基本情報
| ブース | N1187 |
| 国 | KR |
| ウェブサイト | www.nextinsol.com |
会社概要
NEXTIN, Inc. は半導体回路製造中に発生する欠陥やパーティクルを検出するウェハー検査システムを製造・販売する半導体装置技術会社であり、その検査はこうした欠陥やパーティクルが発生する半導体前工程の回路製造プロセスに明確に位置付けられています。また、静電気を除去して EUV プロセスの歩留まりを高める静電気除去システムも製造しています。独自の 2D イメージング技術を基盤に、1*nm 半導体デバイス製造プロセス向けとして世界初のウェハー検査システムを開発したとしています。同じ 2D イメージング技術は、関連する半導体製造プロセスに適した 3D ウェハー検査装置にも用いられています。NEXTIN, Inc. は Hynix、CXMT、YMTC などの先端メモリーデバイスメーカーと、Samsung Electronics、SK Key Foundry、SMIC などのグローバルファウンドリーに装置を供給し、顧客層は先端メモリーデバイスメーカーとファウンドリーの双方に及びます。同社は先端半導体製造企業とメーカーへの装置供給を通じて、顧客とともに日々成長していると説明しています。
展示製品
NEXTIN, Inc. の半導体製造向け検査ソリューションには、レーザー式パターン付きウェハー欠陥検査装置と、3D デバイスプロセス向け欠陥検査ソリューションが含まれます。AEGIS シリーズは NEXTIN の 2D イメージング技術を基盤とする高性能ウェハー検査システムで、1x nm ノード以上の複雑な半導体製造プロセスに対応し、高速・高感度検査で多様な欠陥を発見して早期プロセス安定化と歩留まり向上を支援し、コスト効率も高いと説明されています。AEGIS は Bright field と Dark field の同時検査に対応し、NEXTIN の特許であるデュアルミラー焦点面アセンブリ技術により、最速の検査速度で高感度欠陥検査を可能にするとしています。AEGIS ウェハー検査システムは 200mm と 300mm の両方のウェハーをサポートし、さまざまな顧客要件に対応します。膜、パターニング、平坦化、イオン注入、クリーニング工程では、Bridge、Thinning、Projection、Foot などのパターン欠陥に加え、Scratch、Particle などを検出します。AEGIS の用途として STI、poly、contact、gate etch、Metal と via/trench etch、Cu CMP、Micro ADI/photo cell monitor、Tool monitor、Films、Post-CMP films が挙げられています。
対応領域・製品
- 前工程ウェハー欠陥・パーティクル検査システム製造
- EUV工程向け静電気除去システム製造
- 3Dウェハー検査装置
- レーザー式パターン付きウェハー欠陥検査
- 3Dデバイス工程向け欠陥検査