基本資料
| 攤位 | Q6158 |
| 國別 | CA |
| 網站 | meaglow.com/products |
公司簡介
Meaglow Ltd 生產以其專利 hollow cathode technology 為基礎的多種 plasma source，包括 custom plasma source，並向半導體產業供應 hollow cathode plasma source，特別聚焦 Atomic Layer Deposition (ALD) 領域。公司表示已向 16 個國家銷售超過 190 台，對 original equipment manufacturers 的銷售也持續增加。具名客戶包括 NASA Goddard Space Flight Center、LAM Research 與 US Naval Research，公司並與客戶密切合作，針對個別製程問題尋找解決方案。傳統 ICP 與 microwave plasma source 使用 dielectric window，常見材質為 quartz 或 sapphire；此類 window 可能被蝕刻，進而成為 non-oxide films 的氧污染來源。Meaglow Ltd 的 hollow cathodes 採全金屬結構，因此可去除這一特定的 window 相關氧污染來源。當客戶需求需要非標準系統時，公司可開發 custom plasma-source solutions，也曾在需求出現時製作 custom-made ALD systems；這項 ALD 系統能力與公司對專利 hollow cathode plasma-source technology 的描述分開表述。
展出產品
Meaglow Ltd 的產品包括 Series 50 Hollow Cathode、UHV Series Hollow Cathode、Large Area Hollow Cathode、用於 thermal ALD systems 的 Thermal Hollow Cathode 解決方案、Meaglow ALD/CVD Research Reactor 與 Series 16 Hollow Cathode。Series 50 是公司較常用的 hollow cathode plasma source 之一，常見於 ALD，也可用於 oxidation 與 PECVD。公司已開發並實作 larger-area hollow-cathode designs，以支援需要更大作用面積的應用。對既有 thermal ALD equipment，Meaglow Ltd 開發多種方案，可將 thermal ALD systems 經濟地轉換為 plasma-assisted ALD。ALD/CVD Research Reactor 建立於 Meaglow 的 ALD plasma technology 與 CVD pulse deposition 專利突破之上。Series 16 Mini Plasma source 源自為 NASA Goddard Space Flight Center 開發的 mini plasma source。半導體沉積方面，hollow cathode plasma technology 被用於高品質 nitride layers，公司表示其 plasma source 可大幅降低氧污染。許多客戶需要 custom solutions，因此不少 plasma source 採 made-to-order；同時也有標準產品。Series 50 使用 NW-50 flange，也可提供對應的 conflat arrangement。既有系統亦可進行 conversion，公司提供常見轉換方式的文件。已開發的最大 source 為 12″、3000 watt 系統，並曾對更大型系統提供諮詢。公司對 hollow-cathode 採用理由的說明包括 nitride materials 的較低氧污染，也提到更高 growth rates、較低 plasma damage levels，以及簡單設計帶來的成本效益。Meaglow Ltd 將 hollow cathode plasma sources 定位為新型 ALD materials 下 ICP 與 CCP 的替代方案，並表示其簡化設計已在 ALD systems 中成功導入。直接以 hollow cathode source 取代 ICP source 的 ALD 比較結果中，較高 GPC 被歸因於較低 plasma damage、較低 oxygen contamination，或兩者共同作用。公司亦持續支援 made-to-order plasma source 與客戶需求驅動的 custom-made ALD systems。
能力與產品項目
- ALD 用中空陰極電漿源
- 客製中空陰極電漿源
- UHV 中空陰極電漿源
- 大面積中空陰極電漿源
- 熱式 ALD 轉電漿 ALD 改裝
- ALD/CVD 研究反應器
- 客製 ALD 系統
- ALD/氧化/PECVD 中空陰極電漿