기본 정보
| 부스 | L0407 |
| 국가 | TW |
| 웹사이트 | www.kanaue.com |
회사 소개
KANAUE APPLIED MATERIAL CORP.는 2007년 4월 창의성, 기술 역량, 풍부한 산업 경험을 갖춘 팀에 의해 설립되었습니다. 초기에는 생산설비용 지그와 치구 제작을 중심으로 사업을 전개했으며, 고객의 장비 개선 프로젝트를 지원하면서 가공물 기술의 기반을 축적했습니다. 표면 검사 장비에 대한 시장 수요를 파악한 뒤 인력, 자금, 시간을 대규모로 투입해 탁상형, 수직형, 휴대형 등 일련의 검사 시스템을 개발했습니다. KANAUE APPLIED MATERIAL CORP.는 반도체, TFT-LCD, LED, 광전자 제조사를 대상으로 장비, 툴링과 예비 부품, 대체 재료, 클린룸 소모품을 설계, 제조, 판매하고 서비스합니다. 전문 팀은 하이테크 산업에서 풍부한 경험을 보유하고 있으며 국내외 고객을 위한 대체 재료 및 장비 개발 프로젝트를 주도해 왔습니다. 대만에는 신주와 타이난에 2개의 자회사를 두고 반도체, TFT-LCD, LED, 광전자 산업 고객에게 신속한 지원을 제공합니다. 회사는 Integrity, Conscientiousness, Unity, Sharing을 핵심 가치로 제시하고 직원의 가치와 사회적 책임도 중시합니다. 차별화된 시스템, 제품, 서비스를 통해 수율 향상, 생산성 향상, 품질 개선, 총소유비용 절감과 같은 장기적인 고객 효과를 제시합니다. 또한 에너지 절감과 탄소 감축을 포함한 환경 활동을 추진하고 고효율·저오염 LND 및 LED 조명을 도입하는 한편, 조명 제품을 통해 더 넓은 소비자 시장 진출도 추진하고 있습니다.
전시 제품
광학 검사 제품군은 AOI 광학 검사, 카메라, 렌즈, 광원, 영상 처리 소프트웨어, 관련 부품, 광섬유, 육안 광학 검사, 광학 측정 장비를 포함합니다. 광원과 램프 제품군에는 할로겐 가열 튜브와 램프, RTP 및 EPI 램프, 제논 램프, 수은 램프, 단아크 및 장아크 수은 램프, 중수소 램프, 저압·고압 나트륨 램프, 메탈할라이드 램프, 스트로브 제논 램프, 무전극 램프, 교정용 광학 표준 램프, 태양광 시뮬레이션 램프, 각종 광학 반사경과 필터, 172 nm 엑시머 램프, 레이저 튜브, 황색광 공정 LED 튜브, 254 nm 살균 램프, 적외선 가열 튜브가 포함됩니다. 취성 재료와 정밀 가공 제품에는 연마 휠, 유리 절단 휠, 양면 연마 주철 플레이트와 캐리어 기어, 진공 세라믹 척, 정밀 세라믹, 사파이어 및 질화알루미늄 기판, 석영 재료, 다이아몬드 금속·수지 결합제 시리즈, 정밀 절단 블레이드, 숫돌, 특수 동축 케이블과 와이어 하니스, 웨이퍼 후면 보호 필름이 포함됩니다. 화학, 정전기, 분진 처리 제품에는 특수가스, 케미컬 필터, 화학액·화학가스 누설 감지, 맞춤형 화학 재료, 연마 슬러리, 정전기 시각화, 분진 시각화, 파티클 카운터, 전기집진기, 침 방전식 및 X-Ray식 이오나이저, 정전기 측정기, 공기 스모그 제거 장비가 포함됩니다. 반도체와 공장 설비 제품군에는 재생 실리콘 웨이퍼, 석영 판재, 도가니, 석영 링과 맞춤형 석영 제품, 석영 투과율 검사, 스마트 스크루, ESG 에너지 절감 Pump, VSP 전압강하 보호장치, ESG 절전 전류 게이너, AOI 플래시 전원 컨트롤러, 웨이퍼 검사 백색광 공초점 장비, Thermal Air Wafer ID Reader, 반도체 히팅 재킷도 포함됩니다. SES-PEGASUS Lamp는 대만에서 제조되는 고출력 할로겐 가열 램프로 반도체 및 산업용 가열 장비에 사용되며, 208V에서 1500W와 2000W 두 가지 출력 사양을 제공하고 진공 챔버와 정밀 공정에 적용됩니다. 강화 석영관과 최적화된 필라멘트는 균일한 적외선 열장과 높은 적외선 변환 효율을 제공하도록 설계되며, 수명은 2000시간 이상으로 제시되고 효율 유지를 위해 500시간마다 석영관 청소가 권장됩니다. 1500W 버전은 소형 챔버 또는 저온 공정에, 2000W 버전은 고온 EPI 및 CVD 공정에 사용되며 제품 페이지에는 열장 균일도 ±1°C도 제시되어 있습니다. 교체 적용에서는 전원 소켓과 사양을 확인하면 AMAT Centura 시리즈의 치수와 인터페이스에 맞는 것으로 설명되며 AMAT 또는 USHIO 램프 대체 용도도 제시됩니다. 구성 시에는 208V 삼상 전원과 SCR 온도조절기의 호환성을 확인하고, 유지보수에는 밝기 저하 모니터링, 실링 상태 점검, 예비 부품 재고, 예방 정비 계획이 포함됩니다. 석영 베이스는 SiO₂ 순도 99.99% 이상의 고순도 석영 유리를 정밀 가공한 길쭉한 평판 구조이며 양 끝의 고정 나사 구멍으로 장비 프레임이나 지지 구조에 체결할 수 있습니다. 장기 사용 온도는 1100°C 이하로 제시되고 매우 낮은 열팽창, 강산·강알칼리·부식성 공정 가스에 대한 내성을 갖춰 고온에서도 치수와 위치 정밀도를 안정적으로 유지합니다. 적용 분야는 반도체 공정 장비 고정 베이스, 광학 부품 지지 기판, 고온 노관 내부 지지 구조, 웨이퍼 위치 결정 및 적재 구조, 정밀기기 위치 결정 기판, CVD 챔버 지지 부품입니다. 길이, 폭, 두께는 물론 장비 도면에 따라 나사 구멍의 위치, 직경, 간격까지 장비 요구에 맞춰 맞춤 제작할 수 있습니다. 선정 시 900°C를 넘는 고온 노관 조건, 부식성 가스나 강산 환경, 일반 고온 지지 용도를 구분해 판 두께와 석영 등급을 확인합니다. 석영 다공판은 SiO₂ 순도 99.99% 이상의 고순도 석영 유리를 사용하며 기본 형상은 맞춤 가능한 원형 판이고, 정밀 천공으로 균일한 배열을 만들며 구경과 구멍 간격을 조정할 수 있습니다. 가스 또는 액체를 균일하게 분산하는 확산판으로 유체를 각 구멍에 균일하게 통과시키며 CVD 가스 분산, 웨이퍼 세정 약액 분사, 확산로 가스 흐름 제어, ALD, 정밀 여과에 사용됩니다. 장기 사용 온도는 1100°C 이하로 제시되며 강산, 강알칼리, 부식성 가스에 대한 내성과 높은 청정도로 공정 가스와 웨이퍼 표면의 금속 이온 오염을 방지하는 용도에 맞습니다. 공정과 챔버 요구에 따라 구경, 구멍 간격, 구멍 수, 판 크기를 맞춤 설정할 수 있고 원형이 아닌 이형 판도 제작할 수 있습니다. 선정은 가스 또는 액체 유량, 판 크기와 형상, 사용 온도, 공정 가스 또는 액체 종류를 기준으로 하며 부식성 가스나 강산 환경에는 고순도 합성 석영이 제시됩니다. 석영 도가니는 SiO₂ 순도 99.99% 이상의 고순도 석영 유리로 제작된 상부 개방형 원통 두꺼운 벽 구조이며 내외벽이 균일하게 연마되어 있습니다. 장기 내열 온도는 1200°C 이하, 단기 내열 온도는 1400°C 이하로 제시되며 급속 승온·냉각 열사이클을 견디는 열충격 저항과 부식성 화학 시약에 대한 내성을 갖습니다. 반도체 실리콘 웨이퍼 단결정 성장, 고온 재료 용융과 정제, 실험실 고온 회화 분석, 귀금속 제련과 정련, 고순도 재료 합성, TGA 시료 용기에 사용됩니다. 여러 표준 용량을 제공하고 필요한 용량, 온도, 재료 순도, 열사이클 조건에 따라 직경, 높이, 벽 두께를 맞춤 제작할 수 있습니다. 반도체 또는 고순도 재료 공정에는 고순도 합성 석영을 선택하고, 급격한 승온·냉각이 잦은 용도에서는 열충격 등급과 벽 두께를 확인하도록 안내됩니다. 석영 벨자르는 SiO₂ 순도 99.99% 이상의 고순도 석영 유리로 만든 반원 아치형 돔 구조이며 상부 중앙에 배관이나 센서를 넣을 수 있는 개구가 있고 내외벽은 정밀 연마된 무광 표면입니다. 균일하고 두꺼운 벽면은 단열과 광 확산을 제공하며 장기 사용 온도는 1100°C 이하, 강산·강알칼리·부식성 공정 가스에 대한 내성이 제시됩니다. 반도체 에피택셜 성장 장비 보호 커버, CVD 공정 단열 커버, 고온 램프 보호 챔버, 웨이퍼 가열 균온 커버, 고온 공정 격리 보호, 확산로 단열 부품에 적용됩니다. 벨자르의 직경, 높이, 벽 두께, 표면 처리, 상부 개구의 직경과 위치는 장비 챔버, 배관, 센서 요구에 맞춰 맞춤 제작할 수 있습니다. 균온 용도에서는 무광 연마 표면이 가열 램프의 복사열을 챔버 내부로 더 균일하게 분산시키며, 광학 투시가 필요한 경우 투명 연마를 선택할 수 있습니다. 석영 웨이퍼 보트는 SiO₂ 순도 99.99% 이상의 고순도 석영 유리를 정밀 가공하고 다단 빗살형 등간격 슬롯과 하부 지지 다리를 사용해 노관이나 장비 챔버 안에 안정적으로 배치합니다. 4인치, 6인치, 8인치, 12인치 웨이퍼에 대응하고 사양에 따라 25~200장을 적재할 수 있으며 배치 요구와 공정 가스 흐름에 맞춰 적재 수량과 슬롯 간격을 맞춤화할 수 있습니다. 장기 사용 온도는 1200°C 이하이며 확산, 산화, LPCVD, 어닐링로에 적용되고 고정된 웨이퍼 간격은 각 웨이퍼가 열과 가스에 균일하게 노출되도록 합니다. 청정도는 반도체 등급, 제로 파티클 오염으로 제시되며 고순도 석영은 웨이퍼 공정 청정도나 박막 품질에 영향을 줄 금속 이온을 방출하지 않는 것으로 설명됩니다. 장기 사용 후 표면이 뿌옇게 변하면 청정도와 공정 품질 유지를 위해 정기적인 산 세정 또는 재연마가 권장되며 석영 보트 세정 및 수리 서비스도 제공됩니다. 석영 윈도는 고순도 합성 석영 유리를 사용하고 원형과 직사각형 두 시리즈, 광학 등급 양면 연마와 높은 평탄도를 제공하며 185 nm 심자외선에서 근적외선까지 높은 투과율을 갖습니다. 낮은 복굴절, 높은 레이저 손상 임계값, 장기 1100°C 이하 내열성을 갖춰 레이저 투과, 분광 분석, 정밀 측정, UV 경화, 반도체 챔버 광학 윈도에 사용됩니다. UV 엑시머와 Nd:YAG 등 고출력 레이저, 편광 민감 광학계, 간섭 측정, 정밀 광학기기 렌즈 기판에도 적용됩니다. 사용 파장에 따라 단층 또는 다층 반사방지 코팅을 표면에 적용해 표면 반사 손실을 줄이고 시스템 투과율을 높일 수 있습니다. 표준 원형과 직사각형 크기 외에 직경, 변 길이, 두께, 모서리 챔퍼, 광학 평탄도, 표면 정밀도를 광학 시스템이나 챔버 인터페이스에 맞춰 맞춤 제작할 수 있습니다. 맞춤형 석영 부품은 고순도 합성 석영 유리 또는 천연 용융 석영을 사용하며 SiO₂ 순도 99.99% 이상으로 이형 부품, 평판, 원형 웨이퍼 캐리어, 다부품 조립체를 제작합니다. 장기 사용 온도는 1100°C 이하, 단기는 1300°C 이하이며 산, 알칼리, 부식성 가스에 대한 내성을 갖춰 반도체 공정, 광학 시스템, 고온 반응 환경에 사용할 수 있습니다. 광학 투과는 UV에서 근적외선까지 이어지며 표면은 광학 등급 연마까지 가능해 광학 및 정밀 검사 용도에 적합합니다. 이형 절단, 천공, 슬롯 가공, 연마를 포함한 맞춤 가공을 제공하며 고객 도면과 2D 또는 3D 형상에 따라 치수와 구멍 배치를 제작합니다. 재료와 마감은 사용 온도, 파장 범위, 형상과 치수, 표면 정밀도에 따라 선택하며 높은 순도나 UV 투과에는 합성 석영, 일반 고온이나 가시광 용도에는 천연 석영을 구분해 적용합니다. 석영 웨이퍼 패들은 SiO₂ 순도 99.99% 이상의 고순도 석영 캐리어로 U자형 포크 구조와 하부 나사 구멍을 통해 로봇 암이나 자동화 장비에 연결됩니다. 4인치, 6인치, 8인치, 12인치 웨이퍼에 맞춤 제작할 수 있고 장기 사용 온도는 1100°C 이하이며 웨이퍼 이송, CVD, 확산로, 산화로 이송, 반도체 자동화 라인에 적용됩니다. 고순도 석영은 정밀 가공과 세정 후 정상 운전 조건에서 금속 이온을 방출하거나 파티클 오염을 만들지 않는 것으로 설명되어 웨이퍼 공정 청정도와 수율을 지원합니다. 패들 치수와 하부 장착 구멍의 위치, 직경, 간격은 장비 인터페이스 도면에 따라 맞춤화해 기존 이송 시스템과 연결할 수 있습니다. 900°C를 넘는 고온로 공정에서는 석영 등급과 벽 두께 설계를 확인하고, 전공정 반도체 용도에서는 합성 고순도 석영이 선정 대상으로 제시됩니다. 적외선 가열 제품은 750 nm부터 1 mm까지를 포괄하며 단파 0.75~1.4 μm, 중파 1.4~3 μm, 장파 3~1000 μm 시리즈와 단관, 쌍관, 3D 윤곽 가열, 모듈, 시스템, 세라믹 반사판 구성을 제공합니다. 석영 쌍관 라디에이터는 약 3초 만에 피크에 도달하고 1~3초 승온·냉각 응답, 50~200 W/cm²의 높은 출력 밀도를 가지며 중간 열전달 매체가 필요 없는 직접 복사 가열로 약 50% 에너지 절감을 제시합니다. 파장은 재료 흡수 특성에 맞출 수 있으며 단파는 유리와 금속, 중파는 플라스틱과 목재, 장파는 식품과 코팅용으로 제시되고 예시는 플라스틱 1.8 μm, 잉크 2.5 μm, 유리 1.2 μm입니다. 세라믹 반사판은 Al2O3 기판을 사용하며 0.8~5 μm에서 반사율 98% 초과, 1400°C에서도 변색되지 않는 내열성을 제시하고 90% 초과 에너지 이용률과 집중·균일 가열을 지원합니다. 선정 시 50~2000 mm 튜브 길이, 출력 밀도, 반사판 조합, 주변 온도를 50°C 미만으로 유지하는 환기, 파장에 따라 3000~10000시간으로 제시되는 예상 수명도 확인합니다. 대표 적용은 잉크 건조, UV 코팅 예열, 열성형과 용접, 필름 건조, 유리 경화이며 인쇄와 플라스틱 공정에서 빠른 직접 가열과 더 깊은 열 침투가 모두 필요하면 IR과 열풍 조합이 제안됩니다. ARTCAM-487UV는 Sony Semiconductor Solutions의 IMX487 CMOS 이미지 센서를 사용하는 고감도 산업용 UV 카메라로 200~400 nm 자외선 범위를 다루며 가시광이 부족한 대상에서 저노이즈 고화질 영상을 제공합니다. IMX487은 2.74 μm 픽셀 크기와 2/3인치 센서 포맷급에서 가장 높은 유효 픽셀 수를 갖는 것으로 설명됩니다. 적용 분야는 반도체 검사, 재료 선별, 미세 스크래치와 표면 불규칙 검출, 인프라 검사, 생명과학 연구입니다. 기존 머신비전 시스템, 영상 소프트웨어, 생산 라인과 통합할 수 있고 렌즈, 광원, 필터와 조합해 완전한 UV 광학 검사 구성을 만들 수 있습니다. 선정 시 200~400 nm 유효 파장, 결함 크기와 해상도, 재료 및 조명 특성, 작업 거리, 시야, 설치 공간, 기존 소프트웨어나 장비 환경과의 호환성을 확인합니다.
역량 및 제품
- 생산 설비 지그·치구 제작
- 탁상형·직립형·휴대형 표면 검사 장비
- AOI 자동 광학 검사
- 육안 광학 검사
- 광학 측정 장비
- 영상 처리 소프트웨어
- 할로겐 가열 램프
- RTP 램프
- EPI 램프
- 제논 램프
- 수은 램프
- 중수소 램프
- 교정용 광학 표준 램프
- 태양광 시뮬레이터 램프
- 172nm 엑시머 램프
- 254nm 살균 램프
- IR 가열 램프 튜브
- 유리 절단 휠
- 진공 세라믹 척
- 사파이어 기판
- 질화알루미늄 기판
- 정밀 절단 블레이드
- 화학 액체 누출 감지
- 화학 가스 누출 감지
- 맞춤형 화학 소재
- 연삭·연마 슬러리
- 분진 입자 계수기
- 정전 집진기(EPF)
- 정전기 제거기
- 재생 실리콘 웨이퍼
- 석영 투과율 검사
- 웨이퍼 백색광 공초점 검사 장비
- Thermal Air Wafer ID Reader
- 반도체 히팅 재킷
- 석영 베이스 맞춤 가공
- 석영 다공판 맞춤 가공
- 석영 도가니 맞춤 가공
- 석영 벨자 맞춤 가공
- 석영 웨이퍼 보트 맞춤 가공
- 석영 웨이퍼 보트 세정·수리
- 석영 윈도 맞춤 가공
- 석영 윈도 반사방지(AR) 코팅
- 맞춤형 석영 절단·천공·슬로팅·연마
- 석영 웨이퍼 패들 맞춤 가공
- 750nm–1mm 적외선 가열 시스템
- 200–400 nm 산업용 UV 카메라