기본 정보
| 부스 | K2188 |
| 국가 | TW |
| 웹사이트 | www.komico.com/eng |
회사 소개
KoMiCo Technology는 반도체 제조용 장치와 공구를 위한 정밀세정 및 특수코팅 사업을 MiCo에서 분리하는 과정에서 출범했습니다. MiCo와 KoMiCo Technology는 반도체 및 LCD 제조에 사용되는 기능성 소모 부품의 정밀세정 및 재생 기술을 개발해 왔습니다. 1998년 4월 이후 연구개발을 통해 세정 공정을 Etch에서 CVD와 Sputter를 포함한 반도체 공정으로 확대했고 LCD, PDP, OLED 등 디스플레이 응용으로도 확장했습니다. KoMiCo Technology는 작업 환경, 서비스 품질, 납기를 지속적으로 개선하며 정밀세정과 특수코팅 기술로 고객의 원재료 비용 절감과 수율 향상에 기여합니다. 또한 태양에너지와 고온 공정 산업에 사용되는 탄소 복합재료를 통해 사업 범위를 확대했습니다. 세정 및 코팅 기술은 반도체, 디스플레이, 태양광 산업에 적용되며 공정 조건 유지와 미세 오염 제어에 중점을 둡니다.
전시 제품
KoMiCo Technology의 주요 사업 분야는 정밀세정, 특수코팅, 전문분석입니다. 정밀세정과 특수코팅은 반도체 장비 부품의 오염물과 입자를 제거하고 표면 상태를 복원해 장비 수명 연장, 소모 부품 사용 감소, 공정 수율 유지, 비용 경쟁력 향상을 지원합니다. 미세 오염 제어는 장비와 부품을 최적의 공정 상태로 유지해 공정 수율과 생산성을 지원하는 동시에 생산 비용을 줄이고 장비 수명을 늘리며 PM cycle을 개선합니다. 2001년부터 KoMiCo Technology는 자체 MES를 개발하고 운영해 기술, 생산, 품질, 물류를 실시간으로 제어하고 검증하며 정밀세정과 코팅 분야의 데이터 축적과 분석을 지원합니다. 회사는 오염물 제거 과정에서 고기능 장비 부품의 손상을 최소화하고 장비 효율을 높이기 위해 첨단 세정 및 코팅 기술과 품질보증 서비스를 제공합니다. 정밀세정 공정은 기본 소재 손상을 최소화하면서 입자와 이온 불순물을 제거하고 손상된 표면을 관리하며 제품 수명 연장, 균일도 개선, 미세 오염 제어로 각 공정 요구에 대응합니다. 세정 기술 발전 단계에는 CO2 Cleaning, Bead, Arc Coating을 이용한 0.3 ㎛ 입자 제어, 최적화된 물리 세정과 표면 처리를 통한 0.1μm 입자 제어, 나노 세정과 품질관리 개선을 통한 0.04㎛ 입자 제어, SMART Factory 자동화와 유연한 recipe, 미세 공정 제어, 친환경 세정 기술, 제품 수명 연장, 납기 단축을 결합한 0.01um 입자 제어가 포함됩니다. CuStrip™, CleanPeel™, SurFinish™, SurfRestore™는 기본 소재 손상 감소, 부품 수명 연장, 입자원 감소, 가스 흐름 균일도 유지, 입자 개선, 공정 손상 표면 복원을 위한 주요 세정 기술입니다. CuStrip™은 Cu 공정의 오염물 제거에 사용되어 기본 소재 etch rate를 낮추고 Al Collimator와 AlCoverRing 등 부품 수명을 연장하며 CleanPeel™은 부품 손상을 줄이고 PVD Process Shield 등의 수명을 연장합니다. SurFinish™는 Al CVD Showerhead의 기본 소재와 홀 손상을 줄이고 CVD Process Showerhead의 입자원을 감소시키며 SurfRestore™는 quartz 제품의 plasma etching 표면 손상을 복원하고 Quartz Window와 Quartz pedestal 등에서 가스 흐름 균일도 유지, 입자 개선, 수명 연장을 지원합니다.
역량 및 제품
- 반도체 장비 부품 정밀 세정
- 반도체 장비 부품 특수 코팅
- 기능성 소모 부품 리퍼비시
- CO2 세정
- 나노 세정 기술
- 친환경 세정 기술
- 플라즈마 식각으로 손상된 석영 부품 표면 복원
- 탄소 복합재료 개발