기본 정보
| 부스 | N1062 |
| 국가 | TW |
| 웹사이트 | www.onano-nm.com |
회사 소개
ONANO INDUSTRIAL CORP.는 2004년에 설립되었으며 스스로를 대만 최초의 전문 광전자 유리 박막화 제조 서비스 회사로 설명합니다. 설립 이후 광전 박막화 유리의 연구, 개발, 제조 서비스에 집중해 왔으며 정밀 유리 가공을 중심으로 서비스 범위를 구축했습니다. 고객군을 위해 TGV, 즉 glass core 관련 서비스도 개발하여 광전자 유리 가공에서 반도체 기판 관련 응용으로 영역을 확장하고 있습니다. TGV 구조에서 높은 종횡비의 홀을 얻으려면 선택도가 매우 높은 식각 공정이 필요하다고 설명합니다. 선택한 유리에 따라 산 식각만으로 충분한 경우도 있지만 많은 경우 산성 식각 속도가 너무 빨라 요구 결과를 충족하지 못할 수 있다고 밝힙니다. 산 식각이 너무 빠르면 선택도가 낮아지고 높은 종횡비를 달성하지 못하며 더 큰 taper angle이 나타날 수 있습니다. 이러한 공정 한계를 해결하기 위해 산성 및 알칼리성 매체 기반의 최적화 식각 공정을 제공하여 매우 높은 선택도를 유지하면서 공정 시간을 짧게 하는 것을 목표로 합니다. TGV 패널 가공은 300 x 300 mm, 510 x 515 mm, 620 x 750mm 형식을 지원합니다. 회사는 공정 기술과 생산 능력이 업계에서 강한 위치에 있으며 유리 식각의 수율과 품질이 고객에게 높은 평가를 받고 있다고 설명합니다. 주요 서비스에는 화학 식각, 기계 연삭 등의 표면 가공 서비스와 Thinning, Polishing, Via Etching을 포함하는 유리 기판 솔루션이 있습니다. 2019년부터 반도체 기판 관련 기술에 투자하고 저온 동시 소성 세라믹(LTCC)을 이종 집적을 위한 실현 가능한 솔루션으로 적용했습니다. AlN 기판 공정도 개발하고 있으며 Green Sheet와 열전도율이 170W/mk를 넘는 ceramic 소재를 생산할 수 있다고 밝힙니다.
전시 제품
ONANO INDUSTRIAL CORP.는 정밀 광전자 TFT-LCD, OLED, 태양광 응용용 유리 박막화의 개발 및 양산 제조 서비스를 제공합니다. 광전자 유리 박막화 작업에는 식각과 유리 기판 연마 가공이 포함되어 기존 유리 가공 역량을 양산 제조와 연결합니다. 반도체 관련 유리 기판에는 화학 식각, 기계 연삭, Thinning, Polishing, Via Etching을 표면 가공 및 유리 기판 서비스 범위로 제공합니다. TGV 역량에는 높은 선택도의 산성·알칼리성 최적화 식각 방식과 300 x 300 mm, 510 x 515 mm, 620 x 750mm 패널 가공이 포함됩니다. 이종 집적과 첨단 기판 작업을 위해 LTCC 기판 기술, Green Sheet, 열전도율이 170W/mk를 넘는 AlN ceramic substrate 생산도 제시합니다.
역량 및 제품
- TFT-LCD / OLED / 태양광 유리 박형화 가공
- 유리 기판 폴리싱 가공
- TGV 패널 제조(300×300 / 510×515 / 620×750mm)
- 화학 식각 및 기계 연삭 표면 가공
- AlN 기판 Green Sheet 및 >170W/mk 세라믹 제조