基本資料
| 攤位 | H0009 |
| 國別 | JP |
| 網站 | www.nanosystem-solutions.com |
公司簡介
NanoSystem Solutions, Inc. 長期開發與製造半導體製造製程中的各類檢查與量測裝置，並在回應客戶高度需求的過程中累積相關技術能力。與檢查與量測設備分開，公司另開發無光罩曝光裝置 DL-1000；這套微影相關系統反映 Digital Micromirror Device（DMD）與 NanoSystem Solutions, Inc. 自有光學技術的 know-how。公司將 DL-1000 定位為可望加速半導體、液晶、生物技術及其他領域技術開發的系統，而微影正是這些微細加工應用的核心環節之一。NanoSystem Solutions, Inc. 也開發並商品化特殊雷射，並持續推進可直接對材料加工的雷射加工裝置。公司持續聚焦光學技術，包括新光源的開發，以及供多種領域精密機器搭載的特殊光學產品之開發與提供。多年來，NanoSystem Solutions, Inc. 已將多種 Si 晶圓檢查裝置推向市場，形成以矽晶圓量測與檢查為核心的半導體檢查經驗。其中，公司特別強調結合先進光學技術與影像處理技術所產品化的 Si 晶圓平坦度量測與檢查技術。公司以這些核心技術為基礎建立具特色的檢查裝置產品線，並表示擁有可因應多種特殊量測與檢查用途的光學與影像處理 know-how。NanoSystem Solutions, Inc. 也推進使用自有無光罩曝光裝置與雷射加工裝置的 foundry 事業，使技術從設備開發延伸到加工服務。公司在自有工廠承接精密模具及包含藍寶石在內的特殊玻璃加工，讓其能力同時涵蓋光學、微影、雷射、量測、檢查與委託加工。NanoSystem Solutions, Inc. 表示將充分運用光學與影像處理 know-how，目標是成為 Si 晶圓量測與檢查設備的領導企業。
展出產品
NanoSystem Solutions, Inc. 提供半導體製程用檢查與量測設備，包括運用公司光學與影像處理技術，檢測 Si 晶圓或玻璃基板外部與內部缺陷的 inspection tools。公司的無光罩曝光方案屬於另一個獨立的微細加工類別：DL-1000 結合 Digital Micromirror Device（DMD）與專有光學技術 know-how，用於支援半導體、液晶、生物技術及其他領域的技術開發。其 maskless lithography system 被描述為具有 sub-micron resolution 與極快 patterning speed 的工具，並可在 photo-resist 上建立 3D structure。在 photomask 生產方面，公司的 Mask Writer 適用於 advanced technology nodes 的第二層 PSM photomask patterning，以及 mobile、Internet of Things（IoT）與 automotive 應用的 Binary photomask patterning。Mask Writer 採 consumable-free design，公司表示可大幅降低生產成本，並指出其性能已在先進 semiconductor fabs 中以高可靠度獲得驗證。檢查產品範圍包括 Visual Inspection Systems 與結合先進光學及影像處理的 Si 晶圓檢查技術，其中也包括與 Si 晶圓平坦度相關的量測與檢查。NanoSystem Solutions, Inc. 也提供 Intelligent Edge Polishing system，用於高效率拋光難切削化合物半導體的邊緣，並以提升客戶 yield 為其所述目的。公司的微細加工活動包括特殊雷射的開發與商品化，以及可直接加工材料的雷射加工裝置。光學開發範圍包括新光源，以及搭載於不同領域精密機器的特殊光學產品，使供應內容不只侷限於微影與檢查。在檢查與量測方面，NanoSystem Solutions, Inc. 表示多年來持續供應 Si 晶圓檢查裝置，並擁有因應特殊量測與檢查用途的光學與影像處理 know-how。公司正推進使用自有無光罩曝光與雷射加工設備的 foundry 事業，將設備技術延伸到受託加工。該 foundry 活動包括在自有工廠承接精密模具與包含藍寶石在內的特殊玻璃加工。公司新事業中也列有高精細加工雷射開發專案，並說明該研究開發獲平成 26 年度沖繩縣新產業研究開發支援事業補助。
能力與產品項目
- 半導體光罩寫入設備
- PSM光罩第二層圖案化
- 次微米無光罩微影
- 化合物半導體晶圓邊緣研磨
- Si晶圓平坦度量測與檢查
- 特殊雷射開發與產品化
- 視覺檢查系統