기본 정보
| 부스 | J2840 |
| 국가 | TW |
| 웹사이트 | www.pfeiffer-vacuum.com |
회사 소개
Pfeiffer Vacuum Taiwan Corporation은 PVD, CVD, 리소그래피, 식각, 이온 주입 및 후공정 응용을 위한 터보분자 진공 펌프, 건식 진공 펌프 및 측정 장비를 공급합니다. 검사 및 계측에는 저진동 진공 솔루션을 제공하며 제품군에는 진공 누설 검출기와 오염 관리 시스템도 포함됩니다. 제조 범위에는 진공 플랜지, 밸브, 피팅, 챔버와 진공 시스템용 맞춤형 구성품이 포함됩니다. Pfeiffer는 Busch Group의 일원이며 이 그룹은 진공 펌프, 진공 시스템, 블로어, 컴프레서 및 가스 저감 시스템을 제조하고 Busch Vacuum Solutions와 Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 브랜드를 운영합니다. 대만 거점 정보에는 Pfeiffer Vacuum Taiwan Corporation이 현지 본사로 표시되며 Hsinchu County의 Busch Group 수리 센터와 반도체 서비스 거점에도 동일한 대만 법인이 제시됩니다.
전시 제품
당사의 종합 서비스 솔루션은 진공 장비의 수명을 최대한 늘리고 가동 중단 시간을 최소화하도록 설계됩니다. 신뢰성 있는 제품과 전문가 지원으로 시스템을 최적 성능으로 유지합니다. 서비스 수준 계약(SLA)은 공정 요구사항에 맞게 조정되어 예기치 않은 가동 중단을 방지하고 진공 장비를 높은 효율로 유지하는 데 도움을 줍니다. 정기 유지보수와 교정은 진공 솔루션의 수명을 연장하고 생산 능력 향상을 지원하는 예방 서비스로 제공됩니다. 서비스 모델에는 장기적인 장비 성능과 신뢰성을 중시하는 전문가 지원과 신속한 대응이 포함됩니다. 숙련된 영업 엔지니어와 서비스 기술자는 전 세계에 배치되어 장비 거래가 끝난 뒤에도 실질적인 지원을 제공합니다. 종합 Sub Fab 관리에서 Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions는 진공 및 가스 저감 시스템을 포괄하는 현장 서비스 개념을 제공하고 특정 제조 요구에 맞춰 현장 서비스 범위를 조정할 수 있습니다. 수백 명의 서비스 엔지니어와 기술자가 고객 현장에 상주할 수 있으며 제시된 현장 서비스 팀은 ISO9001:2016, ISO14001:2015 및 ISO45001:2018 인증을 받았습니다. Sub Fab 서비스 설명에는 30년이 넘는 진공 및 저감 시스템 수리 경험과 작업장 관리, 시스템 및 공정 컨설팅 전문성이 포함됩니다. Sub Fab 프로젝트는 저감 시스템, 진공 펌프, 시스템 구성품 및 각 공정 요구사항을 포함한 진공 공정과 가스 저감 환경 분석으로 시작합니다. 서비스 계획은 저감 시스템, 진공 펌프 및 관련 구성품을 포괄하며 포어라인 및 배기 서비스, 부품 세정, 설치 지원, 정기 유지보수와 필요한 예비 부품을 포함할 수 있습니다. Sub Fab 서비스 포트폴리오에는 반도체 제조용 진공 펌프 제품 리퍼비시와 반도체 팹의 이벤트 및 변화를 모니터링하는 ARGOS 예방 서비스도 포함됩니다. Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions는 반도체 제조를 위한 완전한 솔루션 공급업체로서 클린룸부터 Sub Fab까지, 진공 챔버부터 가스 저감 시스템까지 포괄합니다. 반도체 팹은 웨이퍼 가공용 클린룸, 클린룸 운영을 지원하는 유틸리티가 있는 하부 공간, 진공 펌프와 가스 처리 등 공정 안정성, 안전 및 환경 제어에 필요한 시스템이 있는 Sub Fab의 세 영역으로 설명됩니다. 클린룸에는 필요한 압력과 청정도를 유지하고 공정 변화에 따른 웨이퍼 오염을 방지하기 위해 터보분자 진공 펌프, 오염 관리 시스템 및 밸브를 제공합니다. 하부 공간에서 Pfeiffer는 주요 반도체 장비 제조업체 인증을 받은 최초 공급업체로서 load lock과 이송 장비 챔버용 포인트오브유스 진공 펌프를 제공한다고 밝힙니다. 이 포인트오브유스 솔루션은 진공 펌프 성능, 에너지 효율, 저전력 소비, 작은 설치 면적 및 낮은 소음을 중시하여 장비 운영을 지원하고 설치와 유지보수를 단순화합니다. Sub Fab에서는 건식 진공 펌프, 가스 저감 시스템 및 배기 관리 시스템을 제공하며 디지털 모니터링, 낮은 전력 소비, 물과 질소 절감, 예측 유지보수 및 현장 유지보수 시간 단축으로 운영비와 가동 중단을 줄입니다. Pfeiffer가 제시하는 반도체 진공 응용에는 EUV 리소그래피, Load lock 및 이송, 이온 소스와 빔라인 및 엔드 스테이션, CD-SEM, 공기 중 분자 오염(AMC), 박막 증착, 식각 및 세정이 포함됩니다. 반도체 서비스는 수리, 현장 서비스, 기술 지원과 제품 리퍼비시, 종합 Sub Fab 관리, 가스 저감 서비스 및 ARGOS 예측 유지보수를 포괄합니다. 반도체 제품 포트폴리오에는 터보분자 진공 펌프, 오염 관리 시스템, 누설 검출기, 가스 저감 시스템, 건식 진공 펌프, 진공 밸브, 진공 챔버 및 진공 구성품이 포함됩니다. 반도체용 건식 펌프 기술에는 다단 Roots 펌프, 스크루 펌프 및 스크롤 펌프가 포함되며 맞춤형 진공 시스템은 대기압부터 초고진공까지의 진공 범위에서 설계할 수 있습니다. Pfeiffer는 전통 실리콘부터 SiC와 GaN까지 진공이 웨이퍼 기술에 중요하다고 설명하며 저온의 민감한 전구체부터 고온의 응축성 가스까지 처리할 수 있는 광범위 온도 건식 펌프를 제공합니다. 반도체 제조의 지속가능성 접근에는 전력, 물 및 질소 사용량 절감, 제품 수명 연장, 폐기물 감소, 높은 파괴 및 제거 효율(DRE)의 가스 저감 시스템을 통한 배출 감소가 포함됩니다. 반도체 서비스 거점망은 Europe의 Villach, Annecy, Dresden, East Kilbride, Le Versoud 및 Co Kildare를 포함합니다. Asia-Pacific에는 Wuxi, Xi’An, Hyderabad, Hiratsuka-city, Hwaseong-si, Kulim Kedah, Singapore, HsinChu, Nanjing 및 Pulau Pinang이 반도체 서비스 거점으로 제시됩니다. Americas에는 Arizona, California, New Hampshire, Oregon 및 Texas 거점과 함께 Hillsboro, Oregon의 가스 저감 시스템 서비스 센터가 포함됩니다. 이 서비스 네트워크는 여러 지역에서 일반 반도체 진공 서비스와 전용 가스 저감 시스템 서비스 시설을 결합합니다. 같은 서비스 거점 자료는 이 네트워크를 반도체 제조용 제품 리퍼비시, 종합 Sub Fab 관리 및 가스 저감 서비스와 연결합니다. ARGOS는 반도체 팹의 진공 및 저감 장비 이벤트와 변화를 모니터링하는 종합 현장 예측 유지보수 서비스로 영향력이 큰 핵심 장비의 가용성을 유지하도록 설계됩니다. 반도체 팹에서는 진공 펌프와 저감 시스템의 20-25%가 일반적으로 핵심 장비로 분류되므로 전체 공정을 계속 운영하기 위해 지속적인 모니터링이 중요합니다. ARGOS는 연속 실시간 모니터링으로 장비 성능을 추적하고 중단이 발생하기 전에 고장이나 필요한 유지보수를 예측하며 장비 가동 중단 시간을 최소 50% 줄이는 것을 목표로 합니다. ARGOS 박스는 세 가닥 케이블로 연결하는 플러그앤플레이 게이트웨이로 설치되어 진공 장비를 정지하거나 제조 공정을 중단하지 않고 모니터링을 추가할 수 있습니다. 서비스는 표준화된 Industry 4.0 인터페이스와 온프레미스 구조를 기반으로 하며 수집된 정보는 반도체 팹 내부 서버에 보관되고 외부 인터넷이나 클라우드 연결로 전송되지 않습니다. 예측 유지보수 엔지니어는 팹의 물리 자산에 대한 디지털 트윈을 만들고 진공 펌프 설치 및 제거를 추적하며 ARGOS의 지속 모니터링과 함께 작업합니다. ARGOS는 예측 머신러닝 기술로 잠재적 이상을 감지하고 알람을 생성하며 엔지니어의 분류와 분석을 통해 오탐과 심각한 문제의 징후를 구분하도록 지원합니다. 모니터링 항목에는 배기 압력, 입구 압력, 에너지 소비, 운전 시간, 다음 계획 유지보수까지 남은 시간, 진동 수준, 배기 배압, 배기 온도, 진공 펌프 온도 및 냉각수 유량이 포함됩니다. 서비스는 지난 7일 활동을 요약하는 주간 보고서, 모니터링 장비의 전체 성능을 설명하는 월간 보고서, 높은 위험의 펌프, 펌프 상태, 운전 시간 및 목표 수명에 가까운 장비를 표시하는 주간 서비스 계획을 제공합니다. 예기치 않은 고장이나 비정상 동작은 근본 원인 분석을 거쳐 보고서를 작성하고 재발 방지를 위한 시정 솔루션을 구현합니다. 가스 저감 서비스는 원격 지원 또는 현장 서비스로 제공되며 24/7 고객 지원, 정기 서비스, 유지보수, 교체 및 마모 부품, 건식 베드 흡수기 재충전 및 교육을 포함합니다. 지원에는 필요한 부품 공급과 전화 또는 증강현실 기술을 통한 설치 안내가 포함되며 글로벌 기술자 네트워크가 현장 시스템 수리를 지원합니다. 시운전은 현장에서 운전 파라미터를 설정하고 시스템 구성품의 안전하고 정상적인 작동을 확인하며 고객 팀에 안전하고 올바른 운용에 대한 기술 설명을 제공하고 서면 인수 보고서를 발행합니다. 연간 또는 반기 시스템 점검은 전체 운전 점검과 센서 테스트를 포함하며 파라미터 설정, 트리거 파라미터 및 알람 한계를 검증하고 공식 점검 기록을 남깁니다. FTIR 가스 측정은 적외선 측정으로 장비 성능과 공정 가스의 종류 및 농도를 평가하며 탄화수소, 유기물 및 무기물을 포함하는 데이터베이스를 사용합니다. 유지보수 계약에는 월간 M1, 반기 M2, 연간 M3 유지보수와 24시간 대기 지원을 갖춘 풀서비스가 포함됩니다. CT-D 건식 베드 흡수기에는 사용된 입자의 재충전과 폐기를 제공하며 특허를 받고 재사용 가능하며 위험물 운송용 United Nations 인증을 받은 입자 용기를 사용하고, 교육은 운용을 다루는 Level 1과 유지보수, 수리 및 문제 해결을 다루는 Level 2의 두 단계로 진행됩니다. 공기 중 분자 오염(AMC)에는 parts per billion(ppb)부터 parts per trillion(ppt)까지의 감도를 가진 실시간 클린룸 AMC 모니터링 솔루션을 반도체 팹에 제공합니다. 반도체 제조 팹과 R&D 센터를 위한 다양한 인라인 모니터링 시스템도 제공하며 AMC를 조기에 감지하여 핵심 웨이퍼 결함이 발생하기 전에 대응할 수 있도록 합니다. FOUP 모니터링은 AMC와 입자를 함께 다루며 웨이퍼는 제조 주기의 거의 70%를 Front Opening Universal Pods 안에서 보내면서 공정 장비 사이를 이동합니다. 클린룸 AMC 모니터링 요구사항에는 클린룸 내 제로 풋프린트, 팹 실시간 모니터링, 여러 팹 영역의 모니터링, 무기 및 유기 화합물 모니터링, 100 ppt까지의 저농도 검출이 포함됩니다. FOUP 모니터링은 대기 시간 최적화 연구, 공정 장비 램프업, 장비 튜닝용 웨이퍼 처리, FOUP 세정 필요 여부 판단 및 FOUP cleaner 효율 확인에 사용할 수 있습니다. 이름이 제시된 계측 도구에는 FOUP의 AMC를 제어하는 Pod Analyzer(APA), FOUP와 FOSB의 입자를 제어하는 Dry Particle Counter(ADPC), 팹 환경을 제어하는 Ambient Multi Port Controlling(AMPC)이 포함됩니다. 오염 제거에는 FOUP와 웨이퍼에서 AMC와 습기를 제거하는 Pod Regenerator(APR)가 제시되어 모니터링 포트폴리오에 시정 오염 제거 기능을 더합니다.
역량 및 제품
- 터보분자 진공펌프
- 반도체 건식 진공펌프
- 진공 측정 장비
- 저진동 진공 솔루션
- 진공 누설 검출기
- 반도체 오염 관리 시스템
- 진공 플랜지·밸브·피팅·챔버
- 맞춤형 진공 시스템 부품
- 반도체 가스 저감 시스템
- Load Lock용 사용점 진공펌프
- 반도체 진공펌프 리퍼비시
- ARGOS 반도체 예지 정비
- 클린룸 AMC 실시간 모니터링
- FOUP AMC·입자 모니터링
- 반도체 Sub Fab 종합 관리
- 가스 저감 시스템 서비스