기본 정보
| 부스 | T9404 |
| 국가 | US |
| 웹사이트 | www.nabulitho.com |
회사 소개
Nabu Optical Systems는 미국 Ohio주 Dayton에 기반을 둔 반도체 기술 기업으로, 물리적 포토마스크를 핵심 경로에서 제거하는 첨단 마스크리스 리소그래피 장비를 개발합니다. 주력 시스템 ANU-1은 설계 파일에서 직접 웨이퍼와 기판에 패턴을 형성하여 레티클, 마스크 제작 대기시간, 최소 주문 수량을 없앱니다. ANU-1은 연구개발부터 소량 생산까지를 대상으로 하며 포토닉스, 화합물 반도체 라인, 첨단 패키징, 마스크 세트를 주문하는 속도보다 설계 변경이 빠른 팀에 대응합니다. Nabu Optical Systems는 University of Dayton의 포토닉스 연구에서 출발했으며 광학 엔지니어링, 정밀 모션 제어, 전용 노광 구조를 표준 클린룸 작업 구역에 들어가는 소형 플랫폼에 통합합니다. ANU-1은 벤치톱 시제품 제작과 소량 생산 사이를 연결해 새로운 물리 마스크 세트를 다시 주문해 기다리지 않고 공정 엔지니어가 수주가 아니라 수시간 단위로 반복할 수 있도록 설계되었습니다. Nabu는 투영 리소그래피의 속도와 직접 레이저 기록의 유연성을 결합하고 가상 마스크를 사용해 고가의 물리 마스크가 필요하지 않도록 합니다. 대상은 중소기업, 혁신 스타트업, 연구기관으로, 대규모 수요를 중심으로 하는 리소그래피 시장에서 충분한 서비스를 받기 어려운 사용자를 겨냥합니다. Nabu는 조직의 규모와 개발 주기가 전통적인 리소그래피 제품이 선호하는 초대량 수요와 맞지 않는 경우의 시장 공백을 해결하는 기술로 자사 플랫폼을 설명합니다. 장비는 반도체 제조, 연구, 신흥 칩 사업에 사용되며 특히 180 nm에서 500 nm 노드 구간을 대상으로 하고, 회사는 R&D, 대학, 정부 연구실이 접근할 수 있는 가격을 목표로 한다고 밝힙니다. 회사는 플랫폼이 기존 방식보다 훨씬 작고 비용도 일부 수준이며 제조 공정을 수개월 단축하고 비용을 수백만 단위로 줄이는 것을 목표로 한다고 설명합니다. Nabu Optical Systems는 EIPBN 2025, 68th International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication의 스타트업 경연상을 수상했습니다.
전시 제품
ANU-1은 Nabu Optical Systems의 주력 고속 직접 기록 광학 리소그래피 장비로 회사의 열 투영 리소그래피 플랫폼을 기반으로 하며 시제품 제작부터 소량 생산까지를 대상으로 합니다. ANU-1은 180 nm 해상도와 4인치 웨이퍼 기준 예상 10 Wafer/Hour 처리량을 제시합니다. Mithra는 일체형 측정 장비로 전동 대물렌즈 교환 시스템, 고해상도 카메라, 굽힘 및 휨 측정 부착물을 갖춰 고속 자동 시료 매핑을 수행합니다. 소프트웨어는 결함 비율, 선 균일도, 스티칭 오류 등의 데이터와 250 nm까지의 고해상도 이미지를 제공합니다. ENKI는 고출력 레이저 플랫폼으로 5-1000 ns 범위에서 펄스 폭을 조절할 수 있는 1064 nm 레이저, booster, amplifier를 결합합니다. 출력 펄스 에너지는 10 mJ를 초과할 수 있고, 여러 레이저와 booster, amplifier 등 최대 네 개 요소를 하나의 솔루션에 조합할 수 있습니다. 출력에는 532 nm 주파수 배가 부착물을 추가해 1 mJ를 초과하는 녹색광을 제공할 수 있습니다.
역량 및 제품
- 마스크리스 직접쓰기 광학 리소그래피 장비
- 자동 광학 샘플 매핑·휨 측정