基本情報
| ブース | H0009 |
| 国 | JP |
| ウェブサイト | www.nanosystem-solutions.com |
会社概要
半導体製造プロセスにおける各種検査、測定装置の開発製造に携わり、お客様の高度なご要望にお応えする仕事を通じて技術を高めてまいりましたが、この度、「マスクレス露光装置DL-1000」を誕生させることができました。 本装置には、デジタルマイクロミラーデバイス（Digital Micromirror Device:DMD）と、当社がこれまで培った独自の光学技術に極めて高いノウハウが反映されております。 微細加工技術の中心は、なんと言ってもリソグラフィー工程ですが、完成した「マスクレス露光装置DL-1000」は、半導体・液晶分野、バイオ関係をはじめ、幅広い分野の技術開発速度を飛躍的に高める可能性が期待できる装置と考えております。 また、特殊なレーザ開発製品化も行っております。これにより、材料に直接加工できるレーザ加工装置にも力を入れていきます。 当社は、引き続き大きな可能性を秘めた「光」を取り扱う光学技術の分野に注力し、新しい光源の開発、さまざまな分野で使われる精密機器に組み込まれる、特殊光学製品の開発と提供を推進してまいります。 半導体デバイスは、シリコン（Si）をベースにした結晶の上に製作されています。当社は、長年にわたりこのSi結晶であるSiウェーハのさまざまな検査装置を市場に送り出してきました。その中でも特に高度な光学技術と画像処理技術の融合で製品化したSiウェーハの平坦度に関わる計測・検査技術は、世界に誇れる技術であると確信しています。 このような、コアコンピタンスとなる技術をベースにしたユニークな検査装置をラインナップしています。 当社としては、様々な特殊計測・検査の用途にも対応できるだけの光学・画像処理技術のノウハウを所有しています。 当社オリジナルのマスクレス露光装置、レーザ加工装置を利用したファンドリーの事業化を推進しています。自社工場にて、精密金型、サファイアを含めた特殊ガラスの受託加工事業に取り組んでおります。
対応領域・製品
- Digital Micromirror Device (DMD) 光学露光技術
- Si ウェハ向け先端光学および画像処理検査
- Si ウェハ平坦度測定および検査
- maskless exposure system DL-1000
- maskless exposure およびレーザ加工の foundry 事業
- 半導体、LCD、バイオテクノロジー向け lithography プロセスシステム
- 材料直接加工向けレーザ加工装置
- 特殊レーザの開発および事業化