基本情報
| ブース | Q6158 |
| 国 | CA |
| ウェブサイト | meaglow.com/products |
会社概要
Meaglow Ltd は、特許取得済みの hollow cathode technology を基盤に、custom plasma source を含む各種 plasma source を製造し、半導体産業、とりわけ Atomic Layer Deposition (ALD) 分野へ hollow cathode plasma source を提供しています。これまでに 16 か国へ 190 台を超える装置を販売し、original equipment manufacturers 向けの販売も増加しているとしています。顧客には NASA Goddard Space Flight Center、LAM Research、US Naval Research が含まれ、顧客と密接に協力して個別のプロセス課題に対する解決策を検討します。従来の ICP や microwave plasma source には、quartz や sapphire で作られることの多い dielectric window があり、この window がエッチングされると non-oxide films の酸素汚染源になる可能性があります。Meaglow Ltd の hollow cathodes は全金属製で、この特定の window 由来の汚染源を排除します。標準外の要求には custom plasma-source solutions を開発でき、顧客ニーズに応じて custom-made ALD systems を構築した実績もあります。この ALD システムの記述は、特許 hollow cathode plasma-source technology の説明と分けて扱います。
展示製品
Meaglow Ltd の製品には、Series 50 Hollow Cathode、UHV Series Hollow Cathode、Large Area Hollow Cathode、thermal ALD systems 向けの Thermal Hollow Cathode ソリューション、Meaglow ALD/CVD Research Reactor、Series 16 Hollow Cathode が含まれます。Series 50 は代表的な hollow cathode plasma source の一つで、ALD に加えて oxidation と PECVD にも使用されます。より広い面積を必要とする用途向けには larger-area hollow-cathode designs を開発・実装しています。既存の thermal ALD equipment については、thermal ALD systems を plasma-assisted ALD へ経済的に変換する複数の方法を開発しています。ALD/CVD Research Reactor は Meaglow の ALD plasma technology と CVD pulse deposition に関する特許技術を基盤とします。Series 16 Mini Plasma source は NASA Goddard Space Flight Center 向けに開発した mini plasma source から生まれました。半導体成膜では hollow cathode plasma technology を高品質 nitride layers に用い、酸素汚染の大幅な低減を説明しています。顧客要求の多くが custom solutions であるため、多くの plasma source は made-to-order で製作されますが、標準品もあります。Series 50 は NW-50 flange に取り付けられ、同等の conflat arrangement も選択できます。既存システムの conversion も可能で、一般的な変換方法について資料を提供します。開発済みの最大 source は 12″、3000 watt system で、さらに大型のシステムについてもコンサルティング実績があります。hollow-cathode 採用の利点として、nitride materials の低酸素汚染、高い growth rates、低い plasma damage levels、シンプルな設計によるコスト効果を説明しています。新しい ALD materials に対して hollow cathode plasma sources を ICP や CCP の代替として位置づけ、簡素な設計による ALD systems への導入を進めています。ICP source を hollow cathode source に直接置換した ALD 比較では、より高い GPC を、材料に応じた低 plasma damage、低 oxygen contamination、または両者の組み合わせに関連づけています。catalog 外でも made-to-order plasma source と custom-made ALD systems に対応します。
対応領域・製品
- ALD用中空陰極プラズマ源
- カスタム中空陰極プラズマ源
- UHV中空陰極プラズマ源
- 大面積中空陰極プラズマ源
- 熱ALDからプラズマALDへの改造
- ALD/CVD研究リアクター
- カスタムALDシステム
- ALD・酸化・PECVD向け中空陰極プラズマ