기본 정보
| 부스 | N0376 |
| 국가 | SG |
| 웹사이트 | www.nti-nanofilm.com |
회사 소개
1999년에 설립되어 싱가포르에 본사를 둔 NTI Nanofilm은 첨단 코팅, 박막 장비, 나노가공 및 수소 연료전지 혁신을 전문으로 하는 글로벌 나노기술 솔루션 선도 기업입니다. 독자 기술을 활용하여 전자, 자동차, 의료 및 산업 응용 분야를 포함한 다양한 산업에서 제품 성능, 내구성 및 지속가능성을 향상시킵니다. 강력한 글로벌 거점을 바탕으로 NTI Nanofilm은 싱가포르, 베트남, 중국, 일본, 인도 및 독일에 사무소와 시설을 운영하며, 최첨단 재료과학 및 정밀 엔지니어링 솔루션으로 전 세계 고객에게 서비스를 제공합니다. 2020년부터 Singapore Exchange에 상장된 NTI Nanofilm은 고성능 코팅과 첨단 소재 분야에서 혁신과 지속가능성을 추진하는 데 주력하고 있습니다.
전시 제품
NTI Nanofilm의 FCVA Batch System은 독자적인 FCVA 박막 코팅 기술과 유연한 멀티 소스 구성을 통합하며, FCVA 소스, 이온빔 소스, 마그네트론 스퍼터링 소스 및 펄스 DC 바이어스를 포함합니다. 이 시스템은 반도체 후공정 패키징 및 정밀 제조 응용 분야에 고밀도·균일·고품질 코팅을 제공합니다. 특허받은 더블 벤드 전자기 여과 시스템은 매크로 입자를 제거하여 강한 내마모성, 점착 방지 성능, 부식 보호 및 저마찰 특성을 갖춘 매끄럽고 청정한 ta-C 코팅을 구현합니다. 전용 코팅 레시피는 캐비티 바, 리드프레임, 정밀 툴링, ESD 코팅 응용 및 기타 복잡 형상을 지원합니다. 드럼 기반 유성 운동은 3D 물체와 다양한 기판 소재에 균일한 코팅을 지원하며, 100 °C 미만의 코팅 온도는 열에 민감하고 치수 관리가 중요한 부품에 대한 적용 범위를 넓힙니다. 완전 자동화 시스템은 효율적인 생산과 일관된 코팅 품질을 지원하며, 최대 1,300 Ø x 900 H mm의 코팅 범위를 제공합니다. NTI Nanofilm의 FCVA Load Lock Mold Coater는 초저입자, 청정 접촉면, 내마모성 및 안정적인 이형 성능을 갖춘 초평활 ta-C 코팅이 필요한 웨이퍼 척, 정밀 금형 및 핵심 반도체 부품용으로 설계되었습니다. 분리된 로드록 챔버와 공정 챔버는 진공 사이클 시간을 단축하는 동시에 오염 억제에 도움을 줍니다. 핵심 USP는 NTI Nanofilm의 독자적인 X-Bend 여과 기술로, FCVA 증착 중 매크로 입자를 제거하여 반도체 제조용으로 더 깨끗하고 매끄러우며 입자 제어가 강화된 코팅을 구현합니다. MiCC®는 반도체 후공정 패키징 툴용으로 개발된 NTI Nanofilm의 나노결정질 질화크롬 세라믹 코팅입니다. 특허받은 FCVA 기술을 사용하는 MiCC®는 낮은 표면 에너지, 저마찰 및 원활한 이형 성능을 갖춘 치밀한 보호층을 형성하여 핵심 툴링 표면의 재료 부착을 줄이는 데 도움을 줍니다.
역량 및 제품
- FCVA 박막 코팅
- 반도체 후공정 패키징 고밀도 균일 도금
- ta-C 내마모·내점착 코팅
- 3D 공작물 균일 코팅
- 100°C 미만 저온 코팅
- 웨이퍼 척 및 정밀 금형 ta-C 코팅
- X-Bend 입자 여과
- MiCC® 나노결정 질화크롬 세라믹 코팅