기본 정보
| 부스 | L1128 |
| 국가 | TW |
| 웹사이트 | www.lasertec.co.jp/en |
회사 소개
Lasertec Taiwan, Inc.는 대만 신주에 설립되어 있습니다. Lasertec Taiwan, Inc.는 일본 Lasertec Corporation과 관련된 대만 법인이며 회사 등록 정보에서 Lasertec Corporation을 대표하는 이사들이 확인되어 대만 법인과 일본 그룹의 관계를 뒷받침합니다. Lasertec의 사업은 응용 광학을 기반으로 반도체, 평판 디스플레이, 기타 산업에 inspection and measurement solutions를 제공하는 데 특화되어 있습니다. 그룹은 R&D 중심의 fab-lite 기업으로 설명되며 대만 법인도 반도체와 디스플레이 검사 및 계측 장비 지원과 연결됩니다. 응용 광학은 Lasertec의 검사 및 계측 제품을 가능하게 하는 핵심 기술입니다. 빛을 검사와 측정에 활용하는 가능성을 추구하면서 자체 기술을 축적했고 높은 해상도를 얻기 위해 레이저 광원을 사용한 laser microscope 개발에서 시작했습니다. 응용 광학 기술에는 전체 초점 3차원 이미지를 만드는 confocal optics, 반도체 미세화에 따른 단파장 리소그래피 수요에 대응하는 DUV/EUV optics, 빛의 위상에서 매우 작은 변화를 정밀 측정하는 interferometry가 포함됩니다. 이러한 핵심 광학 기술을 주변 기술과 결합해 각 응용과 고객 요구에 맞는 솔루션을 제공합니다. 대만 법인의 등록 사업 범위에는 정밀 기기, 컴퓨터 및 기계 관련 장비, 광학 기기, 전자 부품, 전자 소재, 소프트웨어 서비스, 국제 무역, 전기 및 전자 제품 수리가 포함됩니다.
전시 제품
Lasertec의 반도체 관련 사업에는 mask blanks, photomasks, wafers용 검사 및 계측 시스템이 포함됩니다. 제품 목록에는 actinic EUV patterned-mask defect inspection system ACTIS A300 series, EUV mask-blanks defect inspection/review system ABICS series E320, EUV mask backside inspection/cleaning system BASIC series가 있습니다. 또한 TSV backside-grinding process measurement system BGM series, fully automatic wafer measurement system BIM series, high-sensitivity internal defect inspection/review system CIRIUS series, high-sensitivity wafer-edge inspection system CIEL series를 제공합니다. 추가 제품은 FPD photomask defect inspection system CLIOS G10 series, GaN wafer defect inspection/review system GALOIS211, mask inspection system MATRICS X9ULTRA series, mask-blanks defect inspection/review system MAGICS series M9750/M9751입니다. EUV lithography가 양산에 도입되고 IC 설계 미세화와 새로운 소재 및 구조 채택이 진행되는 반도체 제조에서 검사와 계측 시스템이 중요한 역할을 한다고 설명합니다. photomask 분야에서는 EUV mask-blank inspection system이 de facto standard tool이 되었고 mask-inspection systems가 첨단 리소그래피에서 큰 시장 점유를 확보했다고 밝힙니다. 웨이퍼 분야에는 wafer-edge inspection, whole-wafer film-thickness inspection, silicon-thickness measurement, SiC-wafer inspection 솔루션이 있습니다. FPD 분야에서는 FPD photomask inspection systems를 제공하며 고해상도 FPD 포토마스크 검사 시스템이 업계 de facto standard tool 지위를 얻었다고 설명합니다. hybrid laser microscopes는 반도체 소재, 투명 필름, 코팅 소재, 무기 및 유기 소재, 생물 샘플, 금속 부품, 플라스틱 부품의 R&D와 품질 관리에 사용됩니다. 이 제품들은 laser microscopy, confocal optics, DUV/EUV optics, interferometry를 결합한 응용 광학을 공통 기술 기반으로 합니다.
역량 및 제품
- 응용 광학 검사·측정 솔루션
- EUV 패턴 마스크 결함 검사
- EUV 마스크 블랭크 결함 검사·리뷰
- EUV 마스크 후면 검사·세정
- TSV 후면 연마 공정 측정
- 웨이퍼 완전 자동 측정
- 웨이퍼 내부 결함 검사·리뷰
- 웨이퍼 에지 검사
- FPD 포토마스크 결함 검사
- GaN 웨이퍼 결함 검사·리뷰
- 포토마스크 결함 검사
- 마스크 블랭크 결함 검사·리뷰
- 전 웨이퍼 막두께 검사
- 실리콘 두께 측정
- SiC 웨이퍼 검사
- 하이브리드 레이저 현미경