기본 정보
| 부스 | Q6158 |
| 국가 | CA |
| 웹사이트 | meaglow.com/products |
회사 소개
Meaglow Ltd는 특허 hollow cathode technology를 기반으로 custom plasma source를 포함한 다양한 plasma source를 생산하며, 반도체 산업 특히 Atomic Layer Deposition (ALD) 분야에 hollow cathode plasma source를 공급합니다. 회사는 16개국에 190대 이상을 판매했고 original equipment manufacturers 대상 판매도 증가하고 있다고 밝힙니다. 고객에는 NASA Goddard Space Flight Center, LAM Research, US Naval Research가 포함되며 고객과 긴밀히 협력해 개별 공정 문제의 해결책을 찾습니다. 기존 ICP와 microwave plasma source에는 quartz나 sapphire로 만들어지는 dielectric window가 있고, 이 window가 식각되면 non-oxide films의 산소 오염원이 될 수 있습니다. Meaglow Ltd의 hollow cathodes는 전금속 구조이므로 이 특정 window 관련 오염원을 제거합니다. 비표준 요구가 있을 때는 custom plasma-source solutions를 개발할 수 있고 고객 필요에 따라 custom-made ALD systems를 제작한 경험도 있습니다. 이 ALD 시스템 내용은 회사의 특허 hollow cathode plasma-source technology 설명과 별도로 표현합니다.
전시 제품
Meaglow Ltd의 제품 범위에는 Series 50 Hollow Cathode, UHV Series Hollow Cathode, Large Area Hollow Cathode, thermal ALD systems용 Thermal Hollow Cathode 솔루션, Meaglow ALD/CVD Research Reactor와 Series 16 Hollow Cathode가 포함됩니다. Series 50은 대표적인 hollow cathode plasma source 중 하나로 ALD뿐 아니라 oxidation과 PECVD에도 사용됩니다. 더 넓은 면적이 필요한 응용을 위해 larger-area hollow-cathode designs를 개발하고 구현했습니다. 기존 thermal ALD equipment에는 thermal ALD systems를 plasma-assisted ALD로 경제적으로 전환하는 여러 솔루션을 제공합니다. ALD/CVD Research Reactor는 Meaglow의 ALD plasma technology와 CVD pulse deposition 관련 특허 기술을 기반으로 합니다. Series 16 Mini Plasma source는 NASA Goddard Space Flight Center용으로 개발한 mini plasma source에서 출발했습니다. 반도체 증착 분야에서 hollow cathode plasma technology는 고품질 nitride layers용으로 제시되며 회사는 산소 오염을 크게 줄인다고 설명합니다. 고객 요구의 상당 부분이 custom solutions이므로 많은 plasma source가 made-to-order로 제작되지만 표준 제품도 있습니다. Series 50은 NW-50 flange에 장착되며 동등한 conflat arrangement도 제공됩니다. 기존 시스템 conversion도 가능하고 일반적인 전환 방식에 대한 자료를 제공합니다. 개발된 가장 큰 source는 12″, 3000 watt system이며 더 큰 시스템에 대한 컨설팅 경험도 있습니다. hollow-cathode 채택의 이점으로 nitride materials의 낮은 산소 오염, 높은 growth rates, 낮은 plasma damage levels, 단순 설계에 따른 비용 효율을 제시합니다. 새로운 ALD materials에서 hollow cathode plasma sources를 ICP와 CCP의 대안으로 설명하며 간단한 설계로 ALD systems에 적용해 왔습니다. ICP source를 hollow cathode source로 직접 교체한 ALD 비교에서 더 높은 GPC는 재료에 따라 낮은 plasma damage, 낮은 oxygen contamination 또는 두 효과의 조합으로 설명됩니다. catalog 범위를 넘어 made-to-order plasma source와 고객 요구형 custom-made ALD systems도 지원합니다.
역량 및 제품
- ALD용 중공 음극 플라즈마 소스
- 맞춤형 중공 음극 플라즈마 소스
- UHV 중공 음극 플라즈마 소스
- 대면적 중공 음극 플라즈마 소스
- 열 ALD에서 플라즈마 ALD로 개조
- ALD/CVD 연구 반응기
- 맞춤형 ALD 시스템
- ALD·산화·PECVD용 중공 음극 플라즈마