普發真空科技股份有限公司

SEMICON Taiwan 2026 參展廠商 · 攤位 J2840

攤位 J2840國別 TW13 個產品主題
展會資訊

基本資料

攤位J2840
國別TW
網站www.pfeiffer-vacuum.com
展商資料

公司簡介

普發真空科技股份有限公司供應渦輪分子真空泵浦、乾式真空泵浦與量測設備,應用於 PVD、CVD、微影、蝕刻、離子佈植及後段製程。針對檢測與計量,公司提供低振動真空解決方案,產品組合亦包括真空檢漏儀與汙染管理系統。其製造範圍包括真空法蘭、閥門、接頭與腔體,以及真空系統用客製化組件。Pfeiffer 隸屬於 Busch Group,該集團製造真空泵浦、真空系統、鼓風機、壓縮機與氣體減排系統,旗下品牌包括 Busch Vacuum Solutions 與 Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions。台灣據點資訊將普發真空科技股份有限公司列為當地總部,並在新竹縣的 Busch Group 維修中心與半導體服務地點中列出同一台灣公司。

展商資料

展出產品

我們的綜合服務解決方案旨在最大程度延長真空設備使用壽命,同時將停機時間降到最低。憑藉可靠產品和專家支援,確保您的系統以最佳效能運作。服務等級協議 (SLA)專為滿足您的製程要求量身訂製,有助於避免意外停機時間,維持真空設備的最高效率。透過定期維護和校準,我們提供預防性服務,不僅延長真空解決方案的使用壽命,還提升產能。享有專家支援與快速響應,以及注重長期效能和可靠性的合作夥伴關係。技藝精湛的銷售工程師和服務技術人員遍佈全球,隨時隨地提供實際支援,且支援不因交易完成而終止。在全面 Sub Fab 管理方面,Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 提供涵蓋真空與尾氣處理系統的現場服務理念,並可依特定製造要求客製所需的現場服務範圍。數百名服務工程師和技術人員可長期駐地客戶現場,且所列現場服務團隊通過 ISO9001:2016、ISO14001:2015 和 ISO45001:2018 標準認證。Sub Fab 服務內容列出超過30年的真空和減排系統維修經驗,以及車間管理、系統和流程諮詢專業知識。Sub Fab 專案會先分析整體真空製程及尾氣處理環境,包括減排系統、真空泵浦、系統組件及各自的製程要求。後續服務規劃可涵蓋所有減排系統、真空泵浦及相關組件,包括前級與排氣服務、部件清洗、安裝支援、例行維護及所需備件。Sub Fab 服務組合亦包括用於半導體製造的真空泵浦產品整新,以及用於監控半導體工廠事件與變化的 ARGOS 預防性服務。Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 是半導體產業的完整解決方案供應商,產品與服務從潔淨室延伸至底層設施區,並從真空腔體涵蓋至廢氣處理系統。半導體製造廠可分為三個關鍵區域:最上層潔淨室用於晶圓加工,次層區容納維持潔淨室運作所需的公用設施,底層設施區則設有真空泵浦、氣體處理與其他維持製程穩定性、安全及環境控制的系統。在潔淨室中,Pfeiffer 提供渦輪分子真空泵浦、汙染管理系統和閥門,以維持所需壓力與清潔度,並協助在製程演進時預防晶圓汙染。在次層區,Pfeiffer 是首家獲得主要半導體工具製造商認證的供應商,可提供使用點真空泵浦,確保 load lock 和移轉工具腔體中的真空。這些使用點解決方案著重真空泵浦效能、高能效、低功耗、精巧占地與低噪音,以支援工具操作並簡化安裝與維護。在底層設施區,產品組合包括乾式真空泵浦、廢氣減排系統與排氣管理系統,並以數位監控、較低功耗、節水節氮、預測性維護及縮短現場維護操作降低運作成本與停機時間。Pfeiffer 所列的半導體真空應用包括 EUV 微影、Load lock 與移轉、離子源、光束線和終端站、CD-SEM、空氣分子汙染 (AMC)、薄膜沉積、蝕刻和清潔。半導體服務涵蓋維修、現場服務與技術支援,以及產品整新、全方位附屬製造區管理、氣體減排服務與 ARGOS 預測性維護。半導體產品組合包括渦輪分子真空泵浦、汙染管理系統、檢漏儀、氣體減排系統、乾式真空泵浦、真空閥門、真空腔體與真空組件。半導體用乾式泵浦技術包括多級魯式真空泵浦、螺旋式真空泵浦和渦捲式真空泵浦,並可依半導體製造商特定需求,為從大氣壓力到超高真空的所有真空範圍設計客製化真空系統。Pfeiffer 亦指出真空對從傳統矽到碳化矽 (SiC) 和氮化鎵 (GaN) 等晶圓技術都很關鍵,並提供寬溫域乾式真空泵浦,以處理低溫敏感前驅物至高溫可冷凝氣體等不同製程氣體。其半導體永續方案包括降低功耗、水和氮氣消耗量、延長產品使用壽命、減少廢棄物,以及利用具高破壞和去除效率(DRE)的氣體減排系統降低排放。半導體服務地點網路遍及歐洲,包括 Villach、Annecy、Dresden、East Kilbride、Le Versoud 與 Co Kildare。亞太地區所列半導體服務地點包括 Wuxi、Xi’An、Hyderabad、Hiratsuka-city、Hwaseong-si、Kulim Kedah、Singapore、HsinChu、Nanjing 與 Pulau Pinang。美洲所列地點包括 Arizona、California、New Hampshire、Oregon 與 Texas,另在 Hillsboro, Oregon 設有氣體減排系統服務中心。此服務網路在多個地區結合一般半導體真空服務與專門的氣體減排系統服務設施。同一服務地點資料也將此網路與半導體製造用產品整新、全方位附屬製造區管理及氣體減排服務連結。ARGOS 是一項全面的現場預測性維護服務,可監控半導體製造廠中的所有事件和變化,並以維持高影響力關鍵設備可用為設計目標。在半導體製造廠中,20-25% 的真空泵浦和減排系統通常被歸類為關鍵設備,因此持續監控有助於維持整體製程正常運作。ARGOS 透過全天候即時監控掌握設備效能,並可在中斷發生前預測設備故障或必要維護,其目標是將設備停機時間減少至少 50%。ARGOS 盒透過三條電纜以隨插即用閘道方式安裝,無需關閉真空設備,也不會中斷製造製程即可加入監控。此服務以工業 4.0 標準化介面與內部部署架構為基礎,擷取資訊保留在半導體製造廠內的伺服器,不透過外部網際網路或雲端連線傳送。預測性維護工程師會建立半導體製造廠實體資產的數位孿生模型,追蹤真空泵浦的安裝與移除,並配合 ARGOS 持續監控已安裝設備。ARGOS 使用預測性機器學習技術偵測潛在異常並建立警報,再由工程師分類與分析,以區分誤報與正在發展的嚴重問題。監控資料可包括排氣壓力、入口壓力、耗能量、運行小時、下次計劃維護前剩餘時間、振動級、排氣背壓、排氣溫度、真空泵浦溫度與冷卻水流。服務提供每週報告總結過去七天活動、每月報告說明受監控設備的整體效能,並每週產生服務計畫,標示較高風險真空泵浦、健康狀況、運行時間與接近目標使用壽命的設備。任何意外故障或異常行為都會進行根本原因調查,接著產出報告並實施用於防止問題再次發生的解決方案。氣體減排服務可透過遠端支援或現場服務提供,內容包括 24/7 客戶支援、常規服務、維護、更換和磨損零件、重新填充乾式床吸收器及培訓。支援內容可包括供應所需零件,並透過電話或擴增實境技術引導安裝,全球服務技術人員網路亦可在現場維修系統。調試會在現場設定所有操作參數,檢查系統組件是否正常安全運作,為客戶團隊提供安全正確操作的技術簡報,最後出具書面驗收報告。年度或半年度系統檢查包括完整運作檢查與感應器測試,驗證所有參數設定、觸發參數及警報限制,並留下正式系統檢查記錄。傅立葉轉換紅外線 (FTIR) 氣體量測利用紅外線 (IR) 量測評估設備效能,以及製程氣體的類型和濃度,並使用涵蓋碳氫化合物、有機物與無機物的資料庫。維護合約包括每月執行的 M1 維護服務、每半年一次的 M2 維護服務、每年一次的 M3 維護服務,以及具有全天候待命支援的全方位服務。對 CT-D 乾式床吸收器,Pfeiffer 提供重新填充與廢棄顆粒處理,使用已獲專利、可重複使用且獲聯合國認證可運輸危險品的顆粒容器;培訓分為兩階段,1 級涵蓋機械元件、功能與系統操作,2 級專注於維護、維修與故障排除。在空氣分子汙染 (AMC) 方面,Pfeiffer 提供即時潔淨室 AMC 監控解決方案,靈敏度範圍從 parts per billion (ppb) 到 parts per trillion (ppt),用於半導體製造廠。公司亦為半導體製造廠與研發中心提供多種線上監控系統,藉由 AMC 監控及早偵測汙染,在晶圓發生關鍵缺陷之前採取行動。FOUP 監控同時處理 AMC 與微粒,因為晶圓在製造週期中有接近 70% 的時間位於 Front Opening Universal Pods 內並在不同製程工具之間搬運。Pfeiffer 所列潔淨室 AMC 監控要求包括潔淨室零占地、製造廠即時監控、跨多區域監控、無機與有機化合物監控,以及低至 100 ppt 的濃度偵測。FOUP 監控可用於研究排隊時間最佳化、支援製程工具升產、處理用於工具調整的晶圓、判定 FOUP 是否需要清潔,以及檢查 FOUP cleaner 效率。具名計量工具包括用於控制 FOUP 內 AMC 的 Pod Analyzer (APA)、用於控制 FOUP 與 FOSB 內微粒的 Dry Particle Counter (ADPC),以及用於控制製造廠環境的 Ambient Multi Port Controlling (AMPC)。在去汙方面,Pod Regenerator (APR) 用於去除 FOUP 與晶圓中的 AMC 和濕氣,使監控產品組合同時具備矯正性的去汙功能。

展商資料

能力與產品項目

主題群組

相關產品主題

站內導覽