기본 정보
| 부스 | N0376 |
| 국가 | SG |
| 웹사이트 | www.nti-nanofilm.com |
회사 소개
Nanofilm Technologies International Limited는 1999년에 설립되어 싱가포르에 본사를 두고 있으며 NTI Nanofilm을 일반적인 나노기술 제품 공급자가 아니라 나노기술 솔루션의 글로벌 리더로 설명합니다. 전문 분야는 첨단 코팅, 박막 장비, 나노가공, 수소 연료전지 혁신으로 구성되어 네 가지 명시된 기술 영역을 형성합니다. Nanofilm Technologies International Limited는 독자 기술을 활용해 전자, 자동차, 의료, 산업 응용에서 제품 성능, 내구성, 지속가능성을 향상합니다. 싱가포르, 베트남, 중국, 일본, 인도, 독일에 사무소와 시설을 운영하며 재료과학과 정밀 엔지니어링 솔루션으로 전 세계 고객을 지원합니다. Nanofilm Technologies International Limited는 2020년부터 싱가포르 거래소에 상장되어 있으며 고성능 코팅과 첨단 소재의 혁신 및 지속가능성에 계속 집중합니다. 회사는 독자 기술과 R&D, 엔지니어링, 생산 핵심 역량을 결합해 폭넓은 산업에 기술 기반 솔루션을 제공하는 나노기술 솔루션의 선도 공급업체로도 설명합니다. 솔루션은 환경적으로 지속가능한 방식으로 고객의 최종 제품에 고부가가치 발전을 가능하게 하는 촉매로 제시되어 재료와 공정 역량을 고객 제품 개발과 연결합니다. 회사는 24년 이상의 경험, 8%를 넘는 R&D 지출, 100건 이상의 등록 및 출원 중 특허, 300명 이상의 R&D 및 엔지니어링 인력을 연구 및 엔지니어링 기반으로 제시합니다. 회사의 미션은 지속가능한 방식으로 고객 제품의 발전을 가능하게 하는 핵심 촉매가 되는 것이며 비전은 첨단 소재와 나노제품의 나노기술을 일상생활에 통합하는 것입니다. 독자적인 첨단 소재와 나노가공 역량을 바탕으로 재료과학의 경계를 반복해서 확장하고 여러 산업과 시장에서 핵심 응용 및 최종 제품의 대량 상용화를 촉진했다고 설명합니다. 연혁은 1999년 Nanofilm이 설립되고 팀이 FCVA 기술에서 돌파구를 만든 데서 시작되며, 2000년 TAC-ON®이 하드디스크 헤드의 업계 표준 코팅이 되었습니다.2002년 상하이에 Nanofilm Vacuum Coating을 설립했고, 2003년 TAC-ON®과 MiCC®가 반도체 패키징 몰드와 툴에 성공적으로 적용되었으며 Nanofilm Technologies Japan도 설립되었습니다. 이후 2004년 TAC-ON®이 프린터 부품에 적용되고 진공 코팅 장비가 광학 렌즈 몰드 코팅의 표준이 되었으며, 2007년 도쿄 자회사, 2008년 중국의 대규모 진공 코팅 서비스와 시스템이 이어졌습니다.2012년에는 CdTe 박막 태양전지 생산 라인을 상용화하고 태양광 산업용 저온 및 고온 PVD 인라인 시스템을 개발했으며, 2013년에는 피스톤 링용 코팅 솔루션을 상용화했습니다.2016년 NVC 상하이 생산능력을 확대하고 2017년 스마트 팩토리를 출시했으며, 2018년 Mango(Nanofab)에 투자해 나노가공 능력을 추가하고 2019년 베트남 Nanofab 생산능력을 확대했습니다. 후속 이정표로는 2020년 싱가포르 Group IPO, 2021년 Hydrogen Energy Solutions를 위한 Sydrogen 설립과 중국 제2 생산 사이트 확대, 2022년 중국 Huizhou와 Zigong의 새 코팅 센터와 Vietnam Fab 2 건설 시작이 있습니다. Nanofilm Technologies International Limited는 2023년 싱가포르 내에서 글로벌 본사를 이전하고, 2024년 Chennai에 Nanofilm Advanced Materials India를 설립하고 독일 AxynTeC Dünnschichttechnik GmbH를 인수했으며, 2025년 EuropCoating GmbH를 인수하고 Vietnam Site 2 운영을 확대했습니다.
전시 제품
FCVA Batch System은 Nanofilm Technologies International Limited의 독자적인 FCVA 박막 코팅 기술과 FCVA source, ion-beam source, magnetron-sputtering source, pulsed DC bias를 포함한 유연한 다중 소스 구성을 통합합니다. FCVA Batch System은 반도체 후공정 패키징과 정밀 제조 응용에 조밀하고 균일하며 고품질인 코팅을 제공해 코팅 플랫폼을 반도체 생산 요구와 직접 연결합니다. 특허 double-bend 전자기 필터링 시스템은 macro particles를 제거해 내마모성, 비점착 성능, 부식 방지, 저마찰 특성을 갖춘 매끄럽고 깨끗한 ta-C 코팅을 구현합니다. 전용 코팅 레시피는 cavity bars, lead frames, 정밀 툴링, ESD coating 응용 및 기타 복잡 부품을 지원하며 drum-based planetary motion은 3D 물체와 서로 다른 기판 재료의 균일 코팅을 지원합니다. 100 °C 미만의 코팅 온도는 열 민감 부품과 치수 중요 부품에 대한 적합성을 넓히고 완전 자동 시스템은 효율적인 생산, 일관된 코팅 품질, 최대 1,300 Ø x 900 H mm의 코팅 범위를 지원합니다. FCVA Load Lock Mold Coater는 ultra-smooth ta-C 코팅, ultra-low particles, 깨끗한 접촉면, 내마모성, 안정적인 이형 성능이 필요한 wafer chucks, 정밀 금형, 핵심 반도체 부품용으로 설계되었습니다. 분리된 load lock과 process chambers는 진공 사이클 시간을 줄이는 동시에 오염 억제를 도와 깨끗한 공정 조건이 중요한 반도체 부품 요구에 대응합니다. FCVA Load Lock Mold Coater의 핵심 기능인 독자적인 X-Bend filtration technology는 FCVA 증착 중 macro particles를 제거해 반도체 제조용 코팅을 더 깨끗하고 매끄러우며 입자 제어가 가능하게 합니다. MiCC®는 반도체 후공정 패키징 툴용 나노결정질 질화크롬 세라믹 코팅으로, 특허 FCVA 기술을 사용해 낮은 표면 에너지, 저마찰, 부드러운 이형 성능을 갖춘 조밀한 보호층을 형성하고 재료 부착 감소를 돕습니다. Nanofilm Technologies International Limited는 독자적인 Filtered Cathodic Vacuum Arc(FCVA) 기술을 이용한 DLC(Diamond-Like Carbon)와 나노복합 코팅도 반도체 제조용으로 제공합니다. 이 반도체 코팅은 높은 경도, 초저마찰, 우수한 접착력, 향상된 열 및 화학 저항성을 제공해 까다로운 생산 요구에 대응한다고 설명됩니다. 반도체 응용에는 wafer lapping carrier와 lead frame carrier가 포함되어 핵심 툴과 제조 지원에 첨단 코팅을 사용하는 캐리어 관련 분야를 다룹니다. 다른 응용에는 wire bonding과 ESD anodized aluminium이 포함되어 코팅 포트폴리오를 본딩 작업과 정전기 방전 관련 표면에 연결합니다. 응용 목록에는 TSV/TGV와 elastomer도 포함되어 회사가 명시한 추가 구조와 소재로 반도체 코팅 범위를 확장합니다. Nanofilm Technologies International Limited는 정밀도, 내구성, 오염 제어, 장비 마모, ESD, 표면 열화와 같은 제조 과제를 해결하고 핵심 툴과 캐리어의 반도체 제조 신뢰성을 높이는 첨단 코팅으로 이러한 솔루션을 제시합니다. 반도체 코팅 설명에서는 기존 코팅이 장비 마모, electrostatic discharge(ESD), 표면 열화 문제를 충분히 해결하지 못할 수 있으며 그 결과 유지보수 비용 증가, 수율 저하, 공정 비효율로 이어질 수 있다고 설명합니다.
역량 및 제품
- FCVA 박막 코팅
- 웨이퍼 척·정밀 금형 ta-C 코팅
- 나노결정 CrN 세라믹 코팅
- FCVA DLC·나노복합 코팅