기본 정보
| 부스 | H0009 |
| 국가 | JP |
| 웹사이트 | www.nanosystem-solutions.com |
회사 소개
당사는 반도체 제조 공정의 각종 검사 및 측정 장비 개발·제조에 종사하며 고객의 고도화된 요구에 대응하는 업무를 통해 기술을 향상시켜 왔고, 이번에 ‘마스크리스 노광 장치 DL-1000’을 개발할 수 있었습니다. 본 장치에는 Digital Micromirror Device:DMD와 당사가 지금까지 축적해 온 독자적인 광학 기술의 매우 높은 수준의 노하우가 반영되어 있습니다. 미세가공 기술의 핵심은 무엇보다 리소그래피 공정이며, 완성된 ‘마스크리스 노광 장치 DL-1000’은 반도체·액정 분야와 바이오 관련 분야를 비롯한 폭넓은 분야의 기술 개발 속도를 비약적으로 높일 가능성이 있는 장치라고 판단합니다. 또한 특수 레이저의 개발 및 제품화도 수행하고 있습니다. 이를 통해 재료를 직접 가공할 수 있는 레이저 가공 장치에도 역량을 집중해 나가겠습니다. 당사는 앞으로도 큰 가능성을 지닌 ‘빛’을 다루는 광학 기술 분야에 주력하고, 새로운 광원의 개발과 다양한 분야에서 사용되는 정밀기기에 탑재되는 특수 광학 제품의 개발 및 제공을 추진해 나가겠습니다. 반도체 디바이스는 실리콘(Si)을 기반으로 한 결정 위에 제작됩니다. 당사는 오랜 기간 이 Si 결정인 Si 웨이퍼의 다양한 검사 장비를 시장에 공급해 왔습니다. 그중에서도 특히 고도화된 광학 기술과 이미지 처리 기술을 융합하여 제품화한 Si 웨이퍼 평탄도 관련 측정·검사 기술은 세계적으로 자부할 수 있는 기술이라고 확신합니다. 이러한 핵심 역량 기술을 기반으로 한 독자적인 검사 장비 라인업을 갖추고 있습니다. 당사는 다양한 특수 측정·검사 용도에도 대응할 수 있는 광학 및 이미지 처리 기술 노하우를 보유하고 있습니다. 당사 독자적인 마스크리스 노광 장치와 레이저 가공 장치를 활용한 파운드리 사업화를 추진하고 있습니다. 자사 공장에서 정밀 금형과 사파이어를 포함한 특수 유리의 수탁 가공 사업을 진행하고 있습니다.
전시 제품
당사는 반도체 제조 공정의 각종 검사 및 측정 장비 개발·제조에 종사하며 고객의 고도화된 요구에 대응하는 업무를 통해 기술을 향상시켜 왔고, 이번에 ‘마스크리스 노광 장치 DL-1000’을 개발할 수 있었습니다. 본 장치에는 Digital Micromirror Device:DMD와 당사가 지금까지 축적해 온 독자적인 광학 기술의 매우 높은 수준의 노하우가 반영되어 있습니다. 미세가공 기술의 핵심은 무엇보다 리소그래피 공정이며, 완성된 ‘마스크리스 노광 장치 DL-1000’은 반도체·액정 분야와 바이오 관련 분야를 비롯한 폭넓은 분야의 기술 개발 속도를 비약적으로 높일 가능성이 있는 장치라고 판단합니다. 반도체 디바이스는 실리콘(Si)을 기반으로 한 결정 위에 제작됩니다. 당사는 오랜 기간 이 Si 결정인 Si 웨이퍼의 다양한 검사 장비를 시장에 공급해 왔습니다. 그중에서도 특히 고도화된 광학 기술과 이미지 처리 기술을 융합하여 제품화한 Si 웨이퍼 평탄도 관련 측정·검사 기술은 세계적으로 자부할 수 있는 기술이라고 확신합니다.
역량 및 제품
- 반도체 검사 및 측정 장비 개발·제조
- 마스크리스 노광 장치 개발
- 특수 레이저 개발 및 제품화
- 소재 직접 레이저 가공 장비
- Si 웨이퍼 평탄도 측정 및 검사
- 특수 광학 제품 개발·공급
- 정밀 금형 및 특수 유리 위탁 가공