基本情報
| ブース | T9404 |
| 国 | US |
| ウェブサイト | www.nabulitho.com |
会社概要
Nabu Optical Systems は米国 Ohio 州 Dayton を拠点とする半導体技術企業で、物理フォトマスクをクリティカルパスから外す先進的なマスクレスリソグラフィ装置を開発しています。旗艦システム ANU-1 は設計ファイルからウェハと基板へ直接パターンを形成し、レチクル、マスク製作のリードタイム、最低発注数量を不要にします。ANU-1 は研究開発から少量生産までを対象とし、フォトニクス、化合物半導体ライン、先端パッケージング、マスクセットの発注より速く設計が変わるチームに対応します。Nabu Optical Systems は University of Dayton のフォトニクス研究から生まれ、光学工学、精密モーション制御、専用露光アーキテクチャを、標準クリーンルームの作業区画に収まるコンパクトなプラットフォームへ統合しています。ANU-1 はベンチトップ試作と少量生産をつなぎ、新しい物理マスクセットを再発注して待つことなく、プロセスエンジニアが数週間ではなく数時間単位で反復できるよう設計されています。Nabu は投影リソグラフィの速度と直接レーザー描画の柔軟性を組み合わせ、仮想マスクを用いて高価な物理マスクを不要にします。対象顧客は中小企業、革新的なスタートアップ、研究機関で、大規模需要を優先しがちなリソグラフィ市場で十分なサービスを受けにくい層を想定しています。Nabu は、組織の規模や開発サイクルが従来のリソグラフィ製品で重視される超大量需要に合わない場合の市場ギャップを埋める技術として位置付けています。装置は半導体製造、研究、新興チップ事業向けで、とくに 180 nm から 500 nm のノード領域を対象とし、R&D、大学、政府系研究所でも利用しやすい価格設定を目指すとしています。同社は、プラットフォームが従来方式より大幅に小さく、コストもその一部に抑えられ、製造工程を数か月短縮し、コストを数百万単位で削減することを目指すとしています。Nabu Optical Systems は EIPBN 2025、68th International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication の スタートアップコンテスト賞を受賞しています。
展示製品
ANU-1 は Nabu Optical Systems の旗艦高速直描光学リソグラフィ装置で、同社の熱投影リソグラフィプラットフォームを基盤とし、試作から少量生産までを対象とします。ANU-1 は 180 nm の解像度と、4 インチウェハで予測 10 Wafer/Hour のスループットを掲げています。Mithra は一体型の測定装置で、電動対物レンズ交換システム、高解像度カメラ、曲げ・反り測定アタッチメントを備え、高速な自動サンプルマッピングを行います。ソフトウェアは欠陥率、線幅均一性、スティッチング誤差などのデータと、250 nm までの高解像度画像を提供します。ENKI は高出力レーザープラットフォームで、5-1000 ns のパルス幅を調整できる 1064 nm レーザー、booster、amplifier を組み合わせます。出力パルスエネルギーは 10 mJ を超えることができ、複数レーザー、booster、amplifier など最大 4 要素を一つのソリューションに組み合わせられます。出力側には 532 nm の倍周波アタッチメントを追加でき、1 mJ を超える緑色光を提供できます。
対応領域・製品
- マスクレス直描光学リソグラフィ装置
- 自動光学サンプルマッピング・反り測定