基本情報
| ブース | T9404 |
| 国 | US |
| ウェブサイト | www.nabulitho.com |
会社概要
Nabu Optical Systems は、フォトマスクをクリティカルパスから外すマスクレス直接描画リソグラフィ装置を製造しています。当社の主力システム ANU-1 は、設計ファイルから直接ウェーハや基板にパターンを形成し、レチクルもマスクショップのリードタイムも最小発注数量も不要です。研究開発から少量生産まで、フォトニクスおよび化合物半導体のライン、先端パッケージング、そしてマスクセットを発注できる速さを上回るペースで設計が変わるあらゆるチームのために作られています。デイトン大学のフォトニクス研究から生まれた Nabu は、光学工学、精密モーション制御、そして専用に設計された露光アーキテクチャを、標準的なクリーンルームのベイに収まるコンパクトなプラットフォームに統合しています。ANU-1 は、ベンチトップでの試作と少量生産の間のギャップを埋め、プロセスエンジニアが数週間ではなく数時間単位で反復できるように設計されています。ぜひブースにお立ち寄りいただき、ANU-1 の詳細やお客様のパターニング要件、パイロットプログラムおよび早期アクセスについてご相談ください。
展示製品
ANU-1マスクレス直接描画リソグラフィシステムは、設計ファイルからウェハや基板へ直接パターニングでき、R&Dから少量生産まで対応します。
対応領域・製品
- マスクレス直接描画リソグラフィ装置
- ANU-1は設計ファイルから直接ウエハをパターニング
- レチクル不要、マスク製作リードタイム不要、最低発注数量なし
- フォトニクス・化合物半導体ライン向け
- 標準クリーンルームベイに収まる小型プラットフォーム
- 工程エンジニアの反復を週単位から時間単位へ
- デイトン大学の光子研究からのスピンアウト