基本資料
| 攤位 | H0009 |
| 國別 | JP |
| 網站 | www.nanosystem-solutions.com |
公司簡介
我們長期投入半導體製造製程中各種檢測、量測裝置的開發與製造，透過回應客戶高階需求的工作不斷精進技術，而此次成功催生了「無光罩曝光裝置 DL-1000」。 本裝置融合了數位微鏡裝置（Digital Micromirror Device: DMD）以及本公司至今培養的獨家光學技術中極為高深的 know-how。 微細加工技術的核心，無疑是微影（lithography）製程，而完成的「無光罩曝光裝置 DL-1000」，可望成為一款大幅提升半導體・液晶領域、生技相關等廣泛領域技術開發速度的裝置。 此外，我們亦進行特殊雷射的開發與產品化。藉此，我們也將致力於可直接對材料進行加工的雷射加工裝置。 本公司今後將持續專注於處理蘊含巨大可能性的「光」的光學技術領域，推進新光源的開發，以及應用於各種領域精密儀器中的特殊光學產品之開發與提供。 半導體元件是製作於以矽（Si）為基礎的結晶之上。本公司長年將這種 Si 結晶——即 Si 晶圓——的各種檢測裝置推向市場。其中，尤以融合高階光學技術與影像處理技術所產品化的、與 Si 晶圓平坦度相關的量測・檢測技術，我們深信是足以傲視全球的技術。 我們以這些成為核心競爭力（core competence）的技術為基礎，提供陣容獨特的檢測裝置。 本公司擁有足以因應各種特殊量測・檢測用途的光學・影像處理技術 know-how。 我們正運用本公司原創的無光罩曝光裝置、雷射加工裝置，推動晶圓代工（foundry）的事業化。在自家工廠中，我們也投入精密金型、包含藍寶石在內的特殊玻璃之受託加工事業。
能力與產品項目
- Digital Micromirror Device (DMD) 光學曝光技術
- Si wafer 先進光學與影像處理檢查
- Si wafer 平坦度量測與檢查
- maskless exposure system DL-1000
- maskless exposure 與雷射加工 foundry 業務
- 半導體、LCD 與生物科技用 lithography 製程系統
- 特殊雷射開發與商業化
- 直接材料加工用雷射加工設備