基本資料
| 攤位 | T9404 |
| 國別 | US |
| 網站 | www.nabulitho.com |
公司簡介
Nabu Optical Systems 是一家位於美國 Ohio 州 Dayton 的半導體技術公司，開發先進無光罩微影工具，使實體光罩不再位於關鍵流程上。旗艦系統 ANU-1 可直接依設計檔在晶圓與基板上形成圖案，不需要光罩版、光罩製作交期或最低訂購量。ANU-1 的定位涵蓋研發至低量產，可用於光子技術、化合物半導體產線、先進封裝，以及設計變動速度快於光罩組下單速度的團隊。Nabu Optical Systems 源自 University of Dayton 的光子研究，將光學工程、精密運動控制與專用曝光架構整合於可放入標準潔淨室工作區的緊湊平台。ANU-1 旨在銜接桌上型原型開發與低量產，使製程工程師能以小時而非數週進行迭代，不必等待重新下單製作新的實體光罩組。Nabu 將投影微影的速度與直接雷射寫入的彈性結合，並使用虛擬光罩，避免使用昂貴的實體光罩。公司鎖定中小企業、創新新創公司與研究機構，這些使用者在偏向超大規模需求的微影市場中可能較難獲得適切服務。Nabu 將其技術定位為填補市場缺口，服務規模與開發週期不符合傳統微影方案常見超大量需求的組織。其工具面向半導體製造、研究及新興晶片事業，特別聚焦 180 nm 至 500 nm 節點區間，公司並表示價格設定以研發、大學及政府實驗室可負擔使用為方向。Nabu 表示其平台尺寸顯著較小，成本僅為傳統方法的一部分，目標是將製造流程時間縮短數月並降低數百萬的成本。Nabu Optical Systems 亦獲得第 68 屆 International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication（EIPBN 2025）的 新創競賽獎。
展出產品
ANU-1 是 Nabu Optical Systems 的旗艦高速直寫光學微影工具，以公司的熱投影微影平台為基礎，定位為從原型製作至低量產。ANU-1 規格列出 180 nm 解析度，以及在 4 吋晶圓上預估 10 Wafer/Hour 的產能。Mithra 是一體式量測工具，配有電動物鏡切換系統、高解析度相機及彎曲與翹曲量測附件，可進行高速自動樣品映射。Mithra 軟體可提供缺陷百分比、線條均勻度與拼接誤差等資料，並可取得低至 250 nm 的高解析度影像。ENKI 是高功率雷射平台，整合可調脈衝寬度的 1064 nm 雷射，脈衝寬度為 5-1000 ns，並搭配 booster 與 amplifier。ENKI 的輸出脈衝能量可超過 10 mJ，單一解決方案最多可組合四個元件，例如多部雷射、booster 與 amplifier。ENKI 輸出端還可加裝 532 nm 倍頻附件，以提供大於 1 mJ 的綠光。
能力與產品項目
- 無光罩直寫光學微影設備
- 自動光學樣品映射與翹曲量測