기본 정보
| 부스 | N0033 |
| 국가 | JP |
| 웹사이트 | www.dalton.co.jp |
회사 소개
DALTON CORPORATION은 연구개발부터 다양한 생산 규모의 전용 장비까지 반도체 장비를 제공합니다. 기존 장비나 사양에 얽매이지 않고 웨이퍼와 용도에 맞춘 맞춤 설계를 실현합니다. 도쿄도 스미다구의 테스트 센터에서는 박리와 세정 공정을 배치 방식과 단일 웨이퍼 방식으로 시험할 수 있으며 회사 직원과 함께 다양한 처리 조건을 시험할 수 있습니다. 반도체 장비 사업은 RESEARCH PHASE에서 MASS PRODUCTION LEVEL까지를 대상으로 하며 Tokyo Test Center에는 장비 평가와 선택을 위한 여러 테스트 장비가 마련되어 있습니다. 2020.11.04에는 Dalton Semiconductor Equipments English site가 공개되었습니다.
전시 제품
DALTON CORPORATION은 폐기물을 자원으로 바꾸는 바이오매스 기술을 사용하는 탄화 장비와 친환경 오존으로 반도체를 정화하는 장비를 취급합니다. 옵션으로 오존수 세정 기능을 사용할 수 있습니다. 혼합 비율을 조정하면 반응열을 원하는 온도까지 올릴 수 있으며 이 기능은 옵션 오존수 세정 기능과 함께 장비 기능으로 제공됩니다. 반도체 제품군에는 lift-off equipment가 포함되며 lift-off equipment Options도 같은 반도체 장비 범위의 별도 항목으로 포함됩니다. Organic peeling and cleaning equipment는 박리와 세정이 필요한 반도체 공정용 장비입니다. Etching(cleaning) equipment에는 jig cleaning과 silica tube cleaning equipment가 포함됩니다. Porous silicon formation equipment도 제공하며 같은 범주에 anode oxidation equipment가 제시됩니다. 그 밖의 장비에는 Chemical supply/collecting equipment와 Solvent Recyclers가 있습니다. 이러한 장비 범주는 연구개발부터 다양한 생산 규모의 전용 생산 장비까지의 요구를 대상으로 합니다. 장비 선택 과정에는 safety measures와 test machine lineup이 포함되고 Tokyo Test Center에서 평가할 수 있습니다. 박리 및 세정 시험 환경은 배치 방식과 단일 웨이퍼 방식을 모두 지원해 한 가지 처리 방식에만 제한되지 않습니다. 고객은 DALTON CORPORATION 직원과 함께 여러 처리 조건을 바꾸어 시험할 수 있어 장비 선택과 실제 공정 평가를 연결할 수 있습니다. 맞춤 설계는 웨이퍼 조건과 사용 목적에 따라 조정되며 기존 표준 사양에 제한되지 않습니다. 세정 응용에서는 일반 반도체 박리 및 세정 장비, 오존 기반 반도체 정화 장비, 옵션 오존수 세정 기능을 같은 공급 범위에 포함합니다. 자원 회수 응용에서는 바이오매스 기반 탄화 장비를 폐기물을 자원으로 전환하는 데 사용합니다. DALTON CORPORATION은 장비 공급, 공정 시험, 응용별 맞춤 설계를 초기 연구개발부터 양산 수준까지 연결해 제공합니다.
역량 및 제품
- Lift-off 장비
- 유기 박리·세정 장비
- 식각·세정 장비
- 지그·실리카 튜브 세정 장비
- 다공성 실리콘 형성 장비
- 양극 산화 장비
- 화학물질 공급·회수 장비
- 용제 재활용 장비
- 오존수 세정 기능
- 웨이퍼·용도별 맞춤 장비 설계