기본 정보
| 부스 | I2510 |
| 국가 | TW |
| 웹사이트 | www.twyfp.com |
회사 소개
New YF Precision Corporation은 박막 및 표면처리 기술을 전문으로 하며 대만 반도체 산업을 대상으로 장비 대리와 기술 서비스를 제공하고 반도체 공정 장비, 재료, 기술 솔루션으로 고객의 공정 수율과 기술 수준 향상을 지원합니다. 경험이 풍부하고 대응이 빠른 팀이 산업별 요구에 맞춘 장비 개조와 공정 업그레이드를 제공하며 기술 서비스는 웨이퍼 공정, 광전자 모듈, 첨단 패키징을 아우르고 화합물 반도체와 첨단 디스플레이로 확대됩니다. TEM 시료 처리를 위한 ALD 기술을 개발했으며 12인치 웨이퍼 팹과 제3자 실험실에서 폭넓게 채택되고 고급 시료 준비 응용에서 시장점유율이 90%를 넘는다고 설명합니다. Mini LED 백라이트 모듈과 Micro LED에서도 성과를 거두었고 제품이 국제 대형 제조사에 채택되어 글로벌 공급망에 진입했다고 밝힙니다. 기술 범위는 GaN, GaAs, SiC 화합물 반도체, 레이저 반도체 응용, Micro LED, Micro OLED, 바이오메디컬 재료를 포함합니다. 재료 표면처리를 지원하기 위해 New YF Precision Corporation은 Henniker Plasma 장비를 도입해 진공 플라즈마와 대기압 플라즈마를 통한 표면 세정, 개질, 활성화, 코팅을 지원합니다. Henniker Plasma 구성은 제품 품질과 생산 성능 향상을 위한 것으로 제시되며 한 장비 모델은 월 4인치 7만 장 생산 능력에 도달하고 국제 LED 대형사에 채택되었다고 합니다. Sentech Instruments GmbH와의 협력을 통해 2D 재료 통합, 나노시트 회로, GaN HEMT 공정을 위한 원자층 식각과 실시간 두께 모니터링을 도입했습니다. Sentech 관련 기술은 저손상, 매끄러운 표면, 고정밀 식각을 구현하고 이종 재료 통합 수율과 전기적 성능을 높이며 첨단 공정의 상용화를 지원합니다. New YF Precision Corporation은 EUV 마스크, Sic-optics, Diamond waveguide 등 특수 분야에 Intlvac 이온빔 기술도 공급합니다. 회사는 ‘성실, 전문성, 혁신’을 경영 이념으로 제시하고 기술 파트너로서 반도체 공정 장비와 기술에 계속 집중하면서 다른 첨단 응용 기술을 도입하고 제품 라인과 기술 서비스를 확대합니다.
전시 제품
SENresearch 4.0 분광 엘립소미터는 190 nm~3,500 nm 스펙트럼 범위를 제공하고 가동부가 없는 혁신적 SSA 스텝 스캔 기술과 고속 FTIR 엘립소미터 설계를 사용하며 최대 200 µm 두께의 막을 정밀 측정할 수 있다고 설명됩니다. SENTECH SI 500 ALE 원자층 식각 시스템은 첨단 플라즈마 공정을 확장해 안정적인 저압·저전력 플라즈마 환경을 제공하고 특허 평면 삼중 나선 안테나(PTSA) 기술, 동적 스테이지 온도 제어, 후면 헬륨 냉각을 결합해 초저 이온 에너지에서 디지털 주기 식각을 수행합니다. SENTECH SI 500 ICP-RIE 플랫폼은 PTSA-ICP 플라즈마 소스를 사용해 저손상, 고종횡비, 고식각률 공정을 지원하고 Cryo, DRIE 심실리콘 식각, ALE 원자층 식각으로 확장할 수 있습니다. 같은 제품 목록에는 Sentech 식각 제품군의 SI 591, Etchlab 등 소형 RIE 옵션도 제시됩니다. SENTECH SI PEALD는 진정한 원격 플라즈마 소스를 사용하는 플라즈마 강화 원자층 증착 시스템으로 100°C 미만에서 높은 균일도와 높은 단차피복성의 박막 증착을 구현하며 민감한 기판과 복잡한 3D 구조에 적용됩니다. SURAGUS EddyCus® lab 2020 TM은 고정밀 와전류 기술을 사용하는 벤치형 비접촉 측정 장비로 전도성 박막의 면저항과 금속층 두께를 단일 지점에서 측정합니다. Attolight Allalin은 SEM과 고효율 광학 모듈을 통합한 웨이퍼 수준 Cathodoluminescence(CL) 분석 시스템으로 CW-CL과 TR-CL 분석을 지원합니다. PTC 574CM은 전원이 필요 없는 수동 표면 온도 표시기로 측정 범위는 10–260°C이며 강력 자석과 스프링 클립을 사용해 산업 장비, 배관, 실험실 환경에서 빠르게 온도를 확인할 수 있습니다. 제품 범위에는 Theris NanoShell 나노입자 셸 코팅 모듈과 Theris 초고진공 나노입자 증착 PVD 장비도 포함됩니다. Theris TAS-RF 원자 소스 모듈은 이온 없는 산화물 및 질화물 증착용으로 제시되며 초고진공 나노입자 증착 모듈을 제품군에 추가합니다. Theris NanoStream은 개량 DC 스퍼터 소스로 구리 디스크 같은 금속 타깃에서 증기를 만들고 소스 압력, 플라즈마 온도, 혼합 가스 유량을 제어해 증기가 나노입자로 응축되도록 한다고 설명합니다. New YF Precision Corporation은 표면 세정, 개질, 활성화, 코팅 공정을 위한 플라즈마 표면처리 위탁 서비스도 제공합니다. 더 넓은 제품 구조는 부품, 공정 장비, 측정 장비에 걸쳐 있으며 Memetis 미세유로 제어 밸브·모듈, Sentech 공정 장비, Korvus 3-in-1 모듈형 PVD, UniTemp 고진공 열공정, Picosun ALD 중고 장비, Henniker Plasma 저손상 표면처리, Suragus 및 Attolight 측정 제품, Film Sense 다중대역 엘립소미터를 포함합니다.
역량 및 제품
- 맞춤형 장비 개조 및 공정 업그레이드
- TEM 시료 처리용 ALD 기술
- 플라즈마 표면 세정/개질/활성화/코팅 위탁 서비스
- 진공/대기압 플라즈마 표면 처리 장비 공급
- 분광 타원편광 측정 장비 공급
- ALE 원자층 식각 장비 공급
- ICP-RIE 플라즈마 식각 장비 공급
- PEALD 플라즈마 강화 원자층 증착 장비 공급
- 전도성 박막 면저항 및 금속 두께 측정 장비 공급
- 웨이퍼 레벨 CL 분석 시스템 공급
- 초고진공 나노입자 PVD 장비 공급
- 마이크로유체 제어 밸브 및 모듈 공급
- 3-in-1 모듈형 PVD 장비 공급
- 중고 ALD 원자층 증착 장비 공급
- 실시간 두께 모니터링 기술
- EUV 마스크/Sic-optics/Diamond waveguide용 이온빔 기술 공급
- 나노입자 쉘 코팅 모듈 공급
- 무이온 산화물/질화물 증착 원자 소스 모듈 공급
- 초고진공 나노입자 증착 모듈 공급
- 고진공 열공정 장비 공급