基本情報
| ブース | K2188 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.komico.com/eng |
会社概要
KoMiCo Technologyは、半導体製造で使用されるデバイスと治具向けの精密洗浄・特殊コーティング事業をMiCoから分離することで成立した事業体です。MiCoとKoMiCo Technologyは、半導体およびLCD製造で使用される機能性消耗部品向けの精密洗浄・再生技術を開発してきました。1998年4月以降、研究開発により洗浄工程をEtchからCVD、Sputterを含む半導体工程へ拡大し、LCD、PDP、OLEDなどのディスプレイ用途にも展開しました。KoMiCo Technologyは、作業環境、サービス品質、納期を継続的に改善し、精密洗浄と特殊コーティング技術によって顧客の原材料コスト削減と歩留まり向上に貢献しています。また、太陽エネルギー産業と高温プロセス産業で使用されるカーボン複合材料によって事業範囲を拡大しています。洗浄・コーティング技術は半導体、ディスプレイ、太陽光発電産業に適用され、プロセス条件の維持と微小汚染の制御に重点を置いています。
展示製品
KoMiCo Technologyの主要事業分野は、精密洗浄、特殊コーティング、専門分析です。精密洗浄と特殊コーティングは、半導体装置部品から汚染物と粒子を除去し表面状態を回復させることで、装置寿命の延長、消耗部品使用の削減、プロセス歩留まりの維持、コスト競争力の向上を支援します。微小汚染制御は、装置と部品を最適なプロセス状態に保ち、歩留まりと生産性を支えながら、生産コストの削減、装置寿命の延長、PM cycleの改善に寄与します。2001年以降、KoMiCo Technologyは独自のMESを開発・運用し、技術、生産、品質、物流をリアルタイムで管理・検証し、精密洗浄・コーティング分野のデータ蓄積と分析を支援しています。同社は、高機能装置部品の汚染除去時の損傷を最小化し、装置効率を高めるため、高度な洗浄・コーティング技術と品質保証サービスを提供します。精密洗浄工程は、母材損傷を抑えながら粒子とイオン不純物を除去し、損傷表面の管理、製品寿命の延長、均一性改善、微小汚染制御によって各工程要求に対応します。洗浄技術の発展段階には、CO2 Cleaning、Bead、Arc Coatingによる0.3 ㎛粒子制御、最適化した物理洗浄と表面処理による0.1μm粒子制御、ナノ洗浄と品質管理改善による0.04㎛粒子制御、SMART Factory自動化、柔軟なrecipe、微細プロセス制御、環境配慮型洗浄技術、製品寿命の延長、納期短縮による0.01um粒子制御が含まれます。CuStrip™、CleanPeel™、SurFinish™、SurfRestore™は、母材損傷の低減、部品寿命延長、粒子源低減、ガス流均一性維持、粒子改善、プロセス損傷表面の回復に用いる主要洗浄技術です。CuStrip™はCu工程での汚染除去に使用され、母材etch rateを低減し、Al CollimatorやAlCoverRingなどの部品寿命を延長し、CleanPeel™は部品損傷を抑えてPVD Process Shieldなどの寿命を延長します。SurFinish™はAl CVD Showerheadの母材・穴損傷に対応し、CVD Process Showerheadの粒子源低減を支援し、SurfRestore™はquartz製品のplasma etchingによる表面損傷を回復し、Quartz WindowとQuartz pedestalなどでガス流均一性、粒子改善、寿命延長を支援します。
対応領域・製品
- 半導体装置部品の精密洗浄
- 半導体装置部品の特殊コーティング
- 機能性消耗部品の再生
- CO2 洗浄
- ナノ洗浄技術
- 環境配慮型洗浄技術
- プラズマエッチングによる石英部品表面損傷の修復
- 炭素複合材料の開発