基本資料
| 攤位 | N0886 |
| 國別 | TW |
| 產品分類 | Deposition; Chemical Vapor (CVD); MOCVD; PECVD; LPCVD; ALD; REALD; MVD · Epitaxy Equipment; Epi Reactors; Molecular Beam Epitaxy (MBE); Atomic Layer Epitaxy (ALE) · Thermal Processing - Diffusion; Oxidation; Annealing; RTA; RTP Equipment |
公司簡介
國際電氣株式會社（KOKUSAI ELECTRIC CORP.） https://www.kokusai-electric.com/en/ 成功的製程。在形成半導體所涉及的數百道製程中，成膜與熱處理製程最為重要。國際電氣（KE）以世界級的成膜技術為基礎，開發並生產半導體製造設備，並交付給全球頂尖的半導體製造商。我們支援半導體日益提升的高功能性與高效能。在持續成長的半導體市場中，我們的使命是以成膜技術為基礎運用尖端技術，並成為成膜領域的業界領導者。產品：透過 BCD（Balance Controlled Deposition，平衡控制沉積）技術進行薄膜成膜。國際電氣專有的 BCD 技術，能在高深寬比下實現具優異階梯覆蓋性與成分比控制的高品質薄膜成膜。透過新能源進行的處理：我們採用了相容於高深寬比的氧化與膜質改善技術，並透過運用光、電漿等各種能源實現高附加價值的處理技術。
能力與產品項目
- ALD 沉積設備
- BCD (Balance Controlled Deposition) 薄膜成膜技術
- CVD、MOCVD、PECVD 與 LPCVD 沉積設備
- epitaxy equipment 與 epi reactors
- 具組成比例控制的高階梯覆蓋薄膜成膜
- 半導體製程用光與 plasma 能量處理
- 成膜半導體製造設備
- 熱製程半導體製造設備
- 高深寬比結構的氧化與膜質改善