基本資料
| 攤位 | K2188 |
| 國別 | TW |
| 產品分類 | Cleaning; Washing Equipment for Assembly & Packaging · Memory Test Systems · Process Chamber Components; Graphite; Carbon Fiber Carbon (CFC); Pyrolytic Boron Nitride (PBN) · Substrate Materials · Chucks for Wafer and other Substrates · Parts Cleaning; Micro Contamination · Repair; Rebuild; Install Equipment; Maintenance Services; Spare Parts |
| 網站 | www.komico.com/eng |
公司簡介
精密清洗與特殊塗層。KoMiCo 成立於 2013 年，由 MiCo（成立於 1996 年）分拆出半導體製造所用元件與治具的精密清洗及特殊塗層業務而成。MiCo 與其關係企業 KoMiCo 已開發出半導體／LCD 製造功能性耗材零件的精密清洗與翻新等尖端技術。自 1998 年 4 月起，我們研發中心持續的研發使清洗製程不斷擴展：從蝕刻（Etch）擴及包括 CVD、濺鍍（Sputter）在內的所有半導體製造製程，並推動 MiCo 進入顯示器事業，涵蓋 LCD、PDP 與 OLED 等。KoMiCo 透過不斷改善工作環境、提升服務品質與縮短交期，積極滿足客戶的需求與要求。我們也透過開發頂尖的精密清洗與特殊塗層技術，協助客戶降低原料成本並提升良率。此外，我們因開發出應用於太陽能產業與高溫製程產業的碳複合材料，而拓展了業務範圍。KoMiCo 不僅將在半導體製造的元件與治具，也將在其他高科技產業的精密清洗與特殊塗層領域成長為領導企業。KoMiCo 將致力於成為「全球第一的腔體（Chamber）解決方案供應商」，藉由為客戶創造價值與利潤而與客戶共同成長。
能力與產品項目
- CVD 製程機台清洗
- 半導體功能性耗材零件翻新
- 半導體製造元件與機台特殊鍍膜
- 半導體製造機台精密清洗
- 濺鍍製程機台清洗
- 蝕刻製程機台清洗
- 製程腔體清洗與鍍膜解決方案