基本資料
| 攤位 | N1067 |
| 國別 | DE |
| 網站 | www.rena.com |
公司簡介
RENA Technologies GmbH 開發並製造濕式化學處理設備，包括具彈性與高產能的系統，應用領域涵蓋半導體、醫療科技、玻璃與再生能源。RENA 設備可透過蝕刻、電鍍、清洗與乾燥處理半導體晶圓表面，採用標準化機台與具保證的製程，或使用完全客製化設備。公司表示其擁有 3 個製造基地、2 個創新中心，全球已安裝超過 3,350 套系統，組織中並有超過 130 名工程師、150 名全球服務專家與 20 個服務據點。RENA 創立於 1993 年，列有 900 名員工，全球組織將製造、創新與服務資源投入濕式處理設備與製程開發。RENA 從黑森林地區的總部向全球銷售產品並使用 Made in Germany 品質標示，產品研究與開發則在 Freiburg im Breisgau 的內部實驗室進行。公司在全球設有 9 個自有據點與眾多客戶服務中心，即使客戶生產地點距離 RENA 據點較遠，也可為已購系統提供客戶服務與維護。RENA 亦開發模組化機械與控制軟體，使個別製程序列可依客戶需求配置，並將這套工程方式與可追溯性及一致的產品品質結合。在綠能應用中，公司將製程可靠性與晶圓品質連結至受控的濕式化學處理，最佳化製程鏈涵蓋清洗、邊緣隔離、單面或雙面蝕刻與乾燥。在醫療科技領域，RENA 將可追溯性與全自動製程控制用於可重複的高精度與高產能生產，以符合所述的品質與潔淨度要求。針對客製生產設備，RENA 列出低空間需求、客戶服務可及性與彈性控制軟體等操作特點，專業團隊則運用機械製造與控制軟體經驗配置個別製程序列。公司也列有員工資格培訓與持續專業發展方案，並描述銷售、開發、生產、客戶服務與行政等職能之間跨產業、跨國家的團隊合作。近期公司資訊提到 Revolution+ 的緊湊系統概念，將彈性、製程可靠性與高效率濕式處理結合，另有設備運輸準備與永續活動，連結至技術開發與生產營運。
展出產品
RENA Technologies GmbH 提供手動與全自動濕式工作台，支援半導體元件的小量與大量生產，並整合濕式化學蝕刻、清洗與乾燥，適用於前段製程（FEOL）與後段製程（BEOL）。 半導體平台可依生產製程調整，生產序列能組合以食人魚溶液去除沉積物、RCA 清洗、熱磷酸蝕刻與 Marangoni 乾燥，同樣的彈性也適用於大量生產、研究用機台與小量生產。 在太陽能製造方面，RENA 提供濕式化學表面處理設備，製程鏈可從清洗與邊緣隔離延伸至單面或雙面蝕刻與乾燥，monoTEX® 添加劑則用於金剛線切割與砂漿切割晶圓的精準紋理化。 公司提供適用於全球生產的線上式與批次式方案，並可依特定需求調整。 針對醫療器材與零組件，RENA 提供高度自動化的複雜清洗與濕式化學表面處理解決方案，包括製作電拋光支架或光學基板的設備，並具備可追溯性與全自動製程控制。 醫療生產用機械與軟體可採標準方案或個別方案，並依 GMP 與 GAMP 5 指引開發。 針對高階玻璃應用，RENA 提供進階清洗，以及結合雷射與濕式處理技術的蝕刻方案，並運用其在醫療科技、製藥、半導體與光伏產業的經驗。 客製化濕式化學生產設備可用於不同基材的成形、紋理化與清洗，搭配模組化機械架構、彈性控制軟體及個別製程序列工程。 設備相關服務項目另列有備品、升級、服務等級協議與教育訓練，與全球服務及維護網路相互配合。 RENA 表示會持續開發高效率製程以達到客戶所需的表面品質，將製程最佳化視為設備工程持續進行的一部分，而非僅止於機台交付。 公司以先進濕式處理解決方案描述其任務，並將企業文化連結至創意、想像力、願景、創新、效能，以及品質與服務的持續改善。
能力與產品項目
- 手動與全自動半導體濕式工作台
- FEOL／BEOL 濕式蝕刻清洗乾燥
- Piranha 藥液沉積物去除
- RCA 清洗
- 熱磷酸蝕刻
- Marangoni 乾燥
- 太陽能晶圓邊緣隔離與單／雙面蝕刻
- monoTEX® 晶圓精密紋理化
- 醫療器材濕式清洗與表面處理設備
- 電解拋光支架生產設備
- 光學基板濕式生產設備
- 玻璃雷射＋濕式清洗蝕刻
- 基材成形、紋理化與清洗設備