基本資料
| 攤位 | P6118 |
| 國別 | US |
| 網站 | www.mspcorp.com |
公司簡介
乾式沉積（dry deposition）技術如何協助將半導體良率最大化？ 濕式方法較為簡單且能妥善處理較大的顆粒，但乾式沉積在顆粒粒徑準確度、均勻分布方面更佳，並能消除可能在精密應用中影響量測完整性的液體殘留。選擇能提供更佳精度的技術，可支持半導體製造商將良率最大化的首要目標。 8 月 24 日至 26 日——歡迎參加這場與明尼蘇達大學（University of Minnesota）合辦、受國際肯定的短期課程，並在明尼蘇達大學與 TSI Incorporated 使用現代儀器，於氣膠科學、顆粒量測與實務應用方面獲得實作經驗。 PID 調校如何優化液體流量控制器的效能以達成快速反應時間？ PID 調校透過調整比例（Proportional）、積分（Integral）與微分（Derivative）控制參數來優化液體流量控制器的效能。了解這些調整如何協助系統達成快至 0.3 秒、誤差在設定點 ±1% 以內的反應時間。 提升吸入劑溶離測試（inhaled dissolution testing）的再現性 若您在吸入劑溶離測試中為資料不一致所苦，請了解專為此目的打造的技術如何協助開發人員產生可重現、可供法規審查的結果。 MSP（TSI® 旗下事業部）在職場安全與健康方面的卓越表現已獲肯定。MSP 為 200 家獲此殊榮的雇主之一，該獎項由明尼蘇達安全委員會（Minnesota Safety Council）統籌辦理。 以改善健康與生產力來豐富人們的生活 MSP（TSI® 旗下事業部）為製藥吸入器測試、薄膜沉積，以及半導體製造中的表面缺陷檢測提供先進解決方案。 自 2016 年加入 TSI 以來，MSP 持續提供創新、高效能的工具，改善各產業的製程、產品品質與效率。
能力與產品項目
- 乾式沉積粒子量測
- 半導體表面缺陷檢查工具
- 快速響應液體流量控制器
- 薄膜沉積工具