基本情報
| ブース | N0886 |
| 国 | TW |
| 製品カテゴリ | Deposition; Chemical Vapor (CVD); MOCVD; PECVD; LPCVD; ALD; REALD; MVD · Epitaxy Equipment; Epi Reactors; Molecular Beam Epitaxy (MBE); Atomic Layer Epitaxy (ALE) · Thermal Processing - Diffusion; Oxidation; Annealing; RTA; RTP Equipment |
会社概要
KOKUSAI ELECTRIC CORP.（国際電気株式会社） https://www.kokusai-electric.com/en/ Process for Success。半導体の形成に関わる数百もの工程の中で、成膜・熱処理工程は最も重要です。KOKUSAI ELECTRIC（KE）は、世界トップクラスの成膜技術をもとに半導体製造装置を開発・生産し、世界有数の半導体メーカーにお届けしています。当社は半導体のますます高まる高機能化・高性能化を支えています。成長を続ける半導体市場における当社の使命は、成膜技術を基盤とした最先端技術を活かし、成膜分野で業界のリーダーとなることです。製品：BCD（Balance Controlled Deposition）技術による薄膜形成。KOKUSAI ELECTRIC 独自の BCD 技術は、高アスペクト比に対して優れたステップカバレッジと組成比制御を備えた高品質な薄膜形成を可能にします。新たなエネルギー源による処理：高アスペクト比に対応した酸化・膜質改善技術、ならびに光やプラズマなどさまざまなエネルギーを活用した高付加価値の処理技術を採用しています。
対応領域・製品
- ALD 成膜装置
- BCD (Balance Controlled Deposition) 薄膜成膜技術
- CVD、MOCVD、PECVD、LPCVD 成膜装置
- epitaxy equipment および epi reactors
- 半導体プロセス向け光および plasma エネルギー処理
- 成膜半導体製造装置
- 熱プロセス半導体製造装置
- 組成比制御を伴う高ステップカバレッジ薄膜成膜
- 高アスペクト比構造向け酸化および膜質改善