기본 정보
| 부스 | J3240 |
| 국가 | TW |
| 웹사이트 | semtekcorp.com/en/home |
회사 소개
Semtek Corporation은 2004년 7월에 설립되어 자동화 장비 설계와 제조를 전문으로 합니다. 연구개발 팀은 반도체 공정 경험을 보유하고 제조 공정 개선용 장비를 위한 연구와 혁신을 지속합니다. 공정 개선 전용 장비를 설계하고 제조하여 특정 반도체 생산 문제를 해결하는 수단으로 맞춤형 장비 개발을 활용합니다. 고객 지향 운영 모델은 고객 문제 해결에서 출발하며 장비는 고정 사양만 제공하는 것이 아니라 개별 고객 요구에 따라 맞춤 설계와 계획이 가능합니다. Semtek Corporation은 경쟁력 있는 비용과 짧은 기간 안에 고객이 요구하는 품질의 장비와 서비스를 제공하는 것을 목표로 합니다. 사내에는 클린룸과 다양한 시험 장비를 마련해 고객 요구를 충족하고 장비 개발 및 검증 중 테스트를 지원합니다. 자동화 장비 전문성, 반도체 공정 경험, 맞춤화 역량, 내부 시험 환경 및 공정 개선 전용 장비 설계가 회사의 엔지니어링 및 서비스 모델을 구성합니다.
전시 제품
명시된 장비에는 Metal Lift Off, Flux Cleaner (Wafer Form), Wet Etcher가 포함되어 반도체 및 습식 공정 응용에 대응합니다. Foup Cleaner는 여러 carrier 유형의 세정에 적용할 수 있으며 전체 공정에서 deionized water인 DIW를 사용합니다. 고압 노즐과 소프트웨어 제어 운전을 이용해 노즐의 각도와 방향을 조정하여 방향성 세정을 수행하고 특정 영역을 집중적으로 세정할 수 있습니다. 이러한 세정은 잔류 photoresist와 adhesive contaminants를 효과적으로 제거하는 데 사용되며 제품 정보는 Particle 제거와 공정 오염 감소도 강조합니다. Foup Cleaner는 공간 30% 절감과 안전성 향상도 특징으로 제시합니다. 호환 carrier 유형에는 FOUP, FOSB, Frame Cassette, Boat Jig가 포함되어 하나의 전용 carrier에 한정되지 않습니다. 표준 구성에는 lid opening function, electrostatic fan, safety detection, E84 communication, RFID reading, SECS/GEM protocol, DIW heating system, DIW cleaning / drying, N₂ purge function 및 wafer mapping이 포함됩니다. 표준 장비 외 요구에는 Semtek Corporation이 고객 요구에 따라 맞춤 전용 장비를 계획하고 클린룸과 다양한 시험 장비를 활용해 고객 테스트와 공정 개선 개발을 지원할 수 있습니다. 따라서 안전 감지, 정전기 제어, 식별, 호스트 통신, DIW 온도 제어, purge 및 wafer mapping이 Foup Cleaner의 표준 기능에 포함됩니다.
역량 및 제품
- 자동화 장비 설계 및 제조
- Metal Lift Off 장비
- 웨이퍼형 Flux 세정 장비
- 습식 식각 장비
- FOUP 및 다중 캐리어 세정 장비