，並支援較高良率、較低營運成本、穩定製程條件與一致產品品質。濾材選擇依流體或氣體類型、所需微米等級、化學相容性、流量、操作壓力、潔淨度與純度標準決定；電子級材料包括 polypropylene、PES、PTFE、PVDF、Nylon、玻璃纖維與 stainless steel 304/316L，依製程與化學需求選用。半導體化學過濾選項包括一般化學品用 PES 膜濾芯、強酸與溶劑用 PTFE 膜、高純度化學品輸送用 PVDF 膜，以及大量化學品預過濾用摺疊 PP 濾芯，可用於濕式蝕刻與清洗、光阻過濾、電鍍及 CMP 漿料處理；這些濾芯皆進行 100% 完整性測試，並提供標準與客製配置。Electronic Grade Precision Filter Element 屬於膜式濾芯，可採 PTFE、Polyarylsulfone、nylon、PVDF、polyethylene 與 polysulfone 結構，濾材選項包括 PP、PTFE 與 PES，端蓋、核心與外籠為 PP，最高操作溫度 80°C，21°C 時最大差壓 0.4 MPa，每 10 英吋的過濾面積為 0.6 至 0.7 m²，適用孔徑等級 0.1 至 100µm。此電子級濾芯專為限制鐵析出而設計，用於積體電路、資料儲存、平面顯示器與光伏領域，過濾化學品、氣體、超純水、CMP 漿料與光阻；Pullner 表示，在受控環境中製造的濾芯具有很低的析出物與金屬離子含量，每支濾芯均獨立進行完整性測試，粒子截留效率可達 99.99%，可提供 0.02µm 至 10µm 孔徑，親水性 PTFE 版本無需預潤濕。大流量濾芯出廠前進行 100% 檢驗，公司並針對微電子關鍵製程點提供客製化過濾系統，同時供應 UPW 用大流量濾芯、製程水與化學品用摺疊濾芯、氣液過濾用膜式濾芯，以及高純度與腐蝕性環境用不鏽鋼外殼。 微電子過濾系統被描述為可去除水、化學品與製程氣體中的粒子、污染物與化學雜質，在半導體、顯示器與先進電子製造中支援超純水、化學穩定性與污染控制，而濾芯效能可影響最終產品品質與經濟效益。電子產業的水過濾可採大流量、摺疊與膜式濾芯進行多段過濾，用於清洗、沖洗、冷卻與化學稀釋；氣體過濾則以高效率膜濾芯與不鏽鋼外殼去除微影、蝕刻與沉積製程氣體中的粒子、水分與污染物，以維持氣體純度並保護設備。電子級濾芯採用更高潔淨標準、更嚴格的微米控制及相容於高純度應用的材料，以降低析出物、耐受強腐蝕性化學品並維持一致過濾效能；半導體超純化學品中的酸、鹼、醇、溶劑與酮類則需要廣泛的化學相容性。
能力與產品項目
- 半導體超純水濾芯
- CMP漿料0.45μm濾芯
- 光阻過濾sub-3nm孔徑驗證
- 半導體化學品PES/PTFE/PVDF濾芯
- 微電子客製過濾系統