基本資料
| 攤位 | I2510 |
| 國別 | TW |
| 產品分類 | Film Thickness; Thickness; Uniformity Measurement; Ellipsometer · Resistivity Measurement; 4 point probe; Sheet resistance · Deep RIE etching; Dry Etching · Thin Film · Probing Equipment incl. Analytical; Circuit; Manual; E-Beam; Optical; Wafer Probers · Surface protection material; coatings · Plasma; Ion Sources · Optics; Lens Products; Auto-Focus Systems |
| 網站 | www.twyfp.com |
公司簡介
新元鋒精密股份有限公司（New YF Precision Co.）專注於薄膜與表面處理技術，是一家深耕台灣半導體產業的專業設備代理與技術服務商。我們提供半導體製程相關設備、材料與技術解決方案，協助客戶在高度競爭的產業中持續提升製程良率與技術水平。 公司擁有一支經驗豐富、反應快速的團隊，能針對不同產業需求，量身打造客製化的設備改機與製程升級方案，深受業界肯定。我們的技術服務涵蓋晶圓製程、光電模組、先進封裝等應用領域，並持續拓展至化合物半導體與先進顯示產業。 新元鋒精密成功開發 ALD應用於TEM 樣品處理技術，獲12吋晶圓廠及第三方實驗室廣泛採用，市占率超過九成，顯示出我們在高階樣品製備技術上的領先地位。同時，我們於 Mini LED 背光模組及Micro LED領域也取得重大成果，產品獲國際大廠採用並成功打入全球供應 鏈。 在技術布局方面，公司積極投入氮化鎵（GaN）、砷化鎵（GaAs）、碳化矽（SiC）等化合物半導體，以及雷射半導體應用市場，並持續拓展至 Micro LED、Micro OLED、生醫材料等前瞻應用領域，展現跨產業整合與創新能力。 為協助客戶提升材料表面處理效能，我們引進英國 Henniker Plasma 電漿表面處理設備，其涵蓋真空電漿與大氣電漿技術，能有效執行材料表面清潔、改質、活化與鍍膜等多元製程，提升產品品質與產能表現。量機型月產能可達4吋7萬片，已獲 LED 國際大廠採用。 近期，我們與德國Sentech Instruments GmbH合作，導入原子層蝕刻（ALE）與即時厚度監測技術，專攻2D材料整合、奈米片電路與GaN HEMT製程。此技術可實現低損傷、表面平滑與高精度蝕刻，提升異質材料整合良率與電性表現，強化先進製程的商用化進程。加拿大公司Intlvac的離子束技術則應用於EUV光罩，Sic-optics，Diamond waveguide等特殊領域。 新元鋒精密秉持「誠信、專業、創新」的經營理念，致力於協助客戶優化製程、強化競爭力。我們不僅是一家設備代理商，更是客戶可靠的技術合作夥伴。未來，持續專注於提供一流的半導體製程設備與技術，亦引進其他先進應用科技，積極擴展更多樣性的產品線和技術服務，秉持著讓客戶信任與安心的最大宗旨，獲取最大利益，共創雙贏！
能力與產品項目
- Henniker Plasma 表面處理設備
- Sentech ALE 與即時厚度監控
- 半導體製程相關設備、材料與技術解決方案
- 客製化設備改造與製程升級方案
- 晶圓加工、光電模組與先進封裝技術服務
- 用於 EUV 光罩與 SiC 光學元件的 Intlvac 離子束系統
- 用於 TEM 樣品製備的 ALD 技術
- 薄膜與表面處理技術