基本資料
| 攤位 | K2188 |
| 國別 | TW |
| 網站 | www.komico.com/eng |
公司簡介
KoMiCo Technology 源自 MiCo，透過分拆半導體製造設備與治具所用的精密清洗與特殊塗層業務而形成。MiCo 與 KoMiCo Technology 已開發用於半導體與 LCD 製造功能性耗材零件的精密清洗與翻新技術。自 1998 年 4 月起，研發工作將清洗製程從 Etch 擴展至包括 CVD 與 Sputter 在內的半導體製程，並延伸至 LCD、PDP 與 OLED 等顯示應用。KoMiCo Technology 持續改善工作環境、服務品質與交期，其精密清洗與特殊塗層技術協助客戶降低原料成本並提升良率。公司也透過開發用於太陽能與高溫製程產業的碳複合材料擴展業務。其清洗與塗層技術服務半導體、顯示器與太陽光電產業，重點包括維持製程條件與控制微污染。
展出產品
KoMiCo Technology 的主要事業領域為精密清洗、特殊塗層與專業分析。其精密清洗與特殊塗層用於去除半導體設備零件上的污染物與粒子並恢復表面狀態，以延長設備壽命、減少耗材零件使用、維持製程良率並提升成本競爭力。微污染控制用於讓設備與零組件維持最佳製程狀態，支援製程良率與生產力，同時降低生產成本、延長設備壽命並改善 PM cycle。自 2001 年起，KoMiCo Technology 自行開發並運行 MES，即時控制與驗證技術、生產、品質與物流，並支援精密清洗與塗層領域的資料累積與分析。公司提供先進清洗與塗層技術及品質保證服務，以降低污染物去除過程對高功能設備零組件的損傷並提升設備效率。其精密清洗製程去除粒子與離子雜質，同時降低基材損傷、控制受損表面、延長產品壽命、改善均勻性並控制微污染，以符合不同製程需求。其清洗技術發展階段包括以 CO2 Cleaning、Bead 與 Arc Coating 進行 0.3 ㎛ 粒子控制，以最佳化物理清洗與表面處理進行 0.1μm 粒子控制，以奈米清洗與品質管理改善進行 0.04㎛ 粒子控制，以及結合 SMART Factory 自動化、彈性 recipe、微製程控制、環保清洗技術、延長產品壽命與縮短交期的 0.01um 粒子控制。CuStrip™、CleanPeel™、SurFinish™ 與 SurfRestore™ 是主要清洗技術，用於降低基材損傷、延長零件壽命、減少粒子來源、維持氣流均勻性、改善粒子問題，以及修復製程造成的表面損傷。CuStrip™ 用於 Cu 製程的污染物去除，可降低基材 etch rate 並延長 Al Collimator、AlCoverRing 等產品的零件壽命，CleanPeel™ 則用於降低零件損傷並延長 PVD Process Shield 等產品的壽命。SurFinish™ 用於改善 Al CVD Showerhead 基材與孔洞損傷，並在 CVD Process Showerhead 上降低粒子來源，SurfRestore™ 則修復 quartz 產品的 plasma etching 表面損傷，並支援 Quartz Window、Quartz pedestal 等產品的氣流均勻性、粒子改善與壽命延長。
能力與產品項目
- 半導體設備零件精密清洗
- 半導體設備零件特殊塗層
- 功能性耗材零件翻新
- CO2 清洗
- 奈米清洗技術
- 環保清洗技術
- 電漿蝕刻石英零件表面損傷修復
- 碳複合材料開發