基本資料
| 攤位 | L1128 |
| 國別 | TW |
| 網站 | www.lasertec.co.jp/en |
公司簡介
雷泰光電股份有限公司設立於台灣新竹。雷泰光電股份有限公司是與日本 Lasertec Corporation 相關的台灣實體，公司登記資訊顯示其董事中有代表 Lasertec Corporation 的人員，支持台灣實體與日本集團之間的關係。Lasertec 的核心業務是以應用光學為基礎，為半導體、平面顯示器與其他產業提供 inspection and measurement solutions。更廣的集團被描述為研發導向的 fab-lite 公司，使雷泰光電股份有限公司的定位與半導體及顯示器檢查量測支援相連結，而非另一家同名公司。應用光學是 Lasertec 檢查與量測產品的核心技術。Lasertec 透過探索光在檢查與量測中的運用累積自有技術，起點包括利用雷射光源取得高解析度的 laser microscope。其應用光學技術包含可建立全焦三維影像的 confocal optics、因半導體微縮而用於更短波長微影的 DUV/EUV optics，以及可精確量測光相位微小位移的 interferometry。Lasertec 把這些核心光學技術與周邊技術結合，依不同應用與客戶需求提供解決方案。雷泰光電股份有限公司登記營業項目包括精密儀器、電腦與機械相關設備、光學儀器、電子零組件、電子材料、軟體服務、國際貿易，以及電器與電子產品修理。
展出產品
Lasertec 的半導體相關業務包括 mask blanks、photomasks 與 wafers 的檢查及量測系統。列出的半導體檢查產品包括actinic EUV 圖形光罩缺陷檢查裝置 ACTIS A300 系列、EUV mask blanks 缺陷檢查/複檢裝置 ABICS 系列 E320，以及 EUV 光罩背面檢查/清潔裝置 BASIC 系列。其他系統包括 TSV 背面研磨製程量測裝置 BGM 系列、晶圓全自動量測裝置 BIM 系列、高靈敏度內部缺陷檢查/複檢裝置 CIRIUS 系列與高靈敏度晶圓邊緣檢查裝置 CIEL 系列。另有 FPD 光罩缺陷檢查裝置 CLIOS G10 系列、GaN 晶圓缺陷檢查/複檢裝置 GALOIS211、光罩檢查裝置 MATRICS X9ULTRA 系列，以及mask blanks 缺陷檢查/複檢裝置 MAGICS 系列 M9750/M9751。隨著 EUV lithography 導入量產、IC 設計持續微縮並採用新材料與新結構，Lasertec 將檢查與量測系統描述為半導體製造流程中的重要工具。在 photomask 檢查領域，Lasertec 表示其 EUV mask-blank inspection system 已成為 de facto standard tool，mask-inspection systems 也在先進微影領域取得大幅市場占有。晶圓相關方案包括 wafer-edge inspection、whole-wafer film-thickness inspection、silicon-thickness measurement 與 SiC-wafer inspection，以回應不同客戶需求。平面顯示器方面，公司提供 FPD photomask inspection systems，並表示其高解析度 FPD 光罩檢查系統已成為業界的 de facto standard tool。Lasertec 也提供兼具高效能與多功能的 hybrid laser microscopes，應用於半導體材料、透明薄膜、塗層材料、無機與有機材料、生物樣品、金屬零件及塑膠元件的 R&D 與品質控制。這些系統共同以應用光學為技術基礎，結合 laser microscopy、confocal optics、DUV/EUV optics 與 interferometry 執行檢查與量測。
能力與產品項目
- 應用光學檢查量測方案
- EUV 圖形光罩缺陷檢查
- EUV 光罩空白片缺陷檢查複檢
- EUV 光罩背面檢查清洗
- TSV 背面研磨製程量測
- 晶圓全自動量測
- 晶圓內部缺陷檢查複檢
- 晶圓邊緣檢查
- FPD 光罩缺陷檢查
- GaN 晶圓缺陷檢查複檢
- 光罩缺陷檢查
- 光罩空白片缺陷檢查複檢
- 全晶圓膜厚檢查
- 矽厚度量測
- SiC 晶圓檢查
- 混合雷射顯微鏡