基本情報
| ブース | L1000 |
| 国 | TW |
| 製品カテゴリ | Defect; Particle; Bump; Contamination Detection, Review or Inspection · Film Thickness; Thickness; Uniformity Measurement; Ellipsometer · Line Width; Critical Dimension (CD) Measurement · Wafer; Substrate Metrology; Topology; Nanotopography; Flatness Measurement; Crystalline Orientation · X-ray; XRF; 3-D X-Ray; LEXES Systems |
| ウェブサイト | www.novami.com |
会社概要
Nova Ltd. は、半導体製造における先端プロセス制御向けの材料計測、寸法計測、化学計測ソリューションの主要なイノベーターであり、重要なプロバイダーです。Nova は、製造ライフサイクル全体を通じて、ロジック、メモリ、先端パッケージング、スペシャルティデバイス向けに最先端の高性能計測ソリューションを提供し、継続的なイノベーションを実現しています。高精度なハードウェアと最先端のソフトウェアを組み合わせた Nova の製品ポートフォリオは、最も先進的な半導体デバイスの開発と生産に関する深い洞察をお客様に提供します。革新的なソリューションを提供する Nova ならではの能力により、お客様は性能の向上、製品歩留まりの改善、市場投入時間の短縮を実現できます。Nova は、世界各地のオフィスを拠点に半導体メーカーのパートナーとして活動しています。Nova は、イスラエル、ドイツ、米国の R&D センターでソリューションを開発し、世界中の専任のカスタマーオペレーションおよびサービスセンターを通じてお客様にサービスを提供しています。
対応領域・製品
- Logic、Memory、Advanced Packaging、Specialty Devices 向けメトロロジー
- critical dimension (CD) 測定
- ellipsometer エリプソメータメトロロジー
- 半導体プロセス制御向け化学メトロロジーソリューション
- 半導体プロセス制御向け寸法メトロロジーソリューション
- 半導体プロセス制御向け材料メトロロジーソリューション
- 欠陥、パーティクル、bump、汚染検査
- 膜厚および均一性測定