基本情報
| ブース | I2510 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.twyfp.com |
会社概要
New YF Precision Corporation は薄膜および表面処理技術を専門とし、台湾の半導体産業向けに装置代理と技術サービスを提供し、半導体プロセス装置、材料、技術ソリューションによって顧客の歩留まりと技術水準の向上を支援します。経験豊富で迅速に対応するチームが産業ごとのニーズに応じたカスタム装置改造とプロセス高度化を提供し、技術サービスはウェハープロセス、光電モジュール、先端パッケージングをカバーし、化合物半導体と先端ディスプレイへ拡大しています。ALD を TEM 試料処理へ応用する技術を開発し、12インチウェハーファブと第三者ラボで広く採用され、高度試料作製用途で市場シェア9割超と説明しています。Mini LED バックライトモジュールと Micro LED でも成果を上げ、製品が国際的な大手メーカーに採用され、グローバルサプライチェーンへ入ったとしています。技術領域はさらに GaN、GaAs、SiC 化合物半導体、レーザー半導体用途、Micro LED、Micro OLED、バイオメディカル材料を含みます。材料表面処理を支援するため、New YF Precision Corporation は Henniker Plasma 装置を導入し、真空プラズマと大気圧プラズマによる表面洗浄、改質、活性化、コーティングに対応します。Henniker Plasma の構成は製品品質と生産性能の向上に用いられ、一つの機種は4インチ7万枚の月産能力に達し、国際的な LED 大手に採用されたとしています。Sentech Instruments GmbH との協力により、2D 材料統合、ナノシート回路、GaN HEMT プロセス向けに原子層エッチングとリアルタイム膜厚モニタリングを導入しています。Sentech 関連技術は低ダメージ、平滑表面、高精度エッチングを実現し、異種材料統合の歩留まりと電気特性を向上させ、先端プロセスの商用化を支援します。New YF Precision Corporation は EUV マスク、Sic-optics、Diamond waveguide などの特殊用途向けに Intlvac のイオンビーム技術も供給します。同社は「誠実、専門性、イノベーション」を経営理念とし、技術パートナーとして半導体プロセス装置と技術への注力を続け、他の先進応用技術も導入しながら製品ラインと技術サービスを拡大します。
展示製品
SENresearch 4.0 分光エリプソメーターは 190 nm～3,500 nm のスペクトル範囲をカバーし、可動部のない革新的 SSA ステップスキャン技術と高速 FTIR エリプソメーター設計を採用し、最大 200 µm の厚膜を高精度に測定できると説明されています。SENTECH SI 500 ALE 原子層エッチングシステムは先端プラズマプロセスを拡張し、安定した低圧・低電力プラズマ環境を提供し、特許取得済み平面三重スパイラルアンテナ（PTSA）技術、動的ステージ温度制御、背面ヘリウム冷却を組み合わせて超低イオンエネルギーでデジタル周期エッチングを行います。SENTECH SI 500 ICP-RIE プラットフォームは PTSA-ICP プラズマ源を用いて低ダメージ、高アスペクト比、高エッチング速度に対応し、Cryo、DRIE 深掘りシリコンエッチング、ALE 原子層エッチングへ拡張できます。同じ製品一覧では、Sentech のエッチング製品群に SI 591 と Etchlab などのコンパクト RIE オプションも示されています。SENTECH SI PEALD は真のリモートプラズマ源を用いるプラズマ強化原子層堆積システムで、100°C 未満で高均一・高コンフォーマルな薄膜堆積を実現し、敏感な基板と複雑な 3D 構造に適用できます。SURAGUS EddyCus® lab 2020 TM は高精度渦電流技術を用いる卓上型非接触測定装置で、導電薄膜のシート抵抗と金属層厚さの一点測定向けです。Attolight Allalin は SEM と高効率光学モジュールを統合したウェハーレベルの Cathodoluminescence（CL）解析システムで、CW-CL と TR-CL 解析を支援します。PTC 574CM は電源不要の受動式表面温度インジケータで、10–260°C を測定し、強力マグネットとスプリングクリップによって産業装置、配管、実験室で迅速に温度確認できます。製品範囲には Theris NanoShell ナノ粒子シェルコーティングモジュールと Theris 超高真空ナノ粒子堆積 PVD 装置も含まれます。Theris TAS-RF 原子源モジュールはイオンを使わない酸化物・窒化物堆積向けとして示され、超高真空ナノ粒子堆積モジュールを追加します。Theris NanoStream は改良 DC スパッタ源で銅ディスクなどの金属ターゲットから蒸気を生成し、源圧力、プラズマ温度、混合ガス流量を制御して蒸気をナノ粒子へ凝縮させると説明されています。New YF Precision Corporation は表面洗浄、改質、活性化、コーティングを行うプラズマ表面処理の受託サービスも提供します。より広い製品構成は部品、プロセス装置、測定装置にまたがり、Memetis マイクロ流路制御バルブ／モジュール、Sentech プロセス装置、Korvus 3-in-1 モジュール PVD、UniTemp 高真空熱プロセス、Picosun ALD 中古装置、Henniker Plasma 低ダメージ表面処理、Suragus・Attolight 測定製品、Film Sense マルチバンドエリプソメトリーを含みます。
対応領域・製品
- カスタム装置改造・プロセス高度化
- TEM試料処理向けALD技術
- プラズマ表面洗浄・改質・活性化・コーティング受託
- 真空／大気圧プラズマ表面処理装置の供給
- 分光エリプソメトリー装置の供給
- ALE原子層エッチング装置の供給
- ICP-RIEプラズマエッチング装置の供給
- PEALDプラズマ強化原子層堆積装置の供給
- 導電薄膜シート抵抗・金属膜厚測定装置の供給
- ウェハーレベルCL解析システムの供給
- 超高真空ナノ粒子PVD装置の供給
- マイクロ流路制御バルブ・モジュールの供給
- 3-in-1モジュールPVD装置の供給
- 中古ALD原子層堆積装置の供給
- リアルタイム膜厚モニタリング技術
- EUVマスク・Sic-optics・Diamond waveguide向けイオンビーム技術供給
- ナノ粒子シェルコーティングモジュールの供給
- イオンフリー酸化物・窒化物堆積用原子源モジュールの供給
- 超高真空ナノ粒子堆積モジュールの供給
- 高真空熱処理装置の供給