基本情報
| ブース | H0009 |
| 国 | JP |
| ウェブサイト | www.nanosystem-solutions.com |
会社概要
株式会社ナノシステムソリューションズは、半導体製造プロセスにおける各種検査・測定装置を開発・製造し、高度な顧客要求に応える中で関連技術を高めてきました。検査・測定装置とは別に、同社はマスクレス露光装置DL-1000を開発しており、このリソグラフィー関連システムにはDigital Micromirror Device（DMD）と株式会社ナノシステムソリューションズ独自の光学技術ノウハウが反映されています。DL-1000は、微細加工の中心となるリソグラフィーに関係し、半導体、液晶、バイオをはじめとする幅広い分野の技術開発速度を高める可能性を持つ装置として位置づけられています。株式会社ナノシステムソリューションズは特殊なレーザの開発・製品化も行い、材料を直接加工できるレーザ加工装置にも取り組んでいます。継続的な光学技術分野への注力には、新しい光源の開発と、さまざまな分野の精密機器に組み込まれる特殊光学製品の開発・提供が含まれます。長年にわたり、株式会社ナノシステムソリューションズはさまざまなSiウェーハ検査装置を市場に送り出し、シリコンウェーハの計測・検査を中心とする半導体検査の実績を重ねてきました。その中で、高度な光学技術と画像処理技術を融合して製品化したSiウェーハ平坦度の計測・検査技術を特に重視しています。これらのコア技術に基づくユニークな検査装置をラインアップし、さまざまな特殊計測・検査用途に対応できる光学・画像処理技術のノウハウを保有しています。株式会社ナノシステムソリューションズは自社のマスクレス露光装置とレーザ加工装置を利用したファンドリー事業も推進し、技術を装置開発から加工サービスへ広げています。自社工場では精密金型とサファイアを含む特殊ガラスの受託加工に取り組み、光学、リソグラフィー、レーザ、計測、検査に加えて受託加工能力も備えています。株式会社ナノシステムソリューションズは、光学・画像処理技術のノウハウを最大限に活用し、Siウェーハ計測・検査装置のリーディングカンパニーを目指すとしています。
展示製品
株式会社ナノシステムソリューションズは半導体プロセス向けの検査・測定装置を提供し、独自の光学・画像処理技術を用いてSiウェーハやガラス基板の外部・内部欠陥を検査するinspection toolsを含みます。マスクレス露光は検査装置とは別の微細加工分野で、DL-1000はDigital Micromirror Device（DMD）と独自の光学技術ノウハウを組み合わせ、半導体、液晶、バイオなどの技術開発を支援します。maskless lithography systemはsub-micron resolutionと非常に高速なpatterning speedを備え、photo-resist上に3D structureを形成できる装置と説明されています。photomask生産向けのMask Writerは、advanced technology nodesにおけるPSM photomaskの第2層patterningと、mobile、Internet of Things（IoT）、automotive用途のBinary photomask patterningに適しています。Mask Writerはconsumable-free designを採用し、生産コストを大幅に削減できるとされ、その性能は高い信頼性をもって先進semiconductor fabsで実証されたと説明されています。検査ポートフォリオにはVisual Inspection Systemsと、高度な光学・画像処理を組み合わせるSiウェーハ検査技術があり、Siウェーハ平坦度に関する計測・検査も含まれます。株式会社ナノシステムソリューションズは、切削が難しい化合物半導体のエッジを高効率で研磨するIntelligent Edge Polishing systemも提供し、顧客のyield向上への貢献を目的としています。微細加工分野では特殊レーザの開発・製品化と、材料を直接加工できるレーザ加工装置に取り組んでいます。光学開発には新しい光源と、各分野の精密機器に組み込まれる特殊光学製品が含まれ、リソグラフィーと検査以外にも供給範囲を広げています。検査・計測では、長年にわたりSiウェーハ検査装置を供給し、特殊な計測・検査用途に対応する光学・画像処理技術のノウハウを持つとしています。同社は自社のマスクレス露光装置とレーザ加工装置を利用するファンドリー事業を推進し、装置技術から受託加工へ展開しています。このファンドリー事業では、自社工場で精密金型とサファイアを含む特殊ガラスの受託加工を行っています。新規事業には高精細加工レーザ開発もあり、平成26年度沖縄県新産業研究開発支援事業の助成を受けた研究開発として記載されています。
対応領域・製品
- 半導体フォトマスク描画装置
- PSMフォトマスク第2層パターニング
- サブミクロン・マスクレス露光
- 化合物半導体ウェハのエッジ研磨
- Siウェーハ平坦度の計測・検査
- 特殊レーザーの開発・製品化
- 外観検査システム