기본 정보
| 부스 | N0886 |
| 국가 | TW |
회사 소개
KOKUSAI ELECTRIC CORP. https://www.kokusai-electric.com/en/ 성공을 위한 공정 박막 형성 및 열처리 공정은 반도체 형성에 관련된 수백 가지 공정 가운데 가장 중요한 공정입니다. KOKUSAI ELECTRIC (KE)는 세계 최고 수준의 박막 형성 기술을 기반으로 반도체 제조 장비를 개발·생산하여 세계 최상위 반도체 제조업체에 공급합니다. 당사는 반도체의 기능 고도화와 고성능화를 지원하고 있습니다. 지속적으로 성장하는 반도체 시장에서 당사의 사명은 박막 형성 기술을 기반으로 한 최첨단 기술을 갖추고 박막 형성 분야의 업계 선도기업이 되는 것입니다. 제품 BCD (Balance Controlled Deposition) Technology를 통한 박막 형성. KOKUSAI ELECTRIC의 독자적인 BCD 기술은 높은 종횡비에 대해 우수한 단차 피복성과 조성비 제어를 갖춘 고품질 박막 형성을 가능하게 합니다. 새로운 에너지원에 의한 처리 당사는 높은 종횡비에 대응하는 산화 및 막질 개선 기술과 빛, 플라즈마 등 다양한 에너지를 활용한 고부가가치 처리 기술을 도입했습니다.
전시 제품
증착 공정 장비는 웨이퍼에 회로를 형성하기 위해 나노스케일 박막을 만듭니다. 최근 반도체 소자가 삼차원화되고 더욱 복잡해지면서 웨이퍼 표면도 더 복잡해졌습니다. 이에 따라 고난도 증착에 대한 수요가 증가했습니다. 당사의 증착 공정 장비는 LP-CVD *1, 산화, 어닐링(저온 및 고온), 확산 및 ALD *2 기술을 지원하며, 전 세계 반도체 소자 제조업체로부터 높은 평가를 받고 있습니다. 이 열처리 플랫폼은 구조가 더욱 정밀하고 미세해지는 차세대 소자에서 고난도 증착과 높은 생산성을 모두 구현할 수 있습니다.
역량 및 제품
- BCD 박막 성막
- 고품질 박막 성막
- 고종횡비 산화 및 막질 개선
- 광·플라즈마 에너지 처리
- LP-CVD 성막
- 저온·고온 어닐링
- 확산 공정
- ALD 박막 증착