기본 정보
| 부스 | H0009 |
| 국가 | JP |
| 웹사이트 | www.nanosystem-solutions.com |
회사 소개
NanoSystem Solutions, Inc.는 반도체 제조 공정의 다양한 검사 및 측정 장비를 개발하고 제조하며 고도화된 고객 요구에 대응하는 과정에서 관련 기술 역량을 축적해 왔습니다. 검사 및 측정 장비와 별도로 회사는 마스크리스 노광 장비 DL-1000을 개발했으며, 이 리소그래피 관련 시스템에는 Digital Micromirror Device(DMD)와 NanoSystem Solutions, Inc.의 독자적인 광학 기술 노하우가 반영되어 있습니다. 회사는 DL-1000을 미세가공의 핵심인 리소그래피와 연결하여 반도체, 액정, 바이오 및 기타 분야의 기술 개발 속도를 높일 가능성이 있는 장비로 제시합니다. NanoSystem Solutions, Inc.는 특수 레이저도 개발하고 제품화하며 재료를 직접 가공할 수 있는 레이저 가공 장비도 추진하고 있습니다. 광학 기술에 대한 지속적인 집중에는 새로운 광원 개발과 다양한 분야의 정밀기기에 탑재되는 특수 광학 제품의 개발 및 제공이 포함됩니다. 오랜 기간 NanoSystem Solutions, Inc.는 다양한 Si 웨이퍼 검사 장비를 시장에 공급해 실리콘 웨이퍼 측정과 검사를 중심으로 반도체 검사 경험을 구축했습니다. 그중에서도 첨단 광학 기술과 영상처리 기술을 결합해 제품화한 Si 웨이퍼 평탄도 측정 및 검사 기술을 강조합니다. 회사는 이러한 핵심 기술을 기반으로 독특한 검사 장비 라인업을 갖추고 여러 특수 측정 및 검사 용도에 대응할 수 있는 광학 및 영상처리 기술 노하우를 보유합니다. NanoSystem Solutions, Inc.는 자체 마스크리스 노광 장비와 레이저 가공 장비를 활용하는 파운드리 사업도 추진해 기술을 장비 개발에서 가공 서비스로 확장합니다. 자체 공장에서 정밀 금형과 사파이어를 포함한 특수 유리의 위탁 가공을 수행하여 광학, 리소그래피, 레이저, 측정, 검사와 함께 위탁 가공 역량도 제공합니다. NanoSystem Solutions, Inc.는 광학 및 영상처리 기술 노하우를 최대한 활용해 Si 웨이퍼 측정 및 검사 장비의 선도 기업을 목표로 한다고 설명합니다.
전시 제품
NanoSystem Solutions, Inc.는 반도체 공정용 검사 및 측정 장비를 제공하며 회사의 광학 및 영상처리 기술로 Si 웨이퍼 또는 유리 기판의 외부와 내부 결함을 검사하는 inspection tools를 포함합니다. 마스크리스 노광은 검사 장비와 별도의 미세가공 범주이며 DL-1000은 Digital Micromirror Device(DMD)와 독자적인 광학 기술 노하우를 결합해 반도체, 액정, 바이오 및 기타 분야의 기술 개발을 지원합니다. maskless lithography system은 sub-micron resolution과 매우 빠른 patterning speed를 갖고 photo-resist에 3D structure를 만들 수 있는 장비로 설명됩니다. photomask 생산용 Mask Writer는 advanced technology nodes의 2nd layer PSM photomask patterning과 mobile, Internet of Things(IoT), automotive 응용의 Binary photomask patterning에 적합합니다. Mask Writer는 consumable-free design을 사용해 생산 비용을 크게 줄일 수 있다고 설명되며 성능은 높은 신뢰성으로 첨단 semiconductor fabs에서 입증되었다고 제시됩니다. 검사 포트폴리오에는 Visual Inspection Systems와 첨단 광학 및 영상처리를 결합한 Si 웨이퍼 검사 기술이 포함되며 Si 웨이퍼 평탄도 관련 측정 및 검사도 포함됩니다. NanoSystem Solutions, Inc.는 절삭이 어려운 화합물 반도체의 가장자리를 고효율로 연마하는 Intelligent Edge Polishing system도 제공하며 고객 yield 향상에 기여하는 것을 목표로 합니다. 미세가공 활동에는 특수 레이저의 개발과 제품화, 재료를 직접 가공할 수 있는 레이저 가공 장비가 포함됩니다. 광학 개발 범위에는 새로운 광원과 여러 분야의 정밀기기에 탑재되는 특수 광학 제품이 포함되어 리소그래피와 검사 이외로 공급 범위를 넓힙니다. 검사와 계측 분야에서 NanoSystem Solutions, Inc.는 오랜 기간 Si 웨이퍼 검사 장비를 공급했으며 특수 측정 및 검사 용도에 대응하는 광학 및 영상처리 노하우를 보유한다고 설명합니다. 회사는 자체 마스크리스 노광 장비와 레이저 가공 장비를 사용하는 파운드리 사업을 추진해 장비 기술에서 위탁 가공으로 확장합니다. 이 파운드리 활동에는 자체 공장의 정밀 금형과 사파이어를 포함한 특수 유리 위탁 가공이 포함됩니다. 신규 사업에는 고정밀 가공 레이저 개발 사업도 있으며 헤이세이 26년도 오키나와현 신산업 연구개발 지원사업의 지원을 받은 연구개발로 설명됩니다.
역량 및 제품
- 반도체 포토마스크 라이터
- PSM 포토마스크 2층 패터닝
- 서브마이크론 마스크리스 리소그래피
- 화합물 반도체 웨이퍼 엣지 연마
- Si 웨이퍼 평탄도 측정·검사
- 특수 레이저 개발·제품화
- 비전 검사 시스템